主力製品であるフォトレジストなど様々な化学薬品が使用されています。半導体チップを作る工程。Process.02露光フォトマスク(設計図)をフォトレジストに転写します。不要な部分を除去し、フォトレジストのパターン(レジストパターン)を形成します。Process.04エッチングレジストパターンを保護膜とし、フォトレジストのない部分をエッチングします。洗浄液などを用いて不要となったフォトレジストを除去します。半導体領域が形成されます。回路パターンの絶縁を保つための絶縁膜を形成します。絶縁膜の上などに、フォトレジストを塗布します。Process.09露光フォトマスク(設計図)をフォトレジストに転写します。不要な部分を除去し、レジストパターンを形成します。Process.11エッチングレジストパターンを保護膜とし、フォトレジストのない部分をエッチングします。洗浄液などを用いて不要となったフォトレジストを除去します。Process.13配線の形成アルミニウムや銅などの導電性金属で配線を形成します。集積回路が形成されます。半導体製造の後工程を見る半導体製造に必要不可欠な化学薬品フォトレジストフォトレジストは感光性材料と呼ばれ、光に反応して変化する材料です。半導体デバイスの製造に関わるフォトリソグラフィという技術に必要不可欠な化学薬品です。原版(フォトマスク)に描かれた設計図をシリコンチップ上に縮小転写しています。省電力・高性能な半導体を作るには、転写される回路をより小さくしていくことが求められ、TOKのフォトレジストは、その要望に応えるために、日々進化しています。TOKは半導体用フォトレジストでグローバルシェアNo.1※1TOKは、1968年に国産初の半導体用フォトレジストを開発し、販売を開始しています。現在では、全ての露光機に対応したフォトレジストをフルラインナップで提供しており、高い市場競争力を持っています。呼ばれる数ナノレベルの回路を持つ半導体製造に使用されているTOKの製品は、世界最高水準の2つのコア技術が支えています。LTD.お客様のニーズに合ったより良いサービスを提供するために、当ウェブサイトではCookieを使用しています。これ以降ページを遷移した場合、Cookieなどの設定や使用に同意したことになります。弊社のデータ収集業務に関する詳細については、プライバシーポリシーをご参照ください。