ＰＥＭ 에 의한 계측 과 동시 에 , 흡광도 측 정부 에서 도 측정 을 행하 고 , 성막 속도 를 산출 한다 . 특성 파 장광 을 포함 하 는 광 을 발하 는 광원 ( 10 ) 으로부터 챔버 ( 37 ) 내 에 설치 된 투광 부 ( 11 ) 에 광 을 전파 시킨다 . 투 광부 ( 11 ) 는 , 특성 파 장광 을 포함 하 는 광 을 스퍼터 입자 ( 40 ) 가 통과 하 는 공간 에 투광 하 고 , 전파 광 ( 50 ) 으로서 통과 시킨다 . 그 후 , 전파 광 ( 50 ) 은 수 광부 ( 12 ) 에 의해 제 2 의 광검 출부 ( 13 ) 에 도입 된다 . 제 2 의 광검 출부 ( 13 ) 는 분광기 에서 도 , 고감 도 광전자 증배 관 과 특성 파 장광 을 투과 하 는 협대 역 밴드 패스 필터 를 조합 한 것 이 라도 좋 다 . 제 2 의 연산 부 ( 14 ) 는 스퍼터 입자 ( 40 ) 가 존재 하 지 않 는 , 예 를 들 면 프로세스 의 직전 에 측정 한 광 강도 와 , 프로세스 중 의 스퍼터 입자 ( 40 ) 에 의해 감쇠 한 광 강도 의 비 를 평가 하 고 , ( 4 ) 식 에 나타낸 것 같이 흡광도 를 연산 한다 . 제 2 의 연산 부 ( 14 ) 는 , 흡광도 와 성막 속도 와 의 상대 관계 를 정리 한 흡광 도 변환 테이블 ( 81 ) 을 갖 고 있 고 , 연산 한 흡광도 로부터 추정 되 는 프로세스 중 의 성막 속도 Ｒa 를 도출 한다 .