한편 , 미세화 의 진행 과 함께 광 의 회절 현상 은 물리 적 인 한계 에 접근 하 고 있 고 , 그 에 따라 패턴 형성 에 적용 되 는 노 광광 의 콘트 라스트 가 저하 되 고 있 다 . 이러 한 물리 적 인 한계 는 , 포지티브 형 레지스 트 막 에 있 어서 는 용해 콘트 라스트 의 저하 를 초래 하 고 있 고 , 이것 에 의해 홀 패턴 이나 트렌치 패턴 의 해상 성 이나 포커스 마진 의 열화 가 발생 하 고 있 다 . 이러 한 한계 상태 에 있 어서 의 패턴 형성 성능 의 열화 를 막 기 위한 기술 로서 , 레지스 트 막 의 용해 콘트 라스트 를 향상 시킬 필요 가 있 다 . 화학 증폭 형 레지스 트 에 있 어서 는 , 용해 콘트 라스트 의 향상 방법 으로서 광산 발생 제 로부터 발생 한 산 의 증식 기구 를 이용 하 여 고감도 화 하 고 , 노 광광 의 콘트 라스트 저하 의 영향 을 최소 화 하 는 시도 가 이루어지 고 있 다 .