상기 외부 자극 ( 135 ) 에 의해 상기 제 1 부분 ( 124 A ) 의 표면 또는 전체 는 선택 적 으로 산화 될 수 있 다 . 이 경우 에 , 상기 제 1 부분 ( 124 A ) 은 표면 에너지 가 변하 여 상기 제 2 부분 ( 124 B ) 에 비해 친수성 ( hydrophile property ) 이 증가 할 수 있 다 . 따라서 , 상기 제 1 부분 ( 124 A ) 은 극성 분자 에 대한 젖 음성 ( wettability ) 이 증가 한다 . 상기 외부 자극 ( 135 ) 의 일 예 는 산소 분위기 에서 의 복사선 ( radiation ) 일 수 있 다 . 상기 복사선 은 DUV ( deep UV ) , 소프트 X - 선 , 또는 E - 빔 일 수 있 다 . 구체 적 으로 , 대기 중 에서 1 kW 의 Hg - Arc 램프 를 사용 하 여 1 ~ 30 분 정도 UV 를 조사 할 수 있 다 . 상기 외부 자극 ( 135 ) 의 다른 예 는 산소 플 라즈 마일 수 있 다 . 부연 하 면 , 상기 개구부 ( 130 h ) 내 에 노출 된 상기 이미지 층 ( 124 ) 의 표면 을 산소 플 라즈 마 에 노출 시켜 선택 적 으로 산화 된 제 1 부분 ( 124 A ) 을 형성 할 수 있 다 . 상기 산소 플 라즈 마 를 사용 하 는 경우 , 상기 UV 램프 를 이용 하 는 경우 에 비해 공정 시간 을 단축 할 수 있 다 .