Parametrarna kan vara samma som i steg 10, men en något längre etsning tid (40 s) kan användas för att säkerställa avlägsnande av alla a-Si.

Parametrarna kan vara samma som i steg 10, men en något längre etsning tid (40 s) kan användas för att säkerställa avlägsnande av alla a-Si.

瑞典語