상기 마이크 로 렌즈 마스크 ( 20 ) 는 상기 진성 층 물질 ( 400 ) 상 으로 포토레지스트 막 을 도포 한 다음 패 터닝 하 고 리플 로우 공정 을 통하 여 형성 할 수 있 게 된다 . 이 와 같이 형성 된 마이크 로 렌즈 마스크 ( 20 ) 는 상기 제 1 도전 형 전도 층 ( 301 ) 의 외주 면 을 모두 덮 을 수 있 도록 형성 되 고 이웃 하 는 마이크 로 렌즈 마스크 ( 20 ) 와 그 가장자리 가 접하 거나 또는 이격 되 도록 형성 할 수 있 다 .