이때 , 각 패턴 들 간 에 발생 하 는 선폭 변화 량 의 차이 는 각 패턴 에 대한 EL 값 ( Exposure Latitude ) 및 MEEF ( Mask Error Enhancement Factor ) 값 을 고려 하 여 계산 할 수 있 다 . 이러 한 선폭 변화 량 의 차이 값 을 산출 하 는 일 예 가 도 4 a 내지 도 4 d 에 도시 되 어 있 다 . 도 4 a 에 제 1 패턴 ( 2 ) 인 아이 솔 레이티 드 라인 과 제 2 패턴 ( 4 ) 인 스페이스 라인 의 △ CD 값 의 차이 와 제 1 패턴 ( 2 ) 아이 솔 레이티 드 라인 과 제 3 패턴 ( 6 ) 인 덴 스 라인 의 △ CD 값 의 차이 가 그래프 로 도시 되 어 있 다 . 이하 에서 는 , 웨이퍼 스케일 상 에서 의 목표 선폭 과 그 선폭 값 의 변화 값 인 MTT ( Mean To Target ) 가 5 nm 인 경우 로 가정 하 고 , 각 패턴 들 간 의 △ CD 값 의 차이 인 α 를 산출 하 는데 α 는 다음 의 수식 에 의해서 산출 된다 .