공지 된 산란계 의 예 는 , US 2006033921 A 1 및 US 2010201963 A 1 에서 설명 되 는 타입 의 각도 분해 산란계 ( angle - resolved scatterometer ) 를 포함 한다 . 그러 한 산란계 에 의해 사용 되 는 타 겟 은 상대 적 으로 큰 , 예 를 들 면 , 40 ㎛ × 40 ㎛ 의 격자 ( grating ) 이 고 , 측정 빔 은 격자 보다 더 작 은 스팟 을 생성 한다 ( 즉 , 격자 는 다 채워 지 지 않 는다 ( underfilled ) ) . 재 구성 에 의한 피쳐 형상 의 측정 외 에 , 공개 된 특허 출원 US 2006066855 A 1 에서 설명 되 는 바 와 같이 , 그러 한 장치 를 사용 하 여 회절 기반 의 오버레이 가 측정 될 수 있 다 . 오버레이 측정 은 , " 상이 한 프로그래밍 된 ( 계획 적 인 ) 오프셋 또는 "" 바이어스 "" 를 각각 갖 는 두 개 의 오버레이 격자 의 비대칭 성 을 측정 하 는 것 에 의해 통상 적 으로 획득 된다 . 회절 차수 의 암시 야 이미 징 ( dark - field imaging ) 을 사용 하 는 회절 기반 의 오버레이 계측 은 더 작 은 타 겟 에서 오버레이 측정 을 가능 하 게 한다 . 암시 야 이미 징 계측 의 예 는 ", 공개 된 특허 출원 US 2014192338 및 US 2011069292 A 1 에서 발견 될 수 있 다 . 기술 의 추가 적 인 개발 은 몇몇 공개 된 특허 공개 공보 에서 설명 되 어 있 다 . 이 들 타 겟 은 조명 스팟 보다 더 작 을 수 있 고 웨이퍼 상 의 제품 구 조체 에 의해 둘러싸 일 수 도 있 다 . 복합 격자 타 겟 을 사용 하 여 , 하나 의 이미지 에서 다수 의 격자 가 측정 될 수 있 다 . 이 들 개발 은 , ( 일단 교정 되 면 ) 빠르 고 계산 적 으로 매우 간단 한 오버레이 측정 을 허용 하 였 다 .