하전 입자 시스템 ( 500 ) 은 다른 구성 들 을 가질 수 있 다는 것 이 유의 되 어야 한다 . 예컨대 , 하전 입자 시스템 ( 500 ) 은 하나 이상 의 다른 검출기 를 포함 할 수 있 고 , 하나 이상 의 렌즈 밖 ( out - of - lens ) 이 차 전자 검출기 를 포함 할 수 있 고 , 하나 이상 의 렌즈 내 x - 선 검출기 를 포함 할 수 있 고 , 다수 의 x - 선 검출기 들 을 포함 할 수 있 고 , 다수 의 이 차 전자 검출기 들 을 포함 할 수 있 고 , 컬럼 과 검출기 들 중 임의 의 검출기 사이 에 임의 의 공간 적 관계 가 존재 할 수 있 고 , 기판 의 조명 각도 가 기판 에 수직 이 아닐 수 있 고 , 임의 의 하전 입자 빔 이 도 5 에 도시 되 지 않 은 방식 들 로 편향 및 / 또는 조작 될 수 있 고 , 부가 적 인 광학 요소 들 , 이를테면 , 집속 렌즈 들 또는 임의 의 다른 광학 렌즈 또는 요소 가 존재 할 수 있 다 .