도 9 는 제 4 실시 예 에 따른 메모리 셀 어레이 의 자기 조립 중합체 공정 을 도시 한 도면 이 고 , 도 10 은 제 4 실시 예 에 따른 메모리 셀 어레이 의 자기 조립 중합체 공정 을 나타낸 흐름 도 이 다 . 형성 동작 ( 1010 ) 에서 , 폴리스티렌 ( PS ) 와 폴리 메틸 메타크릴 레이트 ( PMMA ) : ( PS : PMMA ) 또는 폴리스티렌 ( PS ) 과 폴리 ( 에틸렌 산화물 ) : PS - b -( PEO + PMS ) 같이 이중 블록 공중 합체 와 같 은 자기 조립 물질 의 층 은 필러 물질 의 표면 위 에 형성 된다 . 서브 어레이 경계 ( 905 ) 는 자기 조립 물질 또는 층 ( 910 ) 으로 충전 된다 . 예 를 들 어 , 경계 는 전술 된 평행사변형 형상 을 가질 수 있 다 . 경계 는 아래 놓인 층 의 그루브 의 벽 또는 자기 조립 물질 이 증착 되 는 층 의 에지 를 포함 할 수 있 다 .