【講座の趣旨】レジストの歴史歴背景、メタルレジストの重要性、メタルレジストの作製方法およびメタルレジストのEUVによる反応機構を紹介する。メタルレジストの反応機構を明らかにする分析手法に関しても紹介する。【講座の趣旨】コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。本講演では、EUV用レジスト材料の反応機構およびEUVレジスト材料の反応機構に基づいた高性能化にについて解説します。メタルレジスト材料の性能評価に関する研究について最近の研究成果を挙げながら紹介する。【講座の趣旨】EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。各講で最後に質疑応答時間あり。銀行振込または現金書留にてお願いいたします。原則として開催日までにお願い致します。銀行振込の場合は、原則として領収証の発行は致しません。振り込み手数料はご負担ください。同一テーマ1社2名以上同時申込の場合のみ、1名につき5,500円(税込)割引いたします。方は、「アカデミック価格」33,000円/1名(税込)でご参加いただけます。(2名同時申込割引は適用されません)割引適用の場合は、お申し込み後、技術情報協会より確認のご連絡を差し上げます。※定員になり次第、お申込みは締切となります。※申し込み人数が開催人数に満たない場合など,状況により中止させて頂く事が御座います。セミナー配布資料は印刷物を郵送いたします。本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。掲載の記事・写真・図表などの無断転載を禁止します。著作権は株式会社ファシオまたはその情報提供者に属します。