반도체 소자 의 패턴 크기 가 축소 되 고 또한 새로운 구조 의 반도체 소자 의 개발 이 이루어짐 에 따라 , 노광 과정 에 해상력 개선 기술 ( Resolution Enhancement Technology ) 의 사용 이 빈번 해 지 고 있 다 . 이러 한 해상력 개선 기술 의 하나 로 다이폴 조명계 ( dipole illumination ) 와 같 은 비대칭 성 조명계 를 노광 과정 에 도입 하 고 있 다 . 다이폴 조명계 를 도입 할 경우 , 라인 및 스페이스 ( line & space ) 의 회로도 를 보다 미세 하 게 구현 할 수 있 는 장점 을 구현 할 수 있 다 . 패드 ( pad ) 와 같 은 라인 패턴 에 비해 상대 적 으로 넓 은 크기 및 이격 간격 을 가지 게 설계 되 는 큰 패턴 의 주변 에 , 원 하 지 않 은 포토레지스트 잔류물 인 스컴 ( scum ) 이 수반 될 수 있 다 .