본 발명 의 제 2 상 입자 에 는 , 석출 물 , 정출 물 , 개 재물 등 이 포함 된다 . 본 발명 의 조성 범위 내 에서 는 통상 , Ni - P 계 석출 물 또는 Ni - P - Mg 계 석출 물 이외 의 석출 물 은 석출 되 지 않 고 , Ni - P 계 석출 물 및 Ni - P - Mg 계 석출 물 은 , 용체 화 처리 에 추가 하 여 시효 처리 로 특정 한 크기 로 제어 할 수 있 다 . 그 밖 의 제 2 상 입자 로서 , 본 발명 에서 는 용해 및 주조 중 에 생성 되 는 「 정출 물 」 ( Ni - P , Ni - P - Mg , Ni - P - B , Ni - P - B - Mg 등 ) 이나 「 개 재물 」 ( Cu - O , Cu - O - Mg , Cu - Ni - P - O , Cu - Ni - P - O - Mg , Cu - Ni - P - O - B , Cu - Ni - P - O - B - Mg , Cu - S , Cu - S - Mg 등 의 산화물 이나 황화물 ) 이 존재 할 수 있 는데 , 이 들 이 존재 하 는 경우 , 그 크기 는 100 ㎚ 내지 1 ㎛ 를 초과 하 고 , 용체 화 처리 및 시효 처리 에 의해서 도 본 발명 의 범위 내 의 크기 로 제어 할 수 없 다 . 그 때문 에 , 정출 물 이나 개 재물 을 합금 중 에 잔존 시키 지 않 도록 용체 화 처리 를 충분히 실시 하 고 , 개 재물 의 생 성 을 억제 하 기 위해 P , B 등 의 첨가량 을 규정 하 고 , 산화물 ( 개 재물 ) 의 생 성 을 억제 하 기 위해 , O 함유량 을 낮 게 규정 한다 . 정출 물 이나 개 재물 을 충분히 저감 시킬 수 없 었 던 시료 중 의 전체 제 2 상 입자 의 면적 률 C 1 은 80 % 미만 이 되 어 , 본 발명 의 범위 밖 이 된다 .