17:12楽天、自動配送ロボットサービスを東京で本格稼働。13:09Steamのゲーム画面録画機能が正式公開。【特集】LANケーブルなんて自分で作ればいいじゃない。Proで試してみた要注意。Plus)の製造技術の開発が完了し、同技術による半導体の生産を開始したと発表。3nmプロセスへのロードマップも確定させた。これまでのArF液浸露光の場合、193nmの波長しか利用できず、高価なマルチパターンのマスクセットが必要だった。EUV露光技術では13.5nmの波長を使用しており、1枚のマスクで1個のウェハレイヤーを作成することが可能。一方のArF液浸露光は同じレイヤーを作るのに4枚のマスクが必要になる。LPP非使用のものと比較して、マスク数を約20%削減できるとしており、製造時間とコストの短縮につながるという。FinFETと比較した場合に、最大で20%の性能向上、50%の省電力化、40%の面積効率向上がもたらされるとしている。LPPの製品化によって、5G、AI、エンタープライズ/ハイパースケールデータセンター、IoT、自動運転、ネットワークといった分野において、アプリケーションの境界を押し広げる新製品が作られていくだろうとしている。