도 1 을 참조 하 면 , 종래 의 노광 장치 를 통해 포 토리 소그라 피 공정 을 수행 하 면 , 프로 젝 션 렌즈 부 ( 100 ) 내 에 존재 하 고 있 는 퓨 필 면 ( 101 ) 에 포토 마스크 상 에 형성 된 패턴 사이 의 간격 ( spacing ) 에 따라 맺히 는 광 의 성분 은 다르 게 나타난다 . 즉 , 노광 광원 으로부터 방출 된 광 의 성분 은 퓨 필 면 중심부 에 맺히 는 0 차 광과 , 포토 마스크 의 패턴 사이 의 간격 이 증가 할수록 광 의 성분 이 증가 하 여 중심부 로부터 ± 1 차 광 , ± 2 차 광 , ± 3 차 광 이 맺히 게 된다 . 광 의 성분 이 증가 하 면서 , 웨이퍼 에 투영 되 는 광 의 세기 가 커 셔 웨이퍼 상 에 형성 되 는 패턴 을 원하 는 타 겟 CD 에 맞출 수 없 게 된 다 .