도 1 을 참조 하 면 , 기판 처리 장치 ( 100 ) 는 글래스 ( glass ) 기판 의 포 토리 소그라 피 ( photolithography ) 공정 을 처리 하 는 인라인 타입 ( in - line type ) 의 장치 로서 , 인덱스 ( index ) ( 102 ) 와 , 공정 처 리부 ( 104 ) 및 노광 시스템 ( 130 ) 을 포함 한다 . 기판 처리 장치 ( 100 ) 는 본 발명 의 레이아웃 ( layout ) 을 적용 하 여 노광 시스템 ( 130 ) 이 근접 되 는 공정 처 리부 ( 104 ) 의 모서리 부분 에 복수 개 의 베 이크 유닛 ( 110 , 120 ) 들 이 배치 된다 . 또 기판 처리 장치 ( 100 ) 는 도면 에 는 도시 되 지 않 았 지만 , 인덱스 ( 102 ) 와 공정 처 리부 ( 104 ) 및 노광 시스템 ( 130 ) 상호 간 에 기판 을 이송 하 기 위한 장치 예 를 들 어 , 컨베이어 장치 및 / 또는 적어도 하나 의 이송 로봇 들 을 구비 한다 .