カスタマイズされた化学気相堆積の炉、ガスの真空の誘導加熱メッセージ折り返しご連絡いたします!メッセージは20〜3,000文字にする必要があります。メールを確認してください!送信より多くの情報はより良いコミュニケーションを促進します。氏ミセスOK正常に送信されました!折り返しご連絡いたします!OKメッセージ折り返しご連絡いたします!メッセージは20〜3,000文字にする必要があります。ガスが付いている複合材料の化学気相堆積にCVDおよびCVIのようなカーボン源としてC/Cの複合材料およびSiCの複合材料の処置(C3H8、等のような)、使用することができる。フィールドは均一である、沈殿死んだ角度は形作られないし、沈殿効果はよい;非常に腐食性の尾ガス、沈殿によって作り出される可燃性および爆発性のガス、固体塵および低い融点粘性プロダクトは効果的に扱うことができる;最も最近の設計anti-corrosion真空の単位に長い作業時間および低い維持率がある。すべてのカテゴリーメールでお問い合わせ要件をお知らせください。最高の商品をお届けします。