도 6 ( B ) 에 나타내 는 바 와 같이 , 제 4 포토 마스크 를 사용 하 여 제 4 포토레지스트 ( 615 a , 615 b , 615 c ) 를 형성 하 고 , 제 4 포토레지스트 ( 615 a , 615 b , 615 c ) 를 사용 하 여 , 제 2 투명 도전 막 ( 614 ) 을 습식 에칭 법 에 의해 에칭 하 여 복수 의 슬릿 을 형성 한다 .