استناداً لهذه الفقرة، ارجو تقديم قائمه من العمليات المستخدمة لإعداد مواد شبه موصلة للدوائر المتكاملة.
Context:به مزيج من العمليات تستخدم لإعداد مواد شبه موصلة لـ ICs. واحد من العمليات يسمى الاكسدة الحرارية، والذي يشكل ثاني أكسيد السيليكون على سطح السيليكون. هذا يستخدم كمعزل بوابة و أكسيد حقل. عمليات اخرى تسمى فوتوماسك وفوتوليتوغرافي. هذه العمليه هي اللي تخلق النماذج على الدائرة في الدائرة المتكاملة. يستخدم الضوء فوق البنفسجي مع طبقة مقاومة للضوء لخلق تغيير كيميائي يخلق الأنماط للدائرة.  الحفر هو العملية التالية المطلوبة. الجزء من السيليكون الذي لم يغطيه طبقة المقاومة للضوء من الخطوة السابقة يمكن الان ان يطبع. العملية الرئيسية المستخدمة عادة اليوم تسمى حفر البلازما. حفر البلازما عادة يتضمن غاز حفر يضخ في غرفة ضغط منخفض لخلق البلازما. الغاز الشائع هو الكلوروفلوروكربون، أو المعروف بشكل عام كالفريون. فولتيه تردد راديوي عاليه بين الكاثود والأنود هو ما يخلق البلازما في الغرفة. الويفر السيليكوني موجود على الكاثود، والذي يسبب له ان يضرب من الايونات المشحونة بشكل ايجابي والتي تطلق من البلازما. النتيجة هي السيليكون المخطوط بشكل غير متجانس.  العمليه الاخيره تسمى بـ "التوزيع" هذه هي العملية التي تمنح المادة شبه الموصلة خصائصها شبه الموصلة المطلوبة. هو معروف ايضا باسم المنشطات. هذه العمليه تعرض ذرة غير نقيه للنظام، والتي تخلق تقاطع p<unk>n. ليحصلوا على الذرات الغير نظيفة مدمجة في شرائح السيليكون، الشرائح تُوضَع أولاً في حجرة حرارة 1100 درجة مئوية. الذرات تُحقن وتنتشر مع السيليكون في النهاية. بعد ان تكتمل العمليه و يصل السيليكون الى درجة حرارة الغرفة، تكتمل العمليه و يكون المادة شبه الموصلة جاهزة للاستخدام في الدائرة المتكاملة.
أكسدة حرارية -فوتو ماسك/فوتوليتو غرافيا حفر (بالبلازما في الغالب) -نشر/منشطات