본 발명 에서 는 우리 나라 자체 의 시뮬레이터 를 개발 하 는 데 목적 을 두 고 광 및 에너지 분포 를 구하 여 deep ultraviolet resist 인 화학 증폭 형 resist 나 resist 에 따른 복잡 한 공정 을 처리 할 수 있 는 기본 툴 을 만들 어 , 컴퓨터 계산 시간 을 최소한 으로 줄이 고 Proximity 효과 를 처리 할 수 있 는 툴 을 만들 고 , 개발 된 툴 을 사용 자 가 쉽 게 쓸 수 있 도록 하 면서 1 GDRAM 이상 의 소자 양산 에 적용 할 수 있 는 새로운 노광 방법 을 개발 하 고자 한다 . 또한 보다 나 은 사용자 의 편의 를 위해 편리 한 GUI 환경 을 구축 한다 .