한편 , 본 발명 의 실시 예 들 에 따른 상기 노볼락 기반 의 유기 고분자 를 이용 할 경우 , 상기 제 1 하부 패턴 ( UL 1 ) 의 높이 가 줄어드 는 것 을 최소 화 할 수 있 다 . 구체 적 으로 , 상기 트리밍 공정 동안 줄어든 상기 제 2 길이 ( T 2 ) 는 , 상기 제 1 길이 ( T 1 ) 보다 크 고 상기 제 1 길이 ( T 1 ) 의 1 . 5 배 보다 작 을 수 있 다 .