본 발명 은 레지스 트 하층 막 용 하드 마스크 조성물 및 이 를 이용 한 반도체 집적회로 디바이스 의 제조 방법 에 관한 것 으로 , 구체 적 으로 패턴 의 재현 성 이 우수 하 고 , 레지스 트 와 의 밀착 성 이 우수 하 며 , 레지스 트 를 노광 한 후 사용 하 는 현상 막 에 내성 이 우수 하 고 레지스 트 의 산소 애 싱 ( Ashing ) 시 의 막 감소 가 적 은 레지스 트 의 하층 막 용 조성물 을 제공 할 수 있 다 .