본 발명 은 부분 홀로그램 형성 에 따른 무늬 디자인 형성 폭 을 넓힐 수 있 고 , 또 부분 홀로그램 형성 을 위한 인쇄 핀트 를 일일이 맞추 지 않 아도 되 는 장식 성 이 우수 한 부분 홀로그램 을 갖 는 전사지 의 제조 방법 물품 을 제공 하 기 위한 것 이 며 , 본 발명 은 이 를 위하 여 열 전사 를 위한 기재 필름 ( 10 ) 을 준비 하 는 단계 ( S 10 ) 와 ; 상기 기재 필름 ( 10 ) 의 어느 일면 에 선택 적 으로 인쇄 되 어 상기 기재 필름 ( 10 ) 에 대한 이 형성 을 부여 하 기 위한 이 형 층 ( 20 ) 을 형성 하 는 단계 ( S 20 ) 와 ; 상기 이 형 층 ( 20 ) 의 표면 에 홀로 그램 조각 무늬 의 인쇄 를 용이 하 게 하 기 위한 홀로그램 약제 층 ( 30 ) 을 형성 하 는 단계 ( S 30 ) 와 ; 상기 홀로그램 약제 층 ( 30 ) 의 표면 으로 다양 한 형태 의 홀로그램 조각 무늬 인쇄 층 ( 40 ) 을 형성 하 는 단계 ( S 40 ) 와 ; 상기 홀로그램 조각 무늬 인쇄 층 ( 40 ) 의 표면 으로 희망 하 는 각종 형태 의 무늬 를 인쇄 하 는 무늬 인쇄 층 ( 50 ) 을 형성 하 는 단계 ( S 50 ) 와 ; 상기 무늬 인쇄 층 ( 50 ) 을 제외 한 나머지 부분 의 홀로그램 조각 무늬 인쇄 층 ( 40 ) 의 표면 으로 수용성 수지 층 ( 60 ) 을 도포 하 는 단계 ( S 60 ) 와 ; 상기 수용성 수지 층 ( 60 ) 을 포함 하 여 상기 무늬 인쇄 층 ( 50 ) 의 표면 전체 에 증착 층 ( 70 ) 을 형성 하 는 단계 ( S 70 ) 와 ; 상기 무늬 인쇄 층 ( 50 ) 의 표면 으로 형성 되 는 증착 층 ( 70 ) 을 제외 한 나머지 증착 층 및 무늬 인쇄 층 ( 50 ) 의 사이 에 형성 되 는 수용성 수지 층 ( 60 ) 을 세 척수로 제거 하 여 세척 공간 ( 80 ) 을 형성 하 기 위한 세척 단계 ( S 80 ) 와 ; 상기 세척 과정 을 통해 제거 된 세척 공간 ( 80 ) 과 제거 되 지 않 은 나머지 증착 층 의 표면 으로 균일 하 게 코팅 되 어 지 되 상기 세척 과정 에서 제거 된 세척 공간 ( 80 ) 을 통해 해당 부분 의 홀로그램 조각 무늬 인쇄 층 ( 40 ) 으로 용제 가 침투 되 어 무늬 인쇄 층 ( 50 ) 을 제외 한 나머지 부분 으로 존재 하 는 홀로그램 조각 무늬 의 빛 반사 를 차단 하 기 위한 프라이머 코팅 층 ( 90 ) 을 형성 하 는 단계 ( S 90 ) 와 ; 상기 프라이머 코팅 층 ( 90 ) 의 표면 전체 에 보 호지 ( 110 ) 로 보호 되 는 접착 층 ( 100 ) 을 형성 하 는 단계 ( S 100 ) 을 거쳐 제조 되 는 것 이 다 .