전면 기판 ( 111 ) 과 배면 기판 ( 121 ) 사이 에 는 격벽 ( 130 ) 이 배치 되 는데 , 공정 에 따라 격벽 ( 130 ) 은 배면 유전체 층 ( 125 ) 상 에 배치 될 수 있 다 . 이러 한 격벽 ( 130 ) 은 방전 공간 을 복수 개 의 방전 셀 들 ( 170 R , 170 G , 170 B ) 로 구획 하 며 , 방전 셀 들 ( 170 R , 170 G , 170 B ) 사이 의 광학 적 / 전기 적 크로스 토크 를 방지 하 는 기능 을 수행 한다 . 도 2 에 는 격벽 ( 130 ) 이 사각형 의 횡단면 을 가지 는 매트릭스 배열 의 방전 셀 들 을 구획 하 는 것 으로 도시 되 었 으나 , 이 에 한정 되 지 않 는다 . 즉 , 격벽 ( 130 ) 은 방전 셀 ( 170 R , 170 G , 170 B ) 들 이 삼각형 , 오각형 등 의 다각형 , 또는 원형 , 타원 형 등 의 횡단면 을 가지 도록 형성 될 수 도 있 으며 , 스트라이프 등 과 같 은 개방 형 으로 형성 될 수 도 있 다 . 또한 , 격벽 ( 130 ) 은 방전 셀 ( 170 R , 170 G , 170 B ) 들 을 와플 이나 델타 배열 로 구획 할 수 도 있 다 .