京都府Japanhttp://www.selvac.co.jp小間番号6939ホーム出展製品CVDプロセスの新技術をご紹介します。半導体の高集積化に伴い、配線パターンがより微細化しています。低温成膜で、微細TSVの側壁絶縁膜、パワーデバイスのゲート絶縁膜で使用可能。独自のプラズマ源で、多くのデバイスに対し低ダメージ処理、低温処理で対応致します。InfoPEGASUS(HDPーCVD)は、先端デバイスに求められる低温処理で、高特性の膜質形成が可能な装置です。要求に対してハード設計とプロセスチューニングで対応します。生産に重要な、タクト、異物管理も対応した装置を準備しています。