이후 , 도 1 e 에서 는 , 상기 도 1 c 의 결과물 상 에 패 터닝 되 었 던 제 2 포토레지스트 패턴 ( 110 ) 을 제거 하 는데 , 이때 비 아홀 ( 106 ) 내 에 잔존 하 는 희생 막 ( 108 ) 도 함께 제거 된다 . 하지만 , 트렌치 형성 시 유발 된 폴리머 가 희생 막 ( 108 ) 상부 에 잔존 하 여 트렌치 형성 용 포토레지스트 패턴 ( 110 ) 제 거시 희생 막 ( 108 ) 동시 제거 를 방해 하 여 비 아홀 ( 106 ) 내 에 희생 막 ( 108 ) 이 잔존 하 게 되 는 경우 도 발생 할 수 있 다 . 이 경우 , 콘택트 가 제대로 오픈 되 지 않 은 결과 를 초래 한다 ( contact not open ) . 이러 한 현상 을 방지 하 기 위해 트렌치 형성 을 위한 식각 진행 후 폴리머 제거 를 위한 후처리 ( PET : Post Etch Treatment ) 를 할 수 밖에 없 어 공정 시간 이 늘어남 은 물론 공정 비용 이 증가 하 게 된다 .