[ 30 ] 상기 [ 28 ] 또는 [ 29 ] 에 기재 된 네거티브 형 감광성 수지 조성물 을 기판 상 에 도포 하 는 도포 공정 , 그 층 을 노광 하 는 노광 공정 , 노광 후 에 가열 하 는 공정 , 미노 광부 를 현상액 으로 용출 제거 하 는 현상 공정 , 및 얻 어 진 릴리프 패턴 을 가열 하 는 가열 공정 을 포함 하 는 , 경화 릴리프 패턴 의 형성 방법 .