상기 실시 예 및 비 교예 에서 제작 한 각 시편 을 고온 에서 열처리 하 여 열처리 에 대한 안정 성 을 살펴보 았 다 . 열처리 는 N 2 분위기 에서 각 실시 예 에 해당 하 는 시편 4 개 씩 을 가지 고 1 시간 동안 각각 600 ℃, 700 ℃, 800 ℃, 900 ℃ 에서 수행 하 였으며 , 열처리 후 X - ray 에 의한 미세 구조 의 변화 ( 1 st low angle peak 의 세기 변화 ) 를 측정 하 였 다 . 그 결과 는 하 기 표 2 에 나타내 었 다 .