先進的技術でニーズに高次元で応える。アドバンエンジが最も得意とする製品群です。日々アップデートされていくニーズに、50年以上の経験と実績、そして先進的技術でお客様のニーズに高次元でお応えします。ここでは代表的な製品をご紹介させていただきますが、当社ではオーダーメイドな製作に力を入れております。ご要望をお聞かせいただければ、お客様それぞれの環境・要件に合った製品のご提供が可能です。真空加熱、N2・Arガスでの減圧~常圧加熱、各種プロセスガスの使用など、多様なニーズに対応するオーダーメイド仕様の真空炉を提供いたします。MAX2000°C及び常圧ガス雰囲気MAX2500°Cの高温域まで昇温可能となり、新素材等さまざまな熱処理に対応可能。炉内を加熱室上下2ゾーンに分割し黒鉛ヒーターにて加熱、制御することで温度分布精度を向上させます。外部ガス強制冷却及び熱交換器のオプションにより冷却時間の短縮が可能となります。大気に触れず連続バッチ処理することができる縦型炉です。真空置換室を配置し無酸化で連続生産できる連続炉です。処理製品に応じて2000°C以上の高温仕様も設計可能です。1バッチ積載重量は最大100トンまでの実績があります。向上や、シール部からの熱漏れによる変形の防止などの工夫を盛り込み、お客様の要求仕様に合わせて専用設計にて製作いたします。しての基本性能は言うまでもなく、前後搬送装置も含めてトータルな自動生産設備としてまとめ上げられるのがアドバンエンジの強みです。搬送方法は製品形状に応じてローラーハース、メッシュベルト、ウォーキングビーム、トレープッシャーなど多彩な実績があります。サイクルとなり、生産効率とエネルギー効率の悪さがネックでした。ダブル加圧式ホットプレスは、加熱室・冷却室を独立させることにより、各工程の処理条件変更の待ち時間を大幅に短縮します。先行ワーク処理中に次のワークの処理条件を準備することができるので、処理条件の異なるワークの連続条件変更を短時間で可能とし、多品種小ロットの生産に効果を発揮します。H2ガスをパージし、装置全体の高いシール性能と合わせてワークの酸化を防止します。●ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。●熱源はSiCヒーターを採用し温度分布性能の向上を図ります。半導体の製造工程で使用される石英ガラス製品のアニール炉には、より汚染の少ないクリーンな性能が求められます。弊社の石英ガラス高純度アニール炉は不純物を低減した高純度セラミックスファイバーを断熱材としてライニングし、更に炉体をオールステンレス製とすることで、アニール工程における石英ガラス製品の表面汚染を大幅に減少させることが可能です。ファンで熱風を均一に撹拌し、200°C~400°C程度の比較的低い温度域でも有効エリア内で±2°C以内の温度精度を実現します。クリーン度が求められる製品向けにはウォーキングビーム搬送を採用し、駆動部、摺動部から発生するコンタミも極力低減します。採用に関するお問い合わせはこちらから。情熱と探究心のある人、歓迎します。製品・サービスに関することなど、お気軽にお問い合わせください。Cookieポリシーこのサイトに記載されている社名・商品名は各社の商標または登録商標です。商品内容や構成については、予告なく変更する場合があります。承諾の設定をリセット当サイトでは、お客さまの利便性向上を目的としてCookie(クッキー)を使用しています。