必要とされるアプリケーションを統合したソフトウェアシステムです。とフォーマット変換を行います。論理演算やサイジングなど様々な処理を実施することができます。他のNDEアプリケーションと連携することでより高度な処理をシームレスに実行することもできます。Checkの略で、マスクの製造ルールチェックを行います。ルールに合致した箇所を検出することで予め問題となる箇所を特定することができます。特定パターンを抽出することができます。Fractureと組み合わせることで抽出した特定パターンのみに特殊処理を実施することも可能です。ほかSelectSelectは与えられた条件に合致するパターンを選択して新しいパターンデータを生成します。レイヤ合成とも言われます。Fractureエンジンと組み合わせて利用します。(利用可能なコマンド)(NOT)INTERACT(NOT)INSIDE(NOT)OUTSIDE(NOT)ENCLOSE(NOT)TOUCH(NOT)RECTANGLEAREAHOLERECTSPattern-MatchPattern-Matchはテンプレートにマッチする図形群を抽出します。テンプレートはEBVで表示したデータから作成することができます。Pattern-Matchはミラー、回転、スケールによる変形や、OPCなどによる形状の違いを考慮したマッチングができます。テンプレート作成時に測長情報を付加することで、マッチングと測長を同時に行うことができます。Fractureと組み合わせることでマッチングで抽出した特定パターンのみに特殊処理を実施することも可能です。測長CSV出力...などSCRDSCRDはマスク描画におけるショット数削減を実現するアプリケーションです。近年、パターンの微細化に伴ってマスク描画時間が増大していることからフラクチャリング前のデータ最適化として注目を集めています。SCRDには二つのアプリケーションがあり、従来のOPCが適用されたマンハッタンパターン向けのSCRD-R(Rectilinear)とILTが適用された曲線パターン向けのSCRD-C(Curvilinear)があります。SCRD-RSCRD-Rは電子ビーム描画による輪郭線の変形や描画ショットサイズを考慮してJog・Notch・Bumpといった箇所を消すことでショット数を減らします。SCRD-CSCRD-CはILTの曲線に沿って矩形を配置します。矩形配置はルールベースで行われます。従来のフラクチャリングによる矩形配置に比べてショット数を大きく減らすことができます。Correctionの略で、主にエッチングによるマイクロローディング効果、および、電子ビームの前方散乱による近接効果をモデルベースで補正します。マスクのプロセス補正は、近年のパターン微細化やEUVマスクにおいて注目を集めています。MPCではこれらの現象をバイアスによって補正します。略で、主にリソグラフィー・現像・エッチングによるグローバルローディング効果の予測モデルを作成します。予測モデルによりマスク面内の寸法変動マップを作成します。エラーの補正に注目が集まっています。エラーを補正することができます。ファイルを使わない直接表示、同時に表示できるデータ数に制限が無い、等の特徴があります。測長や密度計算など表示したデータに様々な処理を実行することができます。オプションとして測長装置向けのレシピ作成に対応しています。使用に同意することになります。設定Cookieについて必須CookieパフォーマンスCookieCookieについて当サイトをご訪問の際、お客様の情報をブラウザに保存する、あるいはブラウザに保存された情報を取得する場合があります。Cookieはブラウザの設定またはオプションで動作を制限する/無効することが可能です。手順については各ブラウザのヘルプ内容をご参照ください。必須CookieこのCookieは当サイトが正常に機能するために必要なもので、無効にできません。ブラウザの設定によりこのCookieをブロック/警告するように設定はできますが、サイトの一部が機能しなくなる可能性があります。このCookieが個人を特定できる情報を保存することはありません。パフォーマンスCookieこのCookieは、訪問者数をカウントしたりトラフィックソースを把握する等のために使用します。情報は匿名化されています。このCookieを有効に設定すると、当サイトの改善に役立ちます。