이렇게 , 소스 원료 및 반응 원료 가 분사 될 때 , 전 원부 ( 300 ) 는 분사기 ( 220 ) 로 RF 전원 을 인가 하 여 챔버 ( 200 ) 내부 에 플 라즈 마 를 형성 한다 . 이때 , 전 원부 ( 300 ) 는 RF 전원 을 연속 으로 인가 하 지 않 고 , 도 2 에 도시 된 바 와 같이 RF 전원 이 일정 주기 를 가지 고 간헐 적 또는 펄스 화 하 여 인가 되 도록 한다 . 다른 말 로 하 면 , 분사기 ( 220 ) 를 통해 소스 원료 및 반응 원료 가 분사 되 는 동안 에 RF 전원 이 연속 적 으로 인가 되 지 않 고 , RF 전원 의 인가 ( on ) 및 중단 ( off ) 이 교대 로 복수 번 반복 되 도록 한다 .