sputtering
Sputtering, (eng., vist afledn. af nederl. sputteren 'spytte, sprutte'), forstøvning, erosion af et materiales overflade under partikelbeskydning. Effekten, der blev opdaget i 1853 af den britiske fysiker William Robert Grove (1811-96) som "kold fordampning" af en platinkatode i et gasudladningsrør, har vist sig at være til stede overalt, hvor materialer udsættes for partikelstråler. Som eksempler kan nævnes himmellegemer og rumfartøjer, der udsættes for stråling fra verdensrummet, metalfolier, der bruges i kernefysiske forsøg ved en accelerator, og væggen i en fusionsreaktor (se fusionsenergi), der omslutter et højtemperaturplasma.
Sputtering er en atomar proces, idet den enkelte partikel, fx en ion med en energi fra ca. 50 eV og opefter, giver anledning til, at et antal atomer eller molekyler som følge af elastiske eller uelastiske stødprocesser "spyttes ud" fra materialets overflade. Dette antal, det såkaldte sputterudbytte, afhænger primært af materialet, partikeltype og -energi samt af geometriske forhold. Der er målt udbytter på op til flere tusinde atomer for hver indskudt partikel. Høje udbytter måles især fra visse grupper elektrisk isolerende materialer.
Industrielt anvendes sputtering bl.a. til kontrolleret pådampning af tynde film, når almindelig fordampning ikke er mulig eller hensigtsmæssig, fx ved fremstilling af refleksruder, antireflekslag og farvefiltre. I videnskabelig sammenhæng bruges effekten især til kontrolleret ætsning pga. dens gode dybdeopløsning.