Über den statischen Regelfaktor der menschlichen Pupille
SummaryThe static regulation factor of the pupil servosystem in man, as dependent on the intensity of the light-stimulus, was calculated. Data were collected from own experiments, in which the whole field of view of one eye was homogeneously illuminated by white light. For these calculations the author developped a suitable definition of the regulation factor, using ordinary and partial differential quotients. The optimum of the regulation factor was found to be 2/3 at a luminance of 200 abs, i.e., at this point 1/3 of the slight variations in light intensity are compensated.
Über den Einfluß sinusförmiger Leuchtdichteänderungen auf die Pupillenweite
ZusammenfassungDie Änderung der Pupillenweite auf sinusförmige Leuchtdichteänderungen wurden unter dem Gesichtspunkt des Regelkreises betrachtet. Es wurde eine Frequenzgang-Untersuchung am geschlossenen und aufgeschnittenen Regelkreis durchgeführt. Dabei wurde das Amplituden-und Phasen-Verhalten am geschlossenen und aufgeschnittenen Regelkreis untersucht. Es ergab sich, daß es sich um einen Proportional-Regler handelt. Der Regelfaktor betrug ca. 0,5 so daß Beleuchtungsstärken-Änderungen auf der Netzhaut nur zu etwa 50% ausgeregelt werden. Die Regelgüte des Reglers bleibt bis zu 0,8 Hz bei sinusförmigen Leuchtdichteänderungen erhalten, zwischen 0,8–2 Hz verschlechtert unkoordiniertes Verhalten des Reglers den Blendschutz so stark, daß das 9 fache der Lichtmenge die Netzhaut trifft, die bei starrer Pupille auffallen würde. Bei Frequenzen der Belichtung über 2 Hz verhält sich die Pupille nahezu starr.
Submicron polymer structures with X-ray lithography and hot embossing
This article describes the process chain for replication of submicron structures with varying aspect ratios (AR) up to 6 in polymethylmethacrylate (PMMA) by hot embossing to show the capability of the entire LIGA process to fabricate structures with these dimensions. Therefore a 4.7 μm thick layer of MicroChem 950k PMMA A11 resist was spin-coated on a 2.3 μm Ti/TiOx membrane. It was patterned with X-ray lithography at the electron storage ring ANKA (2.5 GeV and λc ≈ 0.4 nm) at a dose of 4 kJ/cm3 using a Si3N4 membrane mask with 2 μm thick gold-absorbers. The samples were developed in GG/BDG and resulted in AR of 6–14. Subsequent nickel plating at 52°C resulted in a 200 μm thick nickel tool of 100 mm diameter, which was used to replicate slit-nozzles and columns in PMMA. Closely packed submicron cavities with AR 6 in the nickel shim were filled to 60% during hot embossing.