제 1 층 으로 필름 1 , 제 조예 3 의 점착 층 , 제 2 층 으로 필름 2 를 적층 시켜 적층 체 를 제조 하 였 다 . 상기 적층 체 중 제 2 층 에 상기 제조 예 1 의 하드 코팅 층 용 조성물 을 코팅 하 고 80 ℃ 에서 2 분 동안 건조 시키 고 , 질소 퍼징 조건 에서 광원 ( metal halide 램프 ) 하 에 300 mJ / cm 2 의 광량 을 조사 하 여 두께 5 ㎛ 의 하드 코팅 층 을 형성 하 여 보호 필름 을 제조 하 였 다 .