또한 , 한국 등록 특허 제 0500643 호 는 나노 유화 입자 총 중량 에 대하 여 아 스코빌 테트라 이소 팔 미 테이트 0 . 05 ~ 10 . 0 중량 %, 코 엔 자임 Q - 10 0 . 1 ~ 10 . 0 중량 %, 및 토코페롤 0 . 01 ~ 10 . 0 중량 % 를 함유 하 고 , 유화제 로서 레시틴 3 ~ 10 중량 % 를 첨가 하 여 제조 한 나노 유화 입자 를 함유 하 는 항산 화용 피부 외용 제 조성물 을 개시 하 고 있 다 . 또한 , 한국 특허 공개 제 2001 - 0075886 호 에서 는 고압 호모지나이저 와 수 첨 레 시친 을 이용 한 화장료 용 유화 조성물 이 개시 된 바 있 다 . 그러나 , 상기 방법 들 에서 는 분산매 로서 물 을 사용 하 므로 입자 크기 100 nm 이상 의 불 안정 한 유화 입자 가 형성 되 는 문제 가 있 다 . 즉 , 일반 적 으로 분산매 로서 보습 제 나 정제 수 를 사용 할 경우 입자 크기 가 커지 고 안정 성 이 떨어진다 .