한편 , 유도 결합 플 라즈 마 처리 장치 는 기판 이 처리 되 는 공정 공간 에 유도 결합 플 라즈 마 를 발생 하 도록 고주파 전원 이 인가 되 는 안테나 , 절연체 인 유전체 및 유전체 를 지지 하 는 프레임 을 포함 한다 . 이러 한 유전체 와 프레임 은 챔버 의 내부 를 기판 이 처리 되 는 공정 공간 과 안테나 가 수용 되 는 수용 공간 으로 구획 한다 . 실질 적 으로 안테나 가 수용 되 는 수용 공간 은 리드 ( lid ) 에 의해 형성 된다 . 리드 의 내부 에 는 유전체 및 프레임 을 지지 , 즉 서 스펜 딩 ( suspending ) 하 기 위한 지지 빔 이 배치 된다 .