본 발명 의 다른 형태 에 따르 면 , 마이크로웨이브 를 발생 시키 는 제 1 발진기 , 상기 제 1 발진기 에서 발생 된 마이크로웨이브 를 전달 하 는 제 1 도파관 , 마이크로웨이브 를 발생 시키 는 제 2 발진기 , 상기 제 2 발진기 에서 발생 된 마이크로웨이브 를 전달 하 는 제 2 도파관 , 플라 즈 마 가스 및 금속 화합물 전구체 가 공급 되 도록 구비 되 며 , 상기 제 1 도파관 및 제 2 도파관 과 각각 상호 이격 된 위체 에서 결합 되 며 , 상기 제 1 도파관 으로부터 전달 받 은 마이크로웨이브 를 통해 금속 화합물 전구체 를 가열 하 여 기화 시키 는 기화 영역 이 형성 되 고 , 상기 제 2 도파관 으로부터 전달 받 은 마이크로웨이브 를 통해 기화 된 금속 화합물 전구체 를 플 라즈 마 반응 시키 는 플 라즈 마 반응 영역 이 형성 되 는 반응기 를 포함 하 는 마이크로웨이브 를 이용한 나노 분말 제조 장치 가 제공 될 수 있 다 .