멀티 빔 을 사용 한 묘화 장치 는 , 1 개 의 전자 빔 으로 묘화 하 는 경우 에 비하 여 , 한 번 에 많 은 빔 을 조사 할 수 있 으므로 , 스루풋 을 대폭 향상 시킬 수 있 다 . 멀티 빔 묘화 장치 의 한 형태 인 블 랭킹 애퍼처 어레이 를 사용 한 멀티 빔 묘화 장치 에서 는 , 예 를 들 면 , 1 개 의 전자 총 으로부터 방출 된 전자 빔 을 복수 의 개구 를 가진 성형 애퍼처 어레이 를 통하 여 멀티 빔 ( 복수 의 전자 빔 ) 을 형성 한다 . 멀티 빔 은 , 블 랭킹 애퍼처 어레이 의 각각 대응 하 는 후술 하 는 블 랭 커 내 를 통과 한다 . 블 랭킹 애퍼처 어레이 는 , 빔 을 개별 적 으로 편향 하 기 위한 전극 쌍 을 가지 며 , 전극 쌍 의 사이 에 빔 통과 용 의 개구 가 형성 되 어 있 다 . 전극 쌍 ( 블 랭 커 ) 을 동 전위 로 제어 하 거나 , 또는 상이 한 전위 로 제어 함 으로써 , 통과 하 는 전자 빔 의 블 랭킹 편향 을 행한다 . 블 랭 커 에 의하 여 편향 된 전자 빔 은 차폐 되 고 , 편향 되 지 않 은 전자 빔 은 기판 상 에 조사 된다 .