사진 석판 기법 을 의한 박막 패턴 제조 방법 의 단점 을 해소 하 기 위한 방 안 으로 , 소프트 리 소그 래픽 기법 을 이용 하 는 박막 패턴 제조 방법 이 제안 되 고 있 다 . 이 소프트 리 소그 래픽 기법 의 박막 패턴 제조 방법 에 따르 면 , 반도체 기판 , 유리 기판 또는 기 형성 된 박막 상 에 하이드 로포 빅 ( Hydrophobic ) 패턴 을 인쇄 된다 . 하이드 로포 빅 패턴 에 의하 여 노출 된 기판 또는 박막 상 에 나노 물질 수용액 ( 또는 반죽 ( Paste ) ) 이 증착 ( Evaporation , 또는 코팅 ( Coating ) ) 된다 . 증착 된 나노 물질 수용액 이 건조 되 어 나노 물질 의 박막 패턴 이 형성 된다 . 이러 한 나노 물질 용액 ( 또는 반죽 ) 에 의한 박막 패턴 제조 방법 은 마스크 및 노광 장비 가 제거 되 게 함 과 아울러 물론 공정 , 시간 및 노력 이 현격 하 게 줄어들 게 한다 .