第76回ラウンドテーブルこのイベントは終了しました。柔軟性に富んだ基板上に、高移動度トラジスタ等を集積した革新的なデバイスを創成するために、プラスチック、樹脂等の低融点絶緑基坂上に高品質な半導体結晶150°C以下の低温で形成する技術が必要になります。あると考え研究に取り組んでいます。当日はIV族半導体結晶薄膜の低温形成へのアプローチについて報告致します。高精度に評価する各種測定装置を備えています。共同研究を遂行しています。(電話・メール・FAX)をメール又は、FAXで3月25日(水)までに下記へお申込み下さい。096-324-7004※担当青山までまでお気軽にお電話でもお問い合わせいただければ幸いです。