프린트 배 선판 , 리드 프레임 , 메탈 마스크 , 섀도 마스크 , 반도체 패키지 , 전극 부재 , 전자파 실드 , 정밀 스프링 등 의 제조 에 있 어서 , 금속 기재 의 에칭 이나 금속 도금 등 의 금속 가공 을 행할 때 , 레지스 트 가 사용 되 고 있 다 . 예 를 들 어 , 메탈 마스크 , 리드 프레임 , 섀도 마스크 등 의 제조 에 있 어서 , 금속 기재 를 에칭 하 는 방법 으로 는 , 감광성 수지 조성물 을 함유 하 는 감광성 수지 층 을 금속 기재 상 에 형성 하 고 , 다음 으로 패턴 노광 을 실시 하 여 노광 부를 경화 시키 며 , 이어서 알칼리 현상 을 실시 하 여 비노 광부 의 감광성 수지 층 을 제거 하 여 경화 된 감광성 수지 층 을 포함 하 는 레지스 트 패턴 을 형성 한 후 , 노출 되 어 있 는 금속 기재 에 에칭 액 을 분사 함 으로써 , 금속 기재 의 에칭 을 행하 는 에칭 방법 을 들 수 있 다 .