絶対的な光学的測定法になり媒質を通過中の光の偏光変化を測定します。偏光の位相は、反射中の層構造が原因で歪みを呈するため、構造内の媒質材料特性の抽出が可能になります。偏光の歪みは、複数の光学コンポーネントが光偏光を変調させる複数の方法複で特定できます。異なる位相転移を生じさせることでエリプソメトリーパラメーターを分光的に特定できます。実際構造のモデリングとパラメータフィッティングが必要です。目的の値を取得するための強力なアルゴリズムを装備しています。分光エリプソメトリー測定法には多数の長所があります。長所は、光学法であり、よって非接触・非破壊式であることです。この測定法では、多層構造中の各層の層厚と光学機能を測定します。位相角測定が光の絶対強度に依存しません。白色光源とモノクロメーターを用いると、サンプルに関するスペクトル情報を取得できます。エリプソメトリーでは、複雑なフレネル反射係数の比率を測定します。これは複素数であるため、振幅項と位相転移項に分けることができます。それぞれエリプソメトリー角であるΨとΔに対応します。これらのパラメータには、層構造の物理特性(層厚や屈折率など)が含まれています。高度に非線形な方程式であるため、モデルベースのアプローチを用いて数値法で解く必要があります。この手法では、層構造をモデルの厚さと光学機能を用いて検討します。数値的回帰手法では、相対位相転移を計算し、測定量と比較します。バイオ・太陽電池・レーザーダイオード・照明・ポーラス層など】にわたります。・in-situ測定モードで成膜またはエッチングプロセス中にリアルタイム制御が可能アプリケーションELAプロセス特性評価(LTPS)エキシマレーザーアニーリング(ELA)低温シリコン(LTPS)層の製造における主要なプロセスパラメータです。ELAにより、層と最終的にデバイスの重要な最終パラメータ(結晶度、移動度など)の多くが決まります。セミラボは、最適エネルギー密度(OED)を簡単に特定できるメトロロジーの組み合わせを開発しました。こちらの組み合わせは非常に類似した、アニーリングパラメータでアニールされた2つのLTPSサンプルの特性を区別できます。この機能を用いるとELAプロセスの微調整が簡単かつ高速になり、人間の判断によるマクロ検査は一切必要ありません。当社の接触式6ppを使用するとシート抵抗も特定できます。詳細を見る製品ラインナップFPTFPTシリーズは、フラットパネルの検査と特性評価に専用のシリーズです。TFTパネルの特性を評価できるよう設計されています。複数の測定プローブを1台のプラットフォームに組み合わせることができ、正確・高速なモーター駆動ステージと可搬重量により、フラットパネルの全表面を高精度で測定できます。FPTシリーズフラットパネルディスプレイ用の検査装置です。最大10.5Gまでのパネルの測定に対応しています。