2012概要Siトランジスタに印加された複雑な応力場を定量解析するために、液浸ラマン分光法により複数光学フォノンモードを励起して多軸応力評価を可能とする技術開発を行った。これを達成するためには、従来のラマン分光法では禁制モードである(001)Siの横光学フォノンモード(TOモード)を、効率的に励起する必要がある。本研究では、1マスク素子、2z偏光光学系、および3斜入射光学系を作製した。1によって入射光の低開口数(NA)成分を除去した。1と2を組み合わせて強度比TO/LO約240%を達成した。3についてもTOモードを励起できた。この場合、空間分解能が犠牲になるが、原理的にLOモードを完全に抑制できる。実際に、微細加工された歪Siの多軸応力評価を行い、液浸ラマン分光法が微細試料の複雑な応力場を解析可能なことを示した。