간명 함 을 위해 , " 투영 시스템 은 이후 에 "" 렌즈 "" 라고 언급 될 수 있 다 ; 하 지만 ", 이 용어 는 예 를 들 어 굴절 광 학기 , 반사 광학 기 및 카타 디옵 트릭 ( catadioptric ) 시스템 을 포함 하 는 다양 한 타입 의 투영 시스템 들 을 포괄 하 는 것 으로서 폭넓 게 해석 되 어야 한다 . 또한 , 방사선 시스템 은 방사선 투영 빔 을 지향 , 성형 또는 제어 하 기 위해 이 설계 유형 들 중 어느 하나 에 따라 작동 하 는 구성 요소 들 을 포함 할 수 있 으며 , " 이러 한 구성 요소 들 은 아래 에서 집합 적 으로 또는 개별 적 으로 "" 렌즈 "" 라고 언급 될 수 있 다 . 또한 "," 리소그래피 장치 는 2 이상 의 기판 테이블 ( 및 / 또는 2 이상 의 마스크 테이블 ) 을 갖 는 형태 로 구성 될 수 있 다 . 이러 한 "" 다수 스테이지 "" 디바이스 에서 는 추가 테이블 들 이 병행 하 여 사용 될 수 있 으며 ", 또는 1 이상 의 테이블 이 노광 에 사용 되 고 있 는 동안 1 이상 의 다른 테이블 에서 는 준비 작업 단계 가 수행 될 수 있 다 . 트윈 스테이지 ( twin stage ) 리소그래피 장치 는 , 예 를 들 어 본 명세서 에서 인용 참조 되 고 있 는 US 5 , 969 , 441 에서 설명 된다 .