TFT 형 액정 표시 장치 ( LCD ) 와 유기 발광 표시 장치 ( OLED ) 제조 공정 시 층간 에 배치 되 는 배선 의 사이 를 절연 하 기 위해서 층간 절 연막 을 사용 하 고 있 다 . 그런데 , 최근 고속 응답 , 고해상도 장치 ( Device ) 가 개발 되 면서 고개 구율 및 저 저항 배선 기술 이 요구 됨 에 따라 회로 의 폭 은 줄이 고 , 두께 를 높 게 형성 하 게 되 어 TFT 의 단차 가 커지 는 경향 을 나타낸다 . 이 경우 , 평탄 화도 를 위해 적용 되 는 층간 절 연막 의 두께 가 상승 되 는데 , 이 는 감도 , 투명 성 의 저하 를 일으키 는 원인 이 되 어 표시 장치 패널 의 생산 성 및 품질 을 저하 시키 게 된다 . 따라서 , 감도 , 투명 성 등 이 우수 한 절 연막 개발 이 절실히 요구 되 고 있 다 .