b'\n_START_ARTICLE_\nTitaaninitridi\n_START_PARAGRAPH_\nTitaaninitridi (TiN) on eritt\xc3\xa4in kova keraaminen materiaali, jota k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n usein pinnoitteena titaaniseos-, ter\xc3\xa4s-, karbidi- ja alumiiniosissa parantamaan pinnan ominaisuuksia, usein kulutuksen kest\xc3\xa4vyytt\xc3\xa4. Titaaninitridin kovuus on ~85 Rockwell C asteikolla ja 2\xc2\xa0500 Vickers asteikolla tai 24,5 gigapascalia._NEWLINE_TiN:ll\xc3\xa4 on hyv\xc3\xa4t infrapunas\xc3\xa4teilyn heijastusominaisuudet. Se heijastaa samankaltaisen spektrin kuin kulta. Riippuen pohja-aineesta ja pinnan viimeistelyst\xc3\xa4 titaaninitridin kitkakerroin vaihtelee v\xc3\xa4lill\xc3\xa4 0,4-0,9 itse\xc3\xa4\xc3\xa4n vasten voitelemattomana. Kiderakenne on pintakeskinen kuutiollinen stoikiometrialla 1:1. TiN hapettuu 600 \xc2\xb0C l\xc3\xa4mm\xc3\xb6ss\xc3\xa4 normaali ilmakeh\xc3\xa4ss\xc3\xa4 ja sen sulamispiste on 2\xc2\xa0930 \xc2\xb0C. Titaaninitridin CAS-numero on 25583-20-4.\n_START_SECTION_\nK\xc3\xa4ytt\xc3\xb6\n_START_PARAGRAPH_\nYleisin TiN:n k\xc3\xa4ytt\xc3\xb6kohde ovat lastuavan ty\xc3\xb6st\xc3\xb6n koneiden ter\xc3\xa4palat, poranter\xc3\xa4t ja sirkkelin ter\xc3\xa4t. N\xc3\xa4iss\xc3\xa4 TiN-pinnoite parantaa leikkuureunan kestoa ja korroosion kest\xc3\xa4vyytt\xc3\xa4 lis\xc3\xa4ten ter\xc3\xa4palojen k\xc3\xa4ytt\xc3\xb6ik\xc3\xa4\xc3\xa4 noin kolminkertaiseksi tai enemm\xc3\xa4n._NEWLINE_Koska TiN:ll\xc3\xa4 on metallinen kultainen v\xc3\xa4ri, sit\xc3\xa4 k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n pinnoitteena koruissa ja autojen ulkon\xc3\xa4\xc3\xb6n ehostamistarkoituksessa. TiN:\xc3\xa4 k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n my\xc3\xb6s pintakerroksena sellaisilla nikkeli- tai kromipinnoitetuilla esineill\xc3\xa4, joita ihmiset k\xc3\xa4sitelev\xc3\xa4t usein kuten hanat ja ovenkahvat. TiN on myrkyt\xc3\xb6n ja t\xc3\xa4ytt\xc3\xa4\xc3\xa4 terveysviranomaisten kuten FDA:n (Food and Drug Administration) vaatimukset ja sit\xc3\xa4 k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n l\xc3\xa4\xc3\xa4ketieteellisiss\xc3\xa4 instrumenteissa ja implanteissa sek\xc3\xa4 proteeseissa kuten my\xc3\xb6s ilmailu- ja sotilassovelluksissa. TiN k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n pinnoitteena my\xc3\xb6s polku- ja moottoripy\xc3\xb6rien haarukoiden jousituksissa liukupintojen suojana._NEWLINE_TiN pinnoite tehd\xc3\xa4\xc3\xa4n joko reaktiivisella kasvulla esimerkiksi l\xc3\xa4mp\xc3\xb6k\xc3\xa4sittelem\xc3\xa4ll\xc3\xa4 pala titaania typess\xc3\xa4 tai PVD-kalvonkasvatusmenetelmill\xc3\xa4 suunnilleen 3 mikrometrin paksuiseksi. TiN:n korkea kimmomoduuli (600 GPa) verrattuna esimerkiksi titaaniseoksiin (100 GPa) aiheuttaa sen, ett\xc3\xa4 paksummat pinnoitteet irtoavat helposti lohkeamalla, jolloin ohuemmat pinnoitteet ovat kest\xc3\xa4v\xc3\xa4mpi\xc3\xa4.