본 발명 의 또 다른 구체 예 에서 , 상기 3 차 회수 단계 에서 회수 되 는 신 너 조성물 은 PGME ( Propylene Glycol Methyl Ether , 1 - Methoxy - 2 - Propanol ) , HBM ( 2 - Hydroxyisobutyric Acid Methyl Ester ) , PGMEA ( Propylene Glycol Methyl Ether Acetate , 1 - Methoxy - 2 - Propanol Acetate ) 및 EL ( Ethyl Lactate ) 을 포함 할 수 있 다 . 본 발명 에 따르 는 신 너 폐액 의 정제 방법 은 반도체 제조 공정 에서 사용 된 신 너 폐액 을 정제 하 여 신 너 폐액 에 함유 되 었 던 신 너 용 화합물 을 회수 하 여 재 사용 하 는 것 을 특징 으로 하 는 바 , 본 발명 에 따르 는 신 너 폐액 의 정제 방법 에서 최종 적 으로 회수 하 는 신 너 조성물 에 는 재 활용 가능 한 신 너 용 화합물 인 상기 PGME ( Propylene Glycol Methyl Ether , 1 - Methoxy - 2 - Propanol ) , HBM ( 2 - Hydroxyisobutyric Acid Methyl Ester ) , PGMEA ( Propylene Glycol Methyl Ether Acetate , 1 - Methoxy - 2 - Propanol Acetate ) 및 EL ( Ethyl Lactate ) 을 포함 할 수 있 다 .