상술 한 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 반도체 제조 설비 용 정전 척 장치 는 , 공정 챔버 내 의 하부 전극 상 에 구비 되 어 그 상면 상 에 웨이퍼 를 안 착하 여 고정 하 며 , 상기 웨이퍼 를 안착 시키 거나 이탈 시키 기 위해 승하 강 작동 되 는 다 수개 의 리프트 핀 을 구비 하 고 , 상기 리프트 핀 은 상부 연결 축 과 자 중체 와 하부 연결 축 으로 일체 로 구성 되 며 , 상기 자 중체 윗 부분 은 상기 하부 전극 내 에 형성 되 는 상부 이동 홀 내 에 위치 되 고 , 상기 자 중체 아랫 부분 은 상기 상부 이동 홀 의 하부 측 에 형성 되 는 하부 이동 홀 내 에 위치 되게 되 는 반도체 제조 설비 용 정전 척 장치 에 있 어서 , 상기 하부 연결 축 과 상기 하부 이동 홀 간 의 미세 틈새 부분 을 폐쇄 하 여 공정 진행 에 따라 생성 되 는 이 물질 이 상기 틈새 내 에 부착 누적 되 는 것 을 방지 하 면서 상기 하부 연결 축 의 완전 한 하강 이동 이 가능 하 도록 하 기 위해 상기 틈새 내 에 습 동 수단 으로 베어링 ( bearing ) 이 구비 되게 되 는 것 을 특징 으로 한다 .