ALD装置(原子層堆積装置)です。Deposition)です。前駆体と呼ばれるプリカーサボトルに入れた原料を成膜材料として、水やオゾンとの表面化学反応により酸化膜(AL2O3、HfO2、SiO2、TiO2)の成膜をすることができます。SAL1000はプリカーサを2系統搭載し、1種類の膜種の成膜に必要な基本機能を備えたエントリーモデルのデスクトップ型ALDです。※例に挙げている膜種に関しては、弊社では実証できていないものが含まれております。基板サイズφ100mm以内に対し、±3%の膜厚分布の性能です。基板表面に1原子層ずつ均一でピンホールフリーのレイヤー成膜が可能です。段差被覆性に優れていますので、凹凸表面形状や三次元形状への成膜に適しています。基板のセットは本体上部のハッチを持ち上げて、露出する基板ホルダー上にウエハーやサンプルを乗せて、再びハッチを閉めるだけ。排気操作用のボタン(誤操作防止カバー付)とガス流量調整用バルブも操作しやすいフロントパネルに配置しています。–>4インチのウエハーを載せた状態デポとベントの操作ボタン(誤操作防止カバー付)【特徴3】小さい画面でも使いやすさを追求したソフトウェアタッチパネルのソフトウェアは成膜時の状態を認識しやすい画面レイアウトを設計しました。プロセス中は圧力トレンドグラフ、圧力、成膜サイクル数、成膜サイクル残数、ガス流量、ヒーター温度情報などが読み取れます。4】基板回転機能オプションの基板回転機能を付加することができます。基板が回転することにより様々な実験に応用が利きます。【特徴5】持ち運びを考慮したデザイン卓上型の装置として、簡単に設置場所から動かせることを重視し、本体側面に大型のハンドルを付けました。持ち運びしやすいデザインで作業者も安心してお取り扱い頂けます。本体重量が50kgあるため、持ち運びは必ず大人2名以上で作業してください。SAL1000仕様表SAL1000外観図オプションSAL1000に追加できるオプションです。ホルダーの回転機構を追加することができます。【特徴2】オゾン発生器オゾン(O3)発生器を使用し、水(H2O)のプリカーサの代わりとすることで酸素原子を反応させ薄膜形成に活用できます。水を入れないことにより真空排気時の時間短縮にも効果が期待できます。低温での成膜も可能になります。【特徴3】排ガス処理装置ALD処理で発生する未反応の前駆体成分を排気経路の途中で高温加熱し無害化させる装置を販売しています。当社ではAL2O3を使ったプロセス等で実績があります。ALD装置で使用することを前提とした流量の範囲であれば効果が得られます。【特徴4】ドライ真空ポンプ真空ポンプをロータリーポンプからドライポンプに変更可能です。クリーンルームへの設置条件では基本的にドライポンプが求められます。当社は非接触式の多段ルーツ式ドライポンプを選定しております。プロセス条件によってはポンプ保護も含めたシステム延命化のため、ポンプへのN2ガス導入などを推奨することがございます。【特徴5】プリカーサ加熱用ヒータープリカーサボトル内の前駆体の気化を一定に保つため、標準でMAX150°Cのプリカーサボトル用ジャケットヒーターを用意しておりますが、MAX200°Cのジャケットヒーターへの交換が可能です。関わる保守サービスは、北海道の本社及び静岡県の拠点から技術者を派遣して対応致します。改造・保守に関わる事前お打合せについては北海道と関東地区に駐在している営業担当者にて対応致します。装置の導入後も安心して装置をご使用頂けるよう体制を整えております。装置の御納入後の定められた保証期間内は、弊社が定める一定の条件(天災や誤った使用方法に起因する故障)に含まれない初期不良等の不具合に対しては無償による修理対応を行います。詳細はお問い合わせください。装置の定期メンテナンス、不具合時のサービス対応。装置の改造や機能追加、それらに伴うプログラムソフトの変更。装置の移設、レイアウト変更。オペレーショントレーニング。(ユーザー様の運用担当者の交代時など)消耗品の購入。シールド部品に付着した膜の洗浄及び再ブラスト処理。メール、お電話等で解決するご質問。サンプルホルダーの製作。プログラムの改良、アップデート。その他、ご要望に応じた改造、現地サービス。