도 16 을 참조 하 면 , 도전 막 ( 130 a ) 상 에 는 전면 적 에 걸쳐 포토레지스트 필름 ( 미 도시 ) 이 형성 되 고 , 포토레지스트 필름 은 노광 공정 및 현상 공정 을 포함 하 는 포토 공정 에 의하 여 패 터닝 되 고 , 이 로 인해 도전 막 ( 130 a ) 상 에 는 포토레지스트 패턴 ( 130 b ) 이 형성 된다 . 포토레지스트 패턴 ( 130 b ) 는 보조 패턴 ( 140 ) 과 대응 하 는 도전 막 ( 130 a ) 덮 는다 .