:3-2.フォトレジストプリベークレジストが塗布されたウエハーは、プリベークと呼ばれる軽い焼き締めの後、露光工程へ送られます。感光体+重合体(ポリマー)という形の構造であり、光が当たるとさらに光重合(ポリマー化)が進み、現象液である有機溶媒に不溶化する。→光照射されたところが像として残る。感光体はナフトキノンジアジドであり、これにノボラック樹脂が結合した形。これに光が照射されると窒素が脱離してケトン構造になり、アルカリ水溶液で現象すると水溶性のインデンカルボン酸になり除去されます。→光が照射されなかったところが像として残る。化学増幅型レジスト酸発生剤(PAG)を用い、露光により発生した酸がベース樹脂であるPHSを不溶性にしている溶解抑制剤(t-BOC)が化学変化し、ベース樹脂をアルカリ水溶性にする働きをし、分解してできた酸がさらにPEB時に働くという連鎖反応を利用するために高感度であるというメリットがありる。装置部品の変遷Top。