상기 광학 모니 터부 또는 광학 모니터 장치 는 , 도체 슬롯 판 및 유전체 창 을 통과 하 는 모니터링 용 의 광 도파 로 를 통해 , 그 와 같 은 플 라즈 마 처리 를 받 는 피 처리 기판 의 표면 을 인시 츄 로 광학 적 으로 감시 하 거나 또는 계측 한다 . 여기 서 , 슬롯 판 에 있 어서 는 , 메 쉬 형 의 투과 구멍 이 모니터링 용 의 광 도파 로 를 부여 하 는 한편 , 마이크로파 공급 부 로부터 공급 된 마이크로파 는 메 쉬 형 투과 구멍 의 부위 를 슬롯 이외 의 다른 부위 와 마찬가지 로 빠짐없이 원활히 전파 한다 . 이 에 따라 , 슬롯 안테나 의 전자파 방사 특성 의 균일성 ( 나아가 서 는 플 라즈 마 밀도 의 균일성 ) 에 영향 을 주 지 않 고서 , 파장 영역 이 넓 은 모니터 광 ( 특히 비 코 히 어 런 트 의 모니터 광 ) 을 전파 시키 는 데 알맞 은 모니터링 용 의 광 도파 로 를 구축 하 여 , 피 처리 기판 의 표면 에 대한 원 하 는 광학 적 인 모니터링 을 높 은 정밀도 로 안정 적 이 고 확실 하 게 행할 수 있 다 .