또한 , 반응 실 의 상부 를 향하 여 잔존 소스 가스 와 반응 가스 를 분리 배기 함 으로써 , 배기 시 기판 ( W ) 상 의 미세 구조 사이 에 파티클 등 이 잔류 하 는 것 을 줄일 수 있 고 , 파티클 등 이 배기 되 는 과정 에서 기판 ( W ) 의 표면 에 부딪혀 성막 품질 이 저하 되 는 것 을 줄일 수 있 다 . 즉 , 소스 가스 배기 라인 ( 141 ) 및 반응 가스 배기 라인 ( 142 ) 이 기판 ( W ) 위 를 통과 할 때 , 기판 ( W ) 의 상부 미세 공간 내지 구조 사이 에 존재 하 는 파티클 등 이 배기 라인 ( 141 , 142 ) 을 통해 반응 실 ( R ) 외부 로 제거 됨 으로써 기판 ( W ) 의 증착 품질 이 저하 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 .