이러 한 CCVD 공정 에서 생성 되 는 실리콘 산화 피막 의 특성 은 여러 가지 조업 조건 에 의해 결정 된다 . 본 발명 에서 는 전구체 로서 HMDSO 를 이용 하 여 실리콘 산화 피막 을 형 성할 때 접착성 에 영향 을 미치 는 다양 한 인자 의 검토 를 통해 최적 의 조업 조건 을 도출 하 는 데 특징 이 있 다 . 전 구체 로서 HMDSO 를 이용 하 여 수산 화기 ( hydroxyl ) 를 다량 함유 한 실리콘 산화 피막 이 형성 된다 . 이 피막 은 피착 제 표면 의 반응 성 , 나노 크기 의 미세 조도 를 높여서 보호 피막 이나 기능 성 부여 를 위한 코팅 및 접착성 필름 에 대한 접 성 이 증대 되 는 것 이 요구 된다 .