본 발명 은 높 은 종횡비 의 식각 을 위한 플 라즈 마 반응기 및 그 의 식각 방법 을 제공 하 고 , 상기 플 라즈 마 반응기 는 , 내부 에 반응 공간 이 형성 되 는 반응 챔버 ; 상기 반응 공간 의 하부 에 배치 되 며 처리 할 기판 을 지지 하 는 베이스 ; 상기 반응 챔버 내부 의 상부 에 배치 되 는 가스 샤워 헤드 ; 를 포함 하 고 , 제 1 RF 전원 은 제 1 주파수 를 갖 는 RF 전력 을 상기 베이스 또는 상기 가스 샤워 헤드 에 출력 하 고 반응 챔버 내부 에 플 라즈 마 를 형성 하 고 유지 한다 . 제 2 RF 전원 은 제 2 주파수 를 갖 는 RF 전력 을 상기 베이스 에 출력 하 고 상기 베이스 에 입사 되 는 이온 에너지 를 제어 한다 . 상기 제 1 주파수 는 4 MHz 보다 크 고 상기 제 2 주파수 가 10 KHz 이상 이 며 300 KHz 이 하 다 .