또한 , 상기 그리드 플레이트 는 그리드 제어 장치 에서 유전체 층 에 연결 된 홀 별 신호 라인 으로 인가 되 는 전계 값 을 근거 로 공정 완료 된 박막 이 균일 한 특성 을 갖 도록 비 균일 영역 에 해당 하 는 각 전극 라인 별 기 저장 된 기준 전원 정보 를 갱신 하 는 것 을 특징 으로 하 는 반도체 공정 시스템 용 그리드 장치 를 이용 한 박막 공정 방법 이 제공 된다 .