CD 보정 공정 은 메인 패턴 영역 ( A ) 을 노출 시킨 상태 에서 CD 보정 공정 을 수행 하 므로 , 실질 적 으로 레지스 트 패턴 이 필요 한 영역 은 메인 패턴 이외 의 투명 기판 상 의 외곽 영역 ( B ) 가 된다 . 여기 서 , 메인 패턴 영역 ( A ) 는 후속 투명 기판 상 에 위상 반 전막 패턴 만 형성 되 는 영역 이 고 , 외곽 영역 ( B ) 는 투명 기판 상 에 위상 반 전막 패턴 및 광차 단막 패턴 이 형성 되 는 영역 이 다 .