본 발명 은 자석 에 의해 적정 압력 으로 마사지 할 수 있 고 , 같 은 극 끼리 마주 보 게 구비 되 는 자석 의 거리 를 조절 함 에 따라 마사지 압력 을 간편 하 게 조절 하 며 마사지 할 수 있 으며 , 편심 되 어 회전 되 는 가압 자석 에 의해 원판 형태 의 팁 구동 자석 이 편심 되게 밀려 지 며 마사지 부위 를 효과 적 으로 마사지 할 수 있 는 것 을 특징 으로 한다 .