1984 ఆగష్టు 8న స్టీరియో లితోగ్రఫి ఫాబ్రికేషన్ సిస్టమ్ కోసం యు.వి.పి, ఇంక్‌కు, ఆ తర్వాత 3డి సిస్టమ్స్‌కు చెందిన చక్ హల్ కు కేటాయించిబడిన యూ.ఎస్. 4575330 అనే పేటెంట్ ఫైల్ చేయబడింది, అందులో అవరోధాలను దాటే రేడియేషన్, నిరంతర అణు దాడి, రసాయన ప్రతిచర్య లేదా కేవలం అతినీలలోహిత కాంతి లేజర్‌లతో ఫోటోపాలిమర్‌లను మెరుగుపరచడం ద్వారా విడి రేకులు లేదా పొరలు జోడించబడతాయి.