전형 적 인 리 쏘 그래픽 공정 은 이미지 화 방사선 에 방사선 - 민감 성 레지스 트 를 패턴 방식 으로 노출 시킴 으로써 패턴 화 된 레지스 트 층 을 형성 시키 는 과정 을 수반 한다 . 　 이 어서 , 이미지 는 노출 된 레지스 트 층 을 임의 의 물질 ( 전형 적 으로 수성 알칼리 현상액 ) 과 접촉 시킴 으로써 현상 시킨다 . 　 이 어서 , 패턴 은 패턴 화 된 레지스 트 층 의 개구부 내 에 있 는 그 물질 을 에칭 시킴 으로써 이면 재료 에 전사 시킨다 . 　 전사 가 완료 된 후 , 잔류 하 는 레지스 트 층 은 제거 한다 .