도 5 는 모서리 에 날카로운 에지 가 그대로 남 아 있 는 알루미늄 가공물 에 대해 산화 처리 한 결과 로 얻 어 진 산화 피막 의 개략 적 인 형태 를 보여 주 는 단면도 이 며 , 도 6 은 본 발명 에서 와 같이 , 모서리 에 둥근 형태 의 곡 면부 ( R ) 가 형성 된 알루미늄 가공물 에 대해 동일 한 조건 으로 산화 처리 한 결과 로 얻 어 진 산화 피막 의 개략 적 인 형태 를 보여 주 는 단면도 이 다 . 아 노다 이징 등 의 산화 공정 에서 는 외부 산소 가 가공물 의 표면 을 통해 내부 로 침투 하 게 되 고 , 반면 가공물 의 알루미늄 성분 은 그 표면 을 통해 외부 로 확산 되 면서 서로 친 밀도 가 높 은 산소 와 알루미늄 성분 이 상호 반응 하 여 산화 피막 을 형성 하 게 된다 . 이렇게 형성 되 는 산화 피막 은 가공물 의 표면 에 수직 한 법선 방향 으로 성장 하 는 특성 이 있 으므로 , 도 5 에 도시 된 바 와 같이 , 인접 한 제 1 , 제 2 면 ( P 1 , P 2 ) 이 만나 는 모서리 부분 이 각 진 형태 로 남 아 있 게 되 면 , 산화 피막 을 따 라 , 제 1 면 ( P 1 ) 으로부터 성장 되 는 제 1 산화 막 ( L 1 ) 과 제 2 면 ( P 2 ) 으로부터 성장 되 는 제 2 산화 막 ( L 2 ) 사이 에 는 도시 된 바 와 같이 산화물 이 존재 하 지 않 는 크랙 ( crack , C ) 이 형성 되 기 쉽 다 . 또는 구체 적 인 산화 공정 조건 , 예 를 들 어 , 공정 시간 이나 인가 전류 등 에 따라 , 산화 피막 에 크랙 ( C ) 이 형성 되 지 않 을 수 도 있 으나 , 적어도 대응 되 는 모서리 부분 에 형성 된 산화물 은 성긴 내부 조직 때문 에 , 충분 한 정도 의 절연 성 을 제공 하 지 못하 고 , 내전압 특성 이 낮 아 쉽 게 파괴 되 는 특성 을 갖 게 된다 .