Per valutare la struttura del legame chimico all'interno del materiale di rivestimento, è stata condotta un'analisi FTIR sul film di a-SiO x depositato sul substrato di Si ed i cui risultati sono mostrati nella figura 1. In accordo con la letteratura 210 , il picco di assorbimento più forte, che si nota a circa 1065 cm -1 , può essere dovuto all'eccitazione per lo stiramento dei legami chimici Si-O, mentre il picco a 875 cm -1 è più probabilmente dovuto alle vibrazioni del legame Si-O. Un terzo picco può essere notato a 1200 cm -1 ed è legato a quello più intenso a 1065 cm -1 : questo terzo picco è probabilmente dovuto alle vibrazioni del legame tra N-H ed è spesso osservato nei film di a-SiO x e a-SiO x N y formatisi grazie al PECVD.La sua presenza non è sorprendente a causa dell'uso di N 2 O come precursore dell'ossigeno. Mentre l'N 2 O è preferibile all'O 2 poiché l'ossigeno reagisce esclusivamente col silano, esso può dar origine all'incorporazione di alcune particelle di azoto nella struttura del film. Inoltre l'uso come precursori di crescita di ibridi come il silano solitamente dà luogo all'incorporazione di alcune molecole di idrogeno e ciò può essere aumentato dalla deposizione a basse temperature, poiché il rilascio di idrogeno dal film dipende dalla temperatura.La figura 2 mostra i risultati degli studi sulla ruvidità superficiale eseguiti su materiali di rivestimento vergini e rivestiti da a-SiO x : ciascuna barra mostra le media di 5 scansioni condotte sulla stessa regione del campione e l'incertezza è stata stimata a metà della massima deviazione tra le medie. Sia i substrati microcompositi che quelli ceramici mostrano una superficie molto ruvida, con valori di ruvidità (rms) in eccesso di 400nm per i microcompositi e 1400nm per i ceramici. La presenza del rivestimento in a-SiO x non evidenzia alcun cambiamento sostanziale di queste caratteristiche superficiali: questo risultato non è sorprendente poiché lo spessore del film è dello stesso ordine di grandezza del valore della ruvidità. Fig. 2 Comunque la deposizione di uno strato più spesso di a-SiO x non è consigliabile poiché lo stress del film è generalmente maggiore con l'aumentare dello spessore e può essere origine di problemi di adesione o di esfoliazione del film. I film depositati per questa ricerca non hanno dato segni di esfoliazione, sebbene una stima quantitativa della forza di adesione debba ancora essere misurata in modo definitivo. I risultati degli studi sull'energia superficiale sono riportati nella figura 3: ciascuna barra mostra la media di 7 misurazioni condotte sullo stesso campione.La deviazione massima tra le misurazioni è minore di 1°, risultando troppo bassa per essere mostrata nel grafico. Fig. 3 La figura 4 (a-c) mostra le immagini della forma delle gocce d'acqua sulla superficie dei campioni dei materiali dentali prima e dopo la deposizione del rivestimento in a-SiO x ; la mancanza di ruvidità dei campioni è una conseguenza della pulizia meccanica effettuata sui materiali dentali. Tutti i materiali dentali considerati hanno mostrato un comportamento idrofobico, con un angolo di contatto sempre maggiore di 90°, mentre le misurazioni condotte sui campioni rivestiti hanno evidenziato una superficie altamente idrofilica, con un angolo di contatto che era sempre inferiore al limite di osservazione dello strumento (10°).Le misurazioni sono state effettuate un paio di giorni dopo il procedimento di deposizione e non sono state ripetute per valutare la presenza di effetti dovuti al tempo.Fig. 4 Le figure 5a e 5b mostrano i risultati dei test di adesione batterica condotti sul materiale dentale Gradia: il numero di batteri (S. mutans) adesi è chiaramente ridotto dopo la deposizione dello strato di a-SiO x . Poiché non vi è evidenza di alcun cambiamento della ruvidità superficiale dopo il rivestimento del materiale dentale, mentre si è evidenziato un considerevole aumento dell'energia di superficie per tutti i campioni testati, sembra probabile che la riduzione dell'adesione batterica sia correlata a quest'ultimo effetto. Questa considerazione è in accordo coi risultati della letteratura sull'adesione batterica ai materiali dentali idrofobici 211 , evidenziando che i batteri idrofobici come S. mutans mostrano un'adesione più elevata su superfici idrofobiche rispetto a quelle idrofiliche.Fig. 5 7. Conclusione Sono stati depositati dei film sottili di ossido di silicio amorfo (a-SiO x ) su diversi tipi di materiali dentali (microcompositi e ceramiche) e sono stati studiati alcuni effetti del rivestimento su alcune superfici. Tali studi hanno evidenziato come la ruvidità superficiale non veniva modificata dal procedimento di ricopertura, mentre è stato riscontrato un notevole cambiamento nell'angolo di contatto, tra più di 90° e meno di 10°. I test di adesione batterica hanno dato dei risultati incoraggianti a favore dell'efficacia del rivestimento di a-SiO x sulla riduzione dell'adesione batterica sullo strato di rivestimento superficiale e questa variazione di sopravvivenza è considerata essere in relazione al cambiamento dell'energia di superficie.In conclusione, l'a-SiO x mostra alcune proprietà favorevoli per il miglioramento delle performance delle protesi dentali, meritevoli di ulteriori approfondimenti. • Gottenbos B, Busscher HJ, van der Mei HC, Nieuwenhuis P. Pathogenesis and prevention of biomaterial centered infections. J Mat Sci 2002; 13: 717-722.• Gottlander M, Albrektsson T, Carlsson LV. A histomorphometric study of untreaded hydroxyapatite-coated and titanium-coated implants in rabbit bone. 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