SOF 는 인쇄 시스템 과 방법 의 일부분 으로 픽 실 레이티 드 된 광전도체 를 사용 하 는 장치 에 포함 될 수 있 다 . 상기 구 현예 에서 , 알려진 시스템 및 방법 과 비교 하 여 SOF 를 포함 할 수 있 는 , 픽 실 레이티 드 된 광전도체 를 제외 한 특수 화 된 구성 요소 에 대한 요구 가 있 기 때문 에 부품 수 ( par count ) 는 감소 된다 . 세 척 필요 성 또한 정전기 근접 인쇄 에 대한 다양 한 종래 접근 들 과 비교 하 여 감소 될 수 있 다 . 또한 , 고해상도 가 가능 하 고 , 값비싼 토너 잉크 는 필요 하 지 않 을 수 있 고 , 벨트 구조 가 사용 될 수 있 다 . 벨트 구조 는 긴 현상 닙 ( long development nip ) 을 제공 하 는 데 사용 될 수 있 기 때문 에 벨트 구조 가 편리 하 며 , 이 는 빠른 인쇄 용 또는 더욱 큰 점성 잉크 용 으로 바람직 하 다 .