그리고 , 본 발명 에 따른 매 엽 식 기판 처리 장치 는 , 기판 ( W ) 표면 의 일정 한 막 을 제거 하 기 위하 여 산 용액 ( Acid Solution ) 을 사용 하 기 때문 에 , 주변 장비 보호 를 위하 여 스핀 헤드 ( 100 ) 의 둘레 에 보호 용기 ( 500 ) 가 설치 될 수 있 다 . 보호 용기 ( 500 ) 의 주위 에 는 , 스핀 헤드 ( 100 ) 에 의해 지지 되 는 기판 ( W ) 을 에칭 하 기 위한 각종 유 니트 ( 미도 시 됨 ) 들 이 구비 될 수 있 다 .