또한 , 하나 의 정렬 마크 만 을 갖 는 교정 기판 을 사용 하 는 것 이 고려 될 수 있 고 , 이 는 그 후 제 1 측면 의 교정 단계 와 제 2 측면 의 교정 단계 사이 에서 변위 되 어야 한다 . 교정 기판 의 병진 변위 동안 , 특히 평평 한 기판 의 가정 하 면 정렬 마크 는 가능 한 한 일정 한 z - 위치 를 유지 해야 한다 . 일반 적 으로 , 기판 표면 에 대한 z - 간격 은 기판 의 모든 위치 에서 일정 해야 한다 . 예 를 들 어 , 기판 이 만곡 되 면 , 렌즈 시스템 및 / 또는 z - 방향 으로 의 기판 의 후 - 교정 은 렌즈 시스템 에 대한 기판 의 병진 변위 가 있 을 때 발생 하 는 것 이 바람직 하 다 . 무시 할 수 있 는 곡률 의 경우 이러 한 교정 을 생략 할 수 있 다 . 교정 후 , 포 커싱 평면 은 4 개 의 모든 렌즈 시스템 의 영역 의 깊이 내 에 위치 한다 . 초점 평면 과 후속 접합 평면 은 일치 하 는 것 이 바람직 하 다 . 렌즈 시스템 의 교정 이 수행 되 면 , 본 발명 에 따른 실제 공정 이 시작 될 수 있 다 . 교정 공정 는 WO 2014202106 A 1 에서 찾 을 수 있 다 .