이 ZnO 를 이용 한 활성 층 ( 38 ) 및 오 믹 접촉 층 ( 40 ) 의 형성 은 주로 150 ℃ 가 넘 는 고온 에서 ZnO 를 증착 한 후 포 토리 쏘 그리피 공정 과 식각 공정 으로 패 터닝 하 여 활성 층 ( 38 ) 및 오 믹 접촉 층 ( 40 ) 을 형성 하 는데 , 이 는 도 3 에 도시 된 바 와 같이 고온 에 서 그 결정 성 이 향상 되 는 ZnO 의 특성 때문 이 다 . 여기 서 , ZnO 의 결정 화 정도 는 회절 각도 가 34 . 5 ° 에서 피크 값 을 가지 며 , 그 분산 이 적 을 때 가 가장 좋 다 .