324件の製品があります。選択をリセット26件の製品があります。[全て閉じる]窒化ガリウム基板[閉じる]三菱ケミカル製の窒化ガリウム(GaN)基板は、自社で永年培ってきたHVPEと呼ばれるエピタキシャル技術と化合物半導体の加工技術を用いた、高品質な単結晶基板です。均一かつ高品位な結晶性と表面品質が特長です。プロジェクター光源や高輝度ヘッドライトに使用される青色及び緑色レーザーダイオード(LD)用基板として使用されています。(*)及びSCAATTM-LP(**)の開発を行い、パワーデバイスや高周波デバイスなどのパワーエレクトロニクス用基板として、幅広い用途展開を進めていきます。*SCAATTMは、三菱ケミカル株式会社が実施する酸性アモノサーマル技術のブランドネームです。当社の協力により確立したものです。実施する低圧酸性アモノサーマル技術のブランドネームです。ケミカル株式会社の3者で共同開発したものです。協力のもとに確立した技術であるとの指摘がありました。当社は東北大学の指摘を真摯に受け止め、関連する記事の一部を訂正いたしました。詳細はこちらをご確認ください。アクアセーブTM[閉じる]電子線リソグラフィーにおいてレジスト表面に発生する電子の蓄積を防止するための帯電防止剤です。先端フォトマスク製造などに適用することでチャージアップによる障害の改善が期待されます。リソマックスTM[閉じる]半導体回路形成時に使用されるフォトレジスト用感光性ポリマー。回路パターン寸法の微細化に伴う高度な品質要求(高純度化、低メタル化)に対応。ポリマーのデザインから試作、量産まで承ります。要求される高機能石英ガラス(シリカガラス)の原料として最適です。Siエッチング液[閉じる]半導体製造時のウェットエッチングで使用されるEL薬品です。次のエッチング液を取り扱っています。EL安水[閉じる]半導体製造工程におけるシリコンウエハの洗浄においては、近年の半導体回線幅の微細化にあわせ、高度なパーティクル・メタルの除去が求められています。三菱ケミカルの電子工業用高純度プロセス薬品はそれらの要求に応え、10ppt以下のメタル不純物レベルの高純度性を備えています。AM1[閉じる]AM1は高いパーティクル除去性とメタル除去性を併せ持つ高機能洗浄剤で、EL薬品の一種です。バッチ・枚葉洗浄共に適用可能な高性能RCA代替洗浄剤です。シリコンを腐食しないため、メタルゲート用洗浄剤としても優れた性能を持っています。MC1[閉じる]MC1は電子工業用の高機能洗浄剤で、EL薬品の一種です。高性能なRCA代替洗浄剤です。パーティクルとメタルの除去性を併せ持つことにより、RCA洗浄の工程数を減少させ、お客様のトータルコスト低減に貢献いたします。半導体の製造工程のひとつである、Cu/Low-k膜のCMPの後洗浄工程においては、基板への腐食やダメージを与えずに、Cu配線上・Low-k膜上に残留するスラリー由来の有機残渣やパーティクルを除去する技術が求められています。行い、再使用出来る製品に仕上げてお客様に返却しております。製品詳細へ株式会社新菱[別窓表示]めっき受託加工(電子加工品)[閉じる]ウェハや部材を選ばない融点60°C~300°Cの多種多様な鉛フリーはんだめっきをご用意。10μm以下のきわめて微細なはんだバンプ加工に対応。試作、トライアルから量産まで強力にバックアップいたします。ウェハ1枚、部品1ロットから加工を承っております。ウェハめっき、機能めっきの委託は、ぜひ新菱にお任せください。新菱の精密洗浄技術により、ミクロンからナノ単位の汚れを、表面からきめ細かく除去致します。高度な精密洗浄技術、及び表面改質技術により、製品の歩留り向上、及びコスト削減に貢献します。Centerニュースリリースお知らせ採用情報デジタルショールームお問い合わせよくあるご質問ソーシャルメディア公式アカウントこのサイトにおいて、「三菱ケミカルグループ(MCG)社」は三菱ケミカルグループ株式会社を指し、「三菱ケミカルグループ(MCGグループ)」は三菱ケミカルグループ株式会社とそのグループ会社を指します。Corporation.ページの終わりですヘッダー情報に戻りますページの先頭に戻ります。