P3の場合のインク分散軌道ケースP0の場合、黒インクは最初に傾斜したチャネルに沿って流れます(図4a)。78秒で、一部のインクはバス表面に分散し、他のインクは直接出口2に流れて、「短絡流」を形成します。この状況では、このストランド内の非金属介在物は、浮いて除去するのに十分な時間がありません。図4(c)および(d)から、インクは出口4の近くにほとんど流れることができませんでしたが、タンディッシュの両側に最も集中しており、出口4の近くの領域がデッドゾーンの主な発生源であることを示唆しています。54.58%に達し、タンディッシュボリュームの半分以上を占めています。それぞれ122.40と101.94を示し、異なるストランド間での流れの特徴の大きな違いが示されています。図5から、ケースP3のインクの軌跡はケースP0とは大きく異なり、熱浮力のために最初にチャネルからの温水とともにバス表面に流れ(図5(a))、次にタンディッシュ全体に蓄積します。表面(図5(b))では、この場合、短絡流は発生しません。その後、熱流は徐々にすべての出口に沈みます。タンディッシュの表面から底部まで長時間かかるため、液体の滞留時間が大幅に長くなります。ホットフローが完全に沈むため、このケースのデッドボリュームはなくなります。参考文献[8]に記載されているように、タンディッシュの誘導加熱が一定期間行われると、誘導チャネルの内側と外側の溶鋼の温度差はなくなるまで減少します。その際、タンディッシュの溶鋼は等温流になります。誘導加熱操作は通常、経済的な考慮から、ベアリング鋼やばね鋼などの一部の特殊鋼グレードに使用されます。通常の鋼種の場合、チャネルの加熱機能は実行されません。この状況では、チャネルを通る溶鋼の流れも等温です。したがって、単一誘導加熱によるタンディッシュの構造最適化には、水モデルの等温実験が必要です。二重誘導加熱器[8]の結果に基づいて、単一誘導加熱器の場合は次のように設計されています。誘導チャネルは水平に設定され、タンディッシュの底面から340mmの位置にあり、2つのダムはタンディッシュの各側は出口間で対称的に分布しており、dam1はoutlet2に対して375mmの位置にあり、dam2はoutlet3に対して240mmの位置にあります。mmに配置され、実験スキームは表3に示されています。流れ特性パラメーターは表4に示され、それらのRTD曲線は図6に示されています。mmG103400G20340340G30340420G40340500テーブル4.等温実験における流動特性パラメータ図6さまざまなケースでの等温実験のRTD曲線:(a)G1;(b)G2;(c)G3;(d)G4表4から、ケースG1の平均滞留時間はケースP0と比較して292秒増加し、不感帯の割合は半分に減少し、誘導チャネルの高さが流れ場の改善に有利であることを示しています。タンディッシュと滞留鋼の液面の制限により、誘導チャネルを高くしすぎることはできません。ケースG2とG4を比較すると、平均滞留時間が長くなり、ダムの高さが高くなるにつれて不感帯の割合とピーク濃度が減少し、高ダムがこのタンディッシュの流れ場の最適化に有益であることを示唆しています。これは、ハイダムの誘導により、流体が直接oulet2やoutlet6に流れるのではなく、上向きに流れるためです。この状況では、短い循環の流れが排除されます。ケースG3の流動パラメータはケースG4の流動パラメータに近いため、実際の生産量と残留鋼量を考慮すると、ケースG3が最適であると考えられます。図6のRTD曲線から、単一誘導加熱器のセットがタンディッシュの排出チャンバーの両側で流れ場を非対称にするため、さまざまなストランド間の差は比較的大きくなります。4.結論チャネル型単一誘導加熱器を備えた革新的な鋳造タンディッシュの流動特性を、タンディッシュの等温および非等温作業条件に基づく水モデル法によって明らかにし、最適なフロー制御設計を提案します。次の結論が導き出されます。非等温状況下では、加熱チャネルからの流体は液体表面に直接上向きに流れます。これは、鋼中の非金属介在物の除去に潜在的に有利です。加熱チャネルの内側と外側の温度差が大きいほど、上昇する流れがより明白になります。温度差が10°Cに達すると、タンディッシュの不感帯が完全になくなり、流体の最小滞留時間と平均滞留時間は、それぞれ353秒と1067秒に達し、温度差がない場合よりもはるかに長くなります。等温状況下では、誘導水路の標高とタンディッシュの二重ダムのセットにより、不感帯の割合を減らすことができ、高ダムは低ダムよりも有利です。ケースG3とG4の不感帯の割合は、プロトタイプのタンディッシュの45.57%からケースP0の54.58%から16%未満に減少しています。液面の高さとタンディッシュ内の残留鋼の量を考慮すると、ケースG3(誘導チャネルの高さ340mm、2つのダムの高さ420mm)が実際の生産に最適な選択と見なすことができます。原作者の書面による許可なしに複製または変更することを含め、いかなる形式でもこの記事を使用することは許可されていません。Electricは、電磁冶金の研究開発と完全なソリューション、および連続圧延用のオンライン加熱システムの提供に取り組んでいます。無断複写・転載を禁じます。よる支援Leadong.。