또한 , 본 발명 의 다른 양상 은 , 외부 로부터 밀폐 된 공간 을 제공 하 는 챔버 ; 상기 챔버 의 일 측 측벽 에서 타 측 으로 제 1 방향 으로 소정 세기 의 이온 빔 을 입사 시키 고 , 상기 제 1 방향 에 수직 하 는 제 2 방향 으로 상기 이온 빔 을 스캐닝 시키 는 스캐닝 시스템 ; 상기 스캐닝 시스템 에서 입사 되 는 상기 이온 빔 에 수직 하 여 웨이퍼 를 고정 하 고 , 상기 제 1 및 제 2 방향 에 수직 하 는 방향 으로 상기 웨이퍼 를 이송 시키 는 타깃 ; 및 상기 타깃 과 동일 또는 인접 하 는 위치 에서 상기 제 1 방향 으로 진행 되 는 상기 이온 빔 을 수집 하 여 전류 를 발생 시키 는 페러 데이 컵 과 , 상기 페러 데이 컵 에 수집 되 는 상기 이온 빔 에 의해 유발 되 는 2 차 전자 의 방출 을 방지 하 기 위해 상기 페러 데이 컵 의 입구 주변 에서 소정 크기 의 전기장 을 형성 하 는 억제 전극 과 , 상기 이온 빔 을 상기 페러 데이 컵 으로 통과 시키 는 개방 구 를 구비 하 고 , 상기 억제 전극 및 페러 데이 컵 의 둘레 를 감싸 도록 형성 하우징 과 , 상기 개방 구 에 통과 되 는 상기 이온 빔 이 진행 되 는 상기 제 2 방향 으로 상기 하우징 을 이동 시키 고 , 상기 제 3 방향 으로 상기 개방 구가 이동 되 도록 상기 하우징 을 회전 시키 는 구동 부를 구비 하 는 페러 데이 시스템 을 포함 하 는 이온 주입 설비 이 다 .