\n_START_SECTION_\nK\xc3\xa4ytt\xc3\xb6 puolijohdeteollisuudessa\n_START_PARAGRAPH_\nV\xc3\xa4hemm\xc3\xa4n n\xc3\xa4kyv\xc3\xa4\xc3\xa4 on titaaninitridin k\xc3\xa4ytt\xc3\xb6 puolijohdeteollisuuden sovelluksissa. puolijohdetekniikassa k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n nyky\xc3\xa4\xc3\xa4n kuparia johdinmateriaalina ja TiN pinnoitetta k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n s\xc3\xa4hk\xc3\xb6\xc3\xa4 johtavana barrier-kalvona piin ja kuparijohdinpintojen v\xc3\xa4liss\xc3\xa4 est\xc3\xa4m\xc3\xa4\xc3\xa4n kuparin diffuusio piihin, koska se tuhoaa transistorin. TiN s\xc3\xa4hk\xc3\xb6njohtavuus on riitt\xc3\xa4v\xc3\xa4 (30\xe2\x80\x9370 \xce\xbc\xce\xa9\xc2\xb7cm) takaamaan hyv\xc3\xa4n s\xc3\xa4hk\xc3\xb6isen kontaktin._NEWLINE_Titaaninitridi ohutkalvot kasvatetaan yleens\xc3\xa4 PVD tai CVD menetelmill\xc3\xa4. Molemmissa puhdas titaani saatetaan kaasufaasiin ja se laitetaan reagoimaan typen kanssa kovassa l\xc3\xa4mm\xc3\xb6ss\xc3\xa4 vakuumiastiassa.\n_START_SECTION_\nTitaaninitridiesineiden valmistus\n_START_PARAGRAPH_\nSuurempia TiN esineit\xc3\xa4 voidaan valmistaa jauhemetallurgisin menetelmin puristamalla titaanijauhoa kasaan ja kuumentamalla se puhtaassa typpiatmosf\xc3\xa4\xc3\xa4riss\xc3\xa4. Reaktiosta muodostunut l\xc3\xa4mp\xc3\xb6 on riitt\xc3\xa4v\xc3\xa4 sintraukseen, jolloin lopputuloksena kova ja valmis TiN-esine.\n_START_SECTION_\nErilaiset titaaninitridivariaatiot\n_START_PARAGRAPH_\nTiN-pinnoitteesta on syntynyt useita variaatioita kuten titaanikarbidinitridi (TiCN), titaanioksinitridi (TiON) ja titaanialumiininitridi (TiAlN), joita k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n erill\xc3\xa4\xc3\xa4n tai TiN kanssa vuorotellen (laminaattirakenne). N\xc3\xa4m\xc3\xa4 pinnoitteet tarjoavat samat tai viel\xc3\xa4kin paremmat ominaisuudet korroosion estossa ja kovuudessa ja useita uusia v\xc3\xa4rivaihtoehtoja vaalean harmaasta melkein mustaan ja tumman punaiseen pinnoitusprosessista riippuen. N\xc3\xa4m\xc3\xa4 pinnoitteet ovat tulossa suosituiksi urheiluv\xc3\xa4lineiss\xc3\xa4 , erityisesti puukoissa ja k\xc3\xa4siaseissa, joissa niit\xc3\xa4 k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n niin toiminnallisista kuin kosmeettisista syist\xc3\xa4. TiON -k\xc3\xa4sittelyll\xc3\xa4 voidaan saada aikaan hyvin kirjava hehkuvas\xc3\xa4vyinen pinta.\n_START_SECTION_\nTitaaninitridi metallurgiassa\n_START_PARAGRAPH_\nTitaaninitridi\xc3\xa4 k\xc3\xa4ytet\xc3\xa4\xc3\xa4n s\xc3\xa4\xc3\xa4t\xc3\xa4m\xc3\xa4\xc3\xa4n ter\xc3\xa4ksen kiderakennetta. TiN muodostaa kiteit\xc3\xa4 jo korkeissa l\xc3\xa4mp\xc3\xb6tiloissa, koska sen kiteytymisentalpia on hyvin alhainen. Se kiteytyy suoraan sulasta ter\xc3\xa4ksen valmistuksessa. TiN muodostaa kiderajoille mikrometrin kokoisia kuutioita ja pienen austeniittiin liukoisuutensa vuoksi ja l\xc3\xa4mp\xc3\xb6tiloissa, joissa ter\xc3\xa4ksen kuumak\xc3\xa4sittely yleens\xc3\xa4 tapahtuu, ter\xc3\xa4ksen kiderakenteen on pintakeskinen kuutio, jolloin TiN est\xc3\xa4\xc3\xa4 ter\xc3\xa4ksen kiteiden kasvua Ostwald kypsymisefektin korkeisiin homologisiin l\xc3\xa4mp\xc3\xb6ihin. T\xc3\xa4m\xc3\xa4n vuoksi ter\xc3\xa4sseoksissa on usein mukana titaania.'