각 제 1 전처 리조 ( 10 ) 와 제 2 전처 리조 ( 20 ) 및 용융 조 ( 30 ) 의 하측 에 는 제 1 전처리 순환 조 ( 11 ) 와 제 2 전처리 순환 조 ( 21 ) 및 밑면 에 히팅 장치 ( 35 ) 가 장착 된 용융 순환 조 ( 31 ) 를 각각 설치 하 여 , 제 1 전처 리조 ( 10 ) 와 제 2 전처 리조 ( 20 ) 및 용융 조 ( 30 ) 에 충 진 되 는 전처리 액 과 용융 액 을 순환 장치 에 의해 지속 적 으로 순환 시키 면서 전처리 및 도금 을 실행 하 도록 한 것 ; 이 포함 되 는 것 을 특징 으로 하 는 극세 리드선 제조 장치 ( 1 - 3 ) 에 의해 달성 된다 .