半導体の微細化に不可欠なEUV露光(リソグラフィ)技術、およびレジスト材料(感光性樹脂)について詳細に解説して頂くことによって、関連業界の方々の今後の事業に役立てていただくことを目的とします。9:55~16:00★Webセミナー(Zoomウェビナーによるライブ配信)として開催いたします。会場での受講はありません。※各講演時間に質疑応答(5分程度)を設けます。※お申込みの詳細は、プログラムの下部をご参照ください。半導体デバイス発展とリソグラフィの位置づけ、半導体パターン微細化に伴うリソグラフィ用露光方式の進化の流れを、専門外の方々にもわかりやすく説明する。露光装置についての定性的理解を深めてもらう。パラメータと露光波長の寄与について数式を用いて詳しく解説し、専門の方には計算の仕方の基礎を、専門外の方には計算結果の意味するところを理解してもらう。多層膜ミラーを用いた反射光学系を含むEUV露光装置の特徴について説明する。半導体、LCD等の電子デバイス製造では、成膜、パターン作製(レジスト塗布、露光、現像)、エッチング、レジスト剥離、洗浄等のプロセスを複数回繰り返すことにより、基板上に微細素子がパターンニングされたトランジスタが形成される。これらの工程はリソグラフィー工程と呼ばれ、おおよそ20回から30回繰り返されることになる。)ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説する。元デバイスメーカーにいた者の視線で、レジストメーカーに原料を提供する素材メーカーにおけるレジスト評価法の具体的な手法について丁寧に解説したい。弊社宛てに送信もしくはFAXお願い致します。申し込み書受領後、請求書をお送りします。(メール送信または郵送)またWebセミナーの視聴方法について詳細をご案内いたします。□お支払い請求書に記載されている弊社指定口座に、請求日の1ヶ月以内にお振込みをお願い申し上げます。□キャンセル開催日の11日前まで:無料にてキャンセルする事が出来ます。受講者数が規定に達しない場合中止する場合があります。サイトポリシーサイトマップ当サイトでは利便性や品質向上のため、Cookieを使用することを推奨しています。利用する場合は同意するを選択してください。同意をしない場合は、一部機能がご利用できません。詳細はこちら同意する拒否するTOPへ戻る。