Dǎɣ santo ən tabarat ten, alil alil alil ən tabarat tatiwətkalen ye iji ən haratan ən təzunawen ye iritan artaynen (IC).
Context:Ille asirtay n timitikwayen ti axdam nen i asiwad n isuj n semiconductor i ICs Təmusne iyat eqal atiwaɣran oxydation thermique, wa itagan dioxyde ən silicium fal afala ən silicium. Awen eqal amitkalan sund isisuhu ən tabarat əd oxide ən ahanay. Timkarawen tiyyad s itawan fotomask tan d photolithography Təmusne ten taqal awa igan təmuzuyen fal əmik ən əmik dǎɣ əmik ən təmotayen. Aɣeš ən ultraviolet eqalan amitkalan dər təbiɗawt ən fotorésist fal igi ən asimutiy ən chimique wa itagan əmik ən əmik wan circuit.  Aɣazan eqal tabarat taqalat atilan. Taɣrəmt ən silisium wǎr eqel ayktaban fal təbiɗawt tan fotorésist dǎɣ edag wa dazarnen adobat amaradǎɣ adiqilan adigmadan. Təmusne ta togarat amitkalan ešalidǎɣ eqalan asitawan etching ən plasma. Aɣazan ən plasma eqalan agudiyan ayhan gaz ən aɣašad aqiman dǎɣ ehan wan ɗlasme fal igi ən plasme. Gas n etch oharan eqqal chlorofluorocarbon meɣ Freon Voltage n radio n iddikud chajren jir cathode d anode eqqal wa id eɣna plasma daɣ ehan Wafer wan silicon eqqal fal cathode eqqalan a id eqqalan a id ifalan ions id ijjanen azilzam n plasma Awen eqqal silicon eɣnan anisotropically  Təmusne tan samando eqal atiwaɣran dǎɣ asimutiy. Awen eqqal tamatikwayt ta taj i asuj wan semiconductor tilaten net tin semiconductor Atiwazay deɣ sund doping. Təmusne tatiwagazat ən atome winan eqel aridan dǎɣ əmik, wa iganen asikin p<unk>n. I ijji n atom tan war n oɣed daɣ silicon wafer, wafer ezzaran ijjan daɣ ehan n 1,100 degre Celsius Atom tan ijjewan daɣ tolas s alwaq iyyan issewadan s silicon Darat amukin ən əšiɣil əd silisiəon eqalan aygašan ehandag, əšiɣil wan dopage eqalan ayknan əd lalan wi namas ən təwaƭ aqalan ayknan adiqilan amitkalan dǎɣ əšiɣil ən tabarat tawanhayat.
-Oxidation tan thermique -Photomask tan/photolithography - Etching (hullan etching wan plasma) -Alzamagat/addobat ən assərtay