도 3 은 도 2 의 선 Ⅲ - Ⅲ 을 따라 자른 단면도 로 이 를 참조 하 면 , 전극 ( 10 , 20 ) 의 유로 에 대향 되 는 표면 위 에 다이아몬드 상 탄소 를 포함 하 는 박막 ( 12 , 14 ) 이 위치 한다 . 박막 ( 12 , 14 ) 은 예 를 들 면 , 13 . 56 MHz 정도 의 고주파 스퍼터 를 사용 하 여 형성 한다 . 탄소 소스 ( carbon source ) 로 는 고 순도 의 열압 축 탄소 캐소드 를 사용 한다 . 전극 ( 10 , 20 ) 에 박막 ( 12 , 14 ) 을 형성 하 는 공정 이전 에 불 산 ( HF ) 으로 전극 ( 10 , 20 ) 의 산화 막 을 제거 한 후 건조 한다 . 이어서 , 전극 ( 10 , 20 ) 의 한 면 에 열 스퍼터 방법 을 이용 하 여 다이아몬드 상 탄소 를 포함 하 는 박막 ( 12 , 14 ) 을 형성 한다 . 박막 ( 12 , 14 ) 은 브레이크 오일 이 접하 는 부분 에 만 형성 할 수 있 으며 , 브레이크 오일 이 접하 지 않 는 나머지 부분 에 도 형성 될 수 있 다 . 이때 박막 ( 12 , 14 ) 의 두께 는 100 nm 이하 로 조절 한다 . 박막 ( 12 , 14 ) 의 두께 는 30 nm 내지 50 nm 범위 로 형성 될 수 있 다 . 박막 ( 12 , 14 ) 두께 는 측정 시 가해 주 는 포 텐 셜 을 5 v 이 하로 조절 하 기 위한 것 으로 , 두께 가 100 nm 이상 인 경우 임피던스 의 증가 로 측정 시 신 호대 잡음 비 가 현저히 낮 아 지 는 현상 이 발생 한다 . 그리고 박막 ( 12 , 14 ) 의 막 성장 속도 는 분당 10 nm 로 제한 하 고 , 성장 압력 은 아르곤가스 를 사용 하 여 10 Torr 로 조절 한다 . 브레이크 오일 이 접촉 하 는 박막 ( 12 , 14 ) 면 에 는 핀홀 등 에 의해 박막 ( 12 , 14 ) 하부 의 전극 ( 10 , 20 ) 표면 이 브레이크 오일 에 노출 되 지 않 도록 한다 .