OplusEは1979年の創刊以来,光エレクトロニクスと画像工学分野において高い評価を得ている技術情報誌です。そんな疑問に答える“研究室探訪”。光学設計研究室を訪問しました。世紀にHookeにより発明された光学顕微鏡は,医学や工学の分野で,目に見えない小さいものを可視化する重要なツールとして発展を続けている。光学設計研究室では,可視・紫外線よりも波長が短く目に見えない光「極紫外線(EUV)」や「軟X線」を使った新しい顕微鏡を,光学設計理論と実装技術の両面から研究している。具体的には,これらの光を自在に結像する光学素子「多層膜ミラー」による顕微鏡システムの開発や,次世代リソグラフィマスクやポリマー材料のナノイメージング,さらには自由電子レーザーや高次高調波のナノ集光への展開を進めている。X線顕微鏡の高分解能化や実用化の研究に従事。nmオーダーの空間分解能が得られる。nmの水の窓では厚さ数μmの生体試料を染色・脱水処理せずに観察できる。このため,EUV・軟X線顕微鏡は生体,ポリマー材料や磁性材料等のナノスケール構造の動的変化をビデオ観察できる,新しいナノイメージング顕微鏡として注目されている。光学設計研究室では,これらの短波長光を多層膜ミラーにより自在に操り,回折限界イメージングを実現する結像・集光光学系を開発している。その応用として実験室規模のEUV・軟X線顕微鏡の構築と,次世代リソグラフィマスクやポリマー材料のナノイメージングへの展開にも挑戦している。nmオーダーの高い空間分解能を両立するには,できるだけ少ないミラー数で,波面収差(像のボケ)を極小化した結像光学系を構成する必要がある。nm精度の波面制御に,光学設計理論と実装技術の両面から取り組んでいる。これによりEUV顕微鏡用の高倍率対物鏡を新たに考案した。nmでマルチスケール観察することができる。対物ミラーの開発では,波面収差の精密計測も重要となる。nmの絶対精度で制御,計測するデフォーマブル多層膜ミラーや点回折干渉計も合わせて開発している。EUV顕微鏡の次世代リソグラフィマスクやポリマー材料への応用EUVナノイメージングの有望な応用として,次世代リソグラフィマスクやポリマー材料への展開を進めている。nm世代)の観察に世界に先駆けて成功した。EUV顕微鏡が拓く新領域として,軽元素で顕著な元素コントラストを活用した,ポリマー試料の合成・破壊過程の実時間・ナノイメージングを想定している。その一歩として,2016年から,レーザープラズマ光源による実験室EUV顕微鏡の開発と,ポリマー試料の無染色観察に挑戦している。図1にポリスチレン(PS)/アクリル(PMMA)ポリマーブレンドの無染色・透過EUV像の例を示す。nm領域で初めて実証した。今後は,3次元イメージングや合成・破壊過程のビデオ観察への展開が望まれる。レンズは古代ギリシャの時代から使われ,ガリレオやケプラーによって望遠鏡に用いられ,天文学,物理学の発展の元になった。写真機やビデオカメラだけでなく,CDプレーヤーの信号を読み取るピックアップレンズ,コピー機,さらには天気予報のためのひまわりなどの衛星にも使われているように,レンズ技術は非常に古いものでありながら現代技術になくてはならないものである。光学設計研究室では,これらの光学理論を基盤として,未踏の短波長領域であるEUVや軟X線域を拓くことを目指している。ナノスケールの波長をもつ光波の制御には,光学設計理論に加え,先端の電子・機械技術を駆使した実装技術の開発も重要となる。15年に渡るこれらの研究を経て生まれたEUV顕微鏡を大切に育てていきたいと考えている。