Kulingana na kifungu hiki, tafadhali toa orodha ya bullet-point ya michakato kutumika kuandaa vifaa semiconductor kwa nyaya jumuishi (ICs).
Context:Kuna mchanganyiko wa michakato ambayo hutumiwa kuandaa vifaa semiconductor kwa ICs. Hatua moja inaitwa oksidi ya joto, ambayo hutokeza dioksidi-silizi juu ya uso wa silizi. Hii ni kutumika kama mlango insulator na uwanja wa oksidi. Mbinu nyinginezo huitwa photomasks na photolithography. Utaratibu huu ni nini inajenga mifumo kwenye mzunguko katika mzunguko jumuishi. Nuru ya ultraviolet hutumiwa pamoja na safu ya photoresist kuunda mabadiliko ya kemikali ambayo hutengeneza mifumo ya mzunguko.  Hatua inayofuata inahitajiwa ni kuchonga. Sehemu ya silicon ambayo haikufunikwa na safu ya photoresist kutoka hatua ya awali sasa inaweza etched. Mbinu ya msingi inayotumiwa leo inaitwa kuchonga kwa plasma. Kwa kawaida etching ya plasma huhusisha gesi ya etch inayopiga katika chumba cha shinikizo la chini ili kuunda plasma. Gesi ya kawaida ya kuchoma ni klorofluorocarbon, au Freon inayojulikana zaidi. Voltage ya mawimbi ya redio ya juu kati ya katodi na anodi ndiyo hufanyiza plasma katika chumba hicho. Wafer ya silicon iko kwenye cathode, ambayo husababisha kugongwa na ions positively kushtakiwa kwamba ni iliyotolewa kutoka plasma. Matokeo ni siliki ambayo imechongwa kwa njia isiyo ya kawaida.  Utaratibu wa mwisho huitwa usambazaji. Hii ni mchakato ambayo inatoa vifaa semiconducting mali yake semiconducting taka. Pia inajulikana kama kutumia dawa za kulevya. Utaratibu huu huingiza atomu isiyo safi katika mfumo, ambayo huunda mchanganyiko wa p<unk>n. Ili atomu zisizo safi ziingizwe kwenye kipande cha silikoni, kwanza kipande hicho huwekwa kwenye chumba chenye joto la digrii 1,100 Selsiasi. Atomu huingizwa ndani na hatimaye kuenea pamoja na silicon. Baada ya mchakato ni kukamilika na silicon imefikia joto la kawaida, mchakato doping ni kufanyika na vifaa semiconductor ni tayari kutumika katika mzunguko jumuishi.
- Oksidi ya joto -Photomasks/photolithography - Kuchora (hasa kuchora kwa plasma) -Diffusion/doping