하나 의 예시 적 실시 형태 에 따른 열처리 장치 는 , 레지스 트 의 피막 이 형성 되 고 , 상기 피막 에 노광 처리 가 실시 된 기판 을 열처리 하 는 열처리 장치 로서 , 상기 기판 을 지지 하 여 가열 하 는 열 판과 , 상기 열 판 상 의 처리 공간 을 덮 는 챔버 와 , 상기 챔버 내 에 있 어서 , 처리 용 가스 를 상기 열 판 상 의 상기 기판 을 향해 상방 으로부터 토출 하 는 가스 토출 부 와 , 상기 챔버 내 에 있 어서 , 상기 기판 의 표면 보다 하방 으로부터 상기 챔버 내 에 기체 를 공급 하 는 기체 공급 부 와 , 상기 처리 공간 의 상방 에 형성 된 하방 으로 개구 하 는 배기 구멍 으로부터 상기 챔버 내 를 배기 하 는 배기 부 를 갖 는다 .