도 9 를 참조 하 면 , 플래시 어 닐 공정 을 1300 ℃ 의 온도 에서 진행 한 측정 데이터 ' 360 ' 의 경우 , 1150 ℃ 의 온도 에서 진행 한 측정 데이터 ' 350 ' 와 급속 열처리 ( RTA ) 의 측정 데이터 ' 370 ' 의 경우 보다 도핑 프로파일 의 가파름 ( steepness ) 정도 가 우수 한 프로 파일 을 확보 하 는 것 으로 해석 될 수 있 다 . 이 에 따라 플래시 어 닐 공정 은 1300 ℃ 이상 의 온도 에서 진행 하 였을 때 , 보다 가파른 ( steep ) 도핑 프로 파일 을 갖 는 SSR 웰 영역 을 형성 할 수 있 는 것 으로 파악 된다 .