상기 제 2 다공성 산화 피막 ( 12 ) 상면 에 도포 된 PMMA ( 20 ) 가 고형 화 하 면 4 중량 % 의 염화철 ( FeCl 3 ) 과 5 M 염산 ( HCl ) 의 혼합 용액 에 넣 는 습식 식각 ( wet - etching ) 공정 을 거쳐 , 도 7 ( d ) 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 알루미나 템플 릿 ( 11 , 12 ) 을 제거 한다 .