본 발명 에 따른 기술 의 또 다른 목적 은 커버 유닛 과 집진 유닛 이 적용 됨 으로써 커버 유닛 을 통해 건식 폴리 싱 작업 시 비산 되 는 분진 에 대하 여 비산 범위 를 극소 화 함 과 동시 에 집진 유닛 의 작 동시 폴리 싱 작업 시 발생 하 는 분진 을 외부 로 비산 됨 이 없이 집진 시켜 작업자 의 인체 에 유해 한 작업 환경 을 개선 할 수 있 도록 함 에 있 다 .