製造プロセスにおける局所空間のケミカル汚染(分子状汚染物質)状況の把握と清浄度管理を支援いたします。歩留まり向上には製造装置内部や、輸送・保管環境の清浄度管理が必要です。局所空間のケミカル汚染状況の把握には対象空間に曝露した基板表面の付着物を評価する基板曝露法と、空間ガスを評価するガス捕集法の併用をご提案します。特長1装置内、FOUP、ウェーハケース、マスクケースなど多様な局所空間の評価に対応できます。2基板曝露法とガス捕集法を併用して基板表面に付着しやすい成分を特定することができます。ガス捕集法を併用することにより基板表面へ吸着しやすい成分の特定ができます。ガス捕集法の測定結果から空間には低沸点成分が多く存在し、高沸点成分がほとんど確認されませんでした。基板曝露法では高沸点成分が多く基板に付着しており空間濃度の高い成分が必ずしも基板への付着量が多い結果にはならないことがわかります。サンプラー“BremS®”及び“FasiliS®”を用いた半導体製造環境の清浄度評価法お問い合わせ分析・測定や商品、コンサルティングなどのサービスに関するお問い合わせやご依頼は、お問い合わせフォームからお問い合わせください。