本装置はMBE成膜装置に取り付け、膜成長過程における試料の反射率をモニターする装置です。半導体レーザーを試料に照射し、反射した光をホトダイオードで検出、その反射率をパソコンに取り込み、反射率の変化をリアルタイムで表示できます。その反射率曲線から試料の膜厚を評価できます。反射率モニターは以下のユニットから構成されます。反射率モニター装置は以下の機能と仕様を有しています。試料を照射するレーザー光源として出力数mW、波長600~700nmの半導体レーザーを用います。波長および出力強度の変動を最小限にするためレーザーは25度Cに温度制御します。レーザー光は光学系により平行光束とし試料に照射します。試料の反射率を求めるための参照光をミラーにより検出系に導入します。このミラーは測定中レーザー光路外にあり、参照光強度を求めるときに光路中に導入されます。反射光を集光し、検出系に集光導入します。試料からの反射光および参照光強度をホトダイオードで受光し検出します。5)信号取り込み制御及び膜厚解析ソフト(ノートPC)検出系で検出された信号は増幅され、USBケーブルを介してノート型パソコンに取り込まれます。取り込まれた信号は参照光と比較し、反射率として時間軸に対してプロットします。反射率曲線はリアルタイムで表示します。得られた反射率曲線から現在の膜圧を評価することができます。本装置はMBE成膜装置の下部フランジに取り付け、容易に着脱可能です。開発・試作|フォトサイエンス。