Debates Parlamentares - Diário 130, p. 52 (2010-08-02)
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52 | II Série A - Número: 130 | 2 de Agosto de 2010
Correcção para exposição repetitiva Cada uma das três regras gerais seguintes deverá ser aplicada a todas as exposições repetitivas decorrentes de sistemas laser de impulsos repetitivos ou de varrimento.
1. A exposição resultante de um impulso único de uma série de impulsos não deve exceder o valor limite de exposição de um impulso único com essa duração de impulso.
2. A exposição resultante de um grupo de impulsos (ou subgrupo de impulsos numa série) emitidos no tempo t não deve exceder o valor limite de exposição para o tempo t.
3. A exposição resultante de um impulso único num grupo de impulsos não deve exceder o valor limite de exposição de um impulso único multiplicado pelo factor de correcção térmica cumulativa Cp=N-0,25, em que N é o número de impulsos. Esta regra aplica‑ se apenas a limites de exposição para protecção contra lesões térmicas, em que todos os impulsos emitidos em menos de Tmin são tratados como um único impulso.