オンラインセミナーご受講に関する各種案内(ご確認の上、お申込みください。)・PC/タブレット/スマートフォン等、Zoomが使用できるデバイスをご用意ください。・開催が近くなりましたら、Zoom入室URL、配布資料、当日の流れなどをメールでご連絡致します。開催前日(営業日)の12:00までにメールが届かない場合は必ず弊社までご一報ください。・受講者側のVPN、セキュリティ設定、通信帯域等のネットワーク環境ならびに使用デバイスの不具合については弊社では対応致しかねますので予めご了承ください。Zoom使用に関する注意事項(クリックして展開)・公式サイトから必ず事前のテストミーティングをお試しください。確認はこちら→Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomで音声が聞こえない、カメラ・マイクが使えない等の事象が起きる可能性がございます。お手数ですが、これらのアプリは閉じた状態にてZoomにご参加ください。・Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です。→参加方法はこちら→一部のブラウザは音声が聞こえない等の不具合が起きる可能性があります。ご利用の場合は、アプリインストールが必須となります)会場で開催する対面セミナーです。・東京都内の会場を中心に開催しております。詳細は各セミナーページの案内をご参照ください。弊社の対応はこちら・セミナー費用等について、当日会場での現金支払はできません。・昼食の提供もございませんので、各自ご用意頂ければと存じます。セミナーポイント■はじめに半導体デバイスの微細化に伴い、半導体の製造現場では、パーティクル、金属汚染、ケミカル汚染など様々な微小な汚染物質が半導体デバイスの歩留まりや信頼性にますます大きな影響を及ぼすようになってきています。半導体プロセスはそのすべてが汚染の発生源です。これらの汚染が半導体ウェーハ表面に付着してしまった場合は、洗浄で除去しなければなりません、このため、洗浄工程は、歩留りを左右する重要な工程として、半導体製造プロセスの中に繰り返し登場し、最頻工程となっています。半導体デバイスの微細化に伴い、洗浄に伴う様々なトラブルが顕在化してきており、従来の洗浄技術にブレークスルーが求められています。はじめ様々な新しい手法が密かに海外で検討され生産導入されています。(参考記事)http://news.mynavi.jp/articles/2017/03/07/semes/しかし、洗浄技術は、製造現場の歩留まりと直結するため、今まで誰も語ろうとはせず、半導体参考書にもほとんど取り上げられてきませんでした。リバースエンジニアリング(市販されている半導体チップを分解してライバル会社のデバイス構造や材料を突き止める技術)によってデバイスの微細構造を観察できても洗浄プロセス情報は全く得られません。本講演では、従来門外不出とされてきた半導体洗浄技術の基礎、現状の課題と解決策、そして世界最先端の最新動向までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、初心者にも分かりやすく、かつ具体的に徹底解説します。最先端の話題も紹介します。7時間におよぶ集中公開講義を行いました。これらの実績をふまえてさらにパワーアップした内容で講義したいと思っております。学ぶことでもありますので、この講義を通して半導体プロセス技術の最新情報を得ることができます。「シリコンウェハ上の汚染物質をいかに防止するか」に焦点を当てた9月26日開催セミナーと対になっています。技術を参考にしたい他産業の方々、教育関係者など。RCA洗浄の由来-オリジナル論文。(中央研究所)からプロセス・デバイス開発(半導体事業本部)歩留まり向上・クリーン化(九州および米国量産ライン)まで広範な業務に従事。ウルトラクリーンテクノロジー研究室長、リサーチフェロー。2007年に国際技術コンサルタントとして独立し現在に至る。