한편 , VT / ( VC × cos φ × cos θ ) 의 값 이 작아지 면 , 약액 노즐 ( 71 ) 로부터 토출 된 에칭 액 ( CHM ) 은 , 착 액 점 ( PF ) 에 착 액 한 후 에 착 액 점 ( PF ) 의 반경 방향 외측 의 영역 을 덮 도록 ( 적시 도록 ) 웨이퍼 ( W ) 의 표면 상 을 확산 되 고 , 이 후 웨이퍼 ( W ) 로부터 이탈 한다 . 이러 한 에칭 액 의 거동 을 에칭 액 의 ' 확산 ( 혹은 , 확산 후 의 이탈 ) ' 이라고 부르 고 , 에칭 액 의 확산 이 생기 는 조건 을 확산 조건 이 라고 부른다 .