본 발명 에 따른 이온 주입 장치 의 이온 소스 부 ( 10 ) 는 도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 이온 빔 이 생성 되 고 방출 되 는 장소 인 아크 챔버 ( 100 ) 와 , 아크 챔버 ( 100 ) 의 진공 을 형성 할 수 있 도록 진 공장 치 ( 미 도시 ) 와 연결 되 는 진공 유입 구 ( 102 ) 와 , 아크 챔버 ( 100 ) 에 이온 가스 ( 140 ) 를 공급 하 는 가스유 입구 ( 104 ) 와 , 열전자 ( 130 ) 를 방출 하 는 필라멘트 ( 106 ) , 이온 을 빔 라 인부 ( 미 도시 ) 로 배출 하 는 출구 ( 110 ) 를 포함 한다 .