Can you summarize the following document?
        
  在1978年,已有第一個突破阿貝極限的理論,其試圖透過4Pi 顯微鏡來當作共軛焦鐳射掃描螢光顯微鏡。其原理利用兩個相反的物鏡的透光,同時打在樣品的異側,以增加立體角。

  

  近場光隨機測繪(NORM)顯微鏡是一種透過觀察在浸液中的奈米粒子的布朗運動,並透過遠場顯微鏡光學採集奈米粒子的近場資訊。  NORM利用隨機移動的奈米粒子來掃描物體表面。透過這個顯微鏡,奈米粒子看起來像對稱的圓點。圓點的寬度等於點擴散函式,並決定顯微鏡的解析度。特定粒子的水平座標解析度比同等光學顯微鏡的解析度還要高。透過收集多張影像,我們可以劃出整個視野範圍的近場的強度分佈圖。 與NSOM和ANSOM比較,這種方法不需要任何特殊的尖端定位裝置,並可以達到大視野和深焦長。 由於"感測器"可以大量掃描,影象獲取時間可以縮點。

  一 4Pi顯微鏡是一個鐳射掃描的熒光顯微鏡,其改進了軸向解析度。從傳統的500至700 奈米可以提高到100-150 奈米,比標準的 焦顯微鏡幾乎減少5至7倍的球焦點體積,.  透過同時將兩個反向的物鏡聚焦在同一個位置上可以提軸向的解析度。且調整通過物鏡的兩道光的光程差,使其最小。透過這個方法,在兩物鏡共同聚焦處的分子可以被相干地照亮,且可以收到相干地反射光或是穿透光,例如:偵測器可以接收到發射光地相干疊加。用於照明與偵測的體角 formula_1也增加並接近理想狀態(樣品同時照射和檢測到來自各方向的光)。  在圖中顯示4Pi顯微鏡的操作模式。 鐳射由一分光鏡 (BS)分光並透過鏡子打在兩個相反的物鏡。在共同焦點處,兩道聚焦光束會疊加。 激發的分子在這個位置發出熒光,且被兩個物鏡收集,由同一分光鏡收集,最後被分色鏡 (DM)偏折至接收器。  在理想情況下,每個物鏡可以收集立體角 formula_2的光線。 因此,有兩個物鏡可以收集所有方向方向的光(立體角 formula_3)。 名此顯微鏡也是得名於其最大可激發和偵測光的角度。實際上,物鏡最多隻可達到約140°的孔徑角,其對應 formula_4。
在光學顯微鏡學中,超高解析度顯微鏡學是一結合多項技術的專有名詞,此技術讓影像解析度能超越繞射極限。根據1873年恩斯特·阿貝的研究(特別是對於寬場光源),光的繞射會造成傳統光學顯微鏡解析度的極限:一數值孔徑N.A.,且入射光波長為λ的具繞射極限的顯微鏡的水平解析度為d = λ/(2 N.A.),垂直解析度(z方向)也可以用同樣的表示式給出。一個標準的光學顯微鏡解析度在可見光範圍約為水平200奈米、垂直600奈米。實驗上,可達到的解析度可量取點狀物體的點擴散函式的半峰全寬求得。雖然顯微鏡的解析力並未完整定義,目前公認超高解析度顯微鏡技術可達到比阿貝所定義的解析度。