또한 본 발명 에 의하 면 ( a ) 기판 상 에 재료 층 을 제공 하 는 단계 ;　( b ) 상기 재료 층 위 로 본 발명 의 하드 마스크 　 조성물 을 이용 한 반사 방지 하드 마스크 층 을 형성 시키 는 단계 ;　( c ) 상기 반사 방지 하드 마스크 　 층 위 로 방사선 - 민감 성 이미지 화 층 을 형성 시키 는 단계 ;　( d ) 상기 방사선 - 민감 성 　 이미지 화 층 을 방사선 에 패턴 방식 으로 노출 시킴 으로써 상기 방사선 - 민감 성 　 이미지 화 층 내 에서 방사선 - 노출 된 영역 의 패턴 을 생성 시키 는 단계 ;　( e ) 상기 방사선 - 민감 성 　 이미지 화 층 및 상기 반사 방지 하드 마스크 층 의 일부 를 　 선택 적 으로 제거 하 여 재료 층 의 일부 를 　 노출 시키 는 단계 ; 및 　( f ) 상기 재료 층 의 노출 된 부분 을 에칭 함 으로써 패턴 화 된 재료 형상 을 형성 시키 는 단계 를 포함 하 는 기판 상 의 재료 의 패턴 화 　 방법 이 제공 된다 .