메인 패턴 영역 및 외곽 영역 으로 구분 된 투명 기판 상 에 위상 반 전막 패턴 및 광차 단막 패턴 을 형성 하 고 , 투명 기판 상 에 상기 메인 패턴 영역 을 노출 시키 는 레지스 트 패턴 을 임프 린트 ( imprint ) 한 후 , 레지스 트 패턴 을 식각 마스크 로 상기 외곽 영역 의 위상 반 전막 패턴 의 선폭 을 원하 는 선폭 으로 보정 하 는 위상 반전 마스크 의 제조 방법 을 제조 한다 .