또한 , 상기 실시 형태 에 관련 된 디바이스 제조 시스템 에 있 어서 는 , 마크 형성 장치 ( 61 ) 에 의해 형성 된 화면 배치 용 마크 의 위치 를 마크 검출 장치 ( 62 ) 에 의해 검출 하 고 있 는데 , 마크 검출 장치 ( 62 ) 에 의해 기판 ( P ) 의 에지 위치 를 검출 하 도록 해도 된다 . 이 경우 에 는 , 마크 형성 장치 ( 61 ) 를 구비 할 필요 가 없 어 , 장치 의 콤팩트 화 및 저 비용 화 를 도모 할 수 있 다 . 또한 , 화면 배치 용 마크 및 / 또는 기판 의 에지 를 검출 하 는 마크 검출 장치 ( 62 ) ( 또는 전술 한 얼라이먼트 계 등 ) 는 화상 처리 방식 이 어도 되 고 , 검출 대상 으로부터 발생 하 는 회절 광 또는 산란광 을 검출 하 는 방식 이 어도 된다 .