이 에 따라 물리 적 세정 만 으로 오염 물질 을 완전히 제거 하 기 위해서 는 고압 의 물리 적 세정 방법 을 높 은 빈도 로 수행 하 여야 하 고 , 이 는 압력 지연 삼투 분리 막 을 손상 시키 며 압력 지연 삼 투막 시스템 의 전력 생산 효율 도 감소 시키 는 문제점 이 있 다 . 이 에 따라 본 발명 은 고압 조건 없이 물리 적 세정 을 수행 한 후 후술 하 는 바 와 같이 화학 적 세정 을 수행 하 여 막 손상 없이 오염 물질 의 효율 적 인 제거 가 가능 하 도록 한다 .