이 와 같이 하 면 , 제 1 행 그룹 ( G 1 ) 의 행 전극 의 어드레스 기간 동안 제 2 행 그룹 ( G 2 ) 의 행 전극 에 대해서 유지 기간 을 수행 할 수 있 고 , 제 2 행 그룹 ( G 2 ) 의 행 전극 의 어드레스 기간 동안 제 1 행 그룹 ( G 1 ) 의 행 전극 에 대해서 유지 기간 을 수행 할 수 있 다 . 즉 , 어 드레스 기간 과 유지 기간 이 분리 되 지 않 고 , 어 드레스 기간 동안 유지 기간 을 수행 할 수 있 으므로 , 한 서브 필드 의 길이 를 줄일 수 있 다 . 또한 각 부 그룹 의 유지 기간 사이 에 어 드레스 기간 이 형성 되 어 유지 기간 에서 형성 된 프라이밍 입자 를 어 드레스 기간 에서 충분히 활용 할 수 있 으므로 , 주사 펄스 의 폭 을 짧 게 하 여 고속 주사 를 할 수 있 다 . 따라서 , 한 필드 동안 에 사용 할 수 있 는 서브 필드 의 개수 가 많 아지므로 , 표현 할 수 있 는 최고 계조 레벨 을 높일 수 있 다 .