도 3 f 에 도시 된 바 와 같이 , 남 아 있 는 스 페이서 ( 25 A ) 및 하드 마스크 패턴 ( 23 A ) 을 제거 하 는데 , 습식 세정 을 통해 제거 한다 . 이때 , 스 페이서 ( 25 A ) 과 하드 마스크 패턴 ( 23 A ) 이 산화 막 물질 인 경우 에 는 불 산 ( HF ) 을 포함 하 는 용액 을 사용 하 여 제거 하 며 , 질화 막 물질 인 경우 에 는 인산 ( H 3 PO 4 ) 을 포함 하 는 용액 을 사용 하 여 제거 한다 .