Can you summarize the following document?
        
  拉夫(Ruff)和克魯格(Krug)在1930年氟化氯氣並報告發現了這種物質。這個反應也生成一氟化氯,可以通過蒸餾使其分離。 ClF 形狀大致是T形, 有一個短鍵 (1.598 Å) 和兩個長鍵 (1.698 Å).,孤對電子佔據兩個赤道位置,與共價鍵一起形成一個三角雙錐。這種結構與價層電子對互斥理論的預測一致。較長的Cl-F鍵與超價鍵一致.  純淨的ClF在180°C以下的玻璃容器中是穩定的,一旦超過這個溫度就會通過自由基反應分解。  ClF主要用來生產六氟化鈾(UF),以及核燃料加工和後期處理,主要反應方程式:

  ClF是一種很強的氧化劑、氟化劑。它能與大多數無機物、有機物甚至塑料反應,可以使許多材料不接觸明火就燃燒。這些反應通常很劇烈,在某些情況下甚至會爆炸。它與一些金屬反應生成氯化物和氟化物,與磷反應生成三氯化磷和五氟化磷,而與硫反應生成二氯化硫和四氟化硫。 ClF也與水劇烈反應,水解產生有毒物質,例如氟化氫。HS在室溫下與ClF混合就會爆炸。  超過氧氣的氧化性使ClF能腐蝕通常視為不可燃的含氧材料。在一起工業意外中,900千克ClF洩漏,燒穿了下面30釐米厚的混凝土和90釐米厚的礫石. 任何和三氟化氯接觸的裝置必須經過仔細挑選和清潔, 因為任何汙染都可以燒穿鈍化膜,使它來不及重新生成。

  三氟化氯已經發展成火箭推進劑的高效能可儲存氧化劑。然而一些處理上的問題使它受限,約翰·D·克拉克在其著作《Ignition!: An informal history of liquid rocket propellants》中闡述了以下困難:

  在半導體工業中,三氟化氯被用於清潔化學氣相沉積的反應艙。 它具有不需拆卸反應艙就可以清除艙壁附著的半導體物質這一優點。 與其它代替的清潔劑不同,三氟化氯在使用前不需經過等離子體激化,因為反應艙殘存的熱量就足以使它分解並與半導體材料反應。
三氟化氯是無機化合物,分子式為ClF。這種物質氣態時為淡黃色,有毒,有強腐蝕性,液態時為黃綠色,一般將其壓縮成液體銷售。該物質主要的用途是火箭燃料,半導體行業中清洗和蝕刻, 核反應堆加工燃料, 以及一些其他用途。