Some Investigations on the Anisotropy of the Chemical Etching of<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" id="E1"><mml:mrow><mml:mo>(</mml:mo><mml:mrow><mml:mtext>h k 0</mml:mtext></mml:mrow><mml:mo>)</mml:mo></mml:mrow></mml:math>and<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" id="E2"><mml:mrow><mml:mo>(</mml:mo><mml:mrow><mml:mtext>h h I</mml:mtext></mml:mrow><mml:mo>)</mml:mo></mml:mrow></mml:math>Silicon Plates in a NaOH 35% Solution. Part III: Determination of a …
Active and passive electronic components