여기 서 , 전 구체 는 금속제 튜브 ( 50 ) 의 하단 부 의 유입공 ( 52 ) 을 통해 내부 로 유입 되 며 , 내부 로 유입 된 전구체 는 반도체 소자 및 전자 재료 를 제조 하 는 과정 에서 어떠 한 공정 을 실시 하 여도 그 액면 이 안정 화 되 어 일정 한 액 위 를 유지 하 게 되 어 측 정 되 는 정전 용량 값 의 오차 발생 이 억제 되 고 , 그 에 따라 보관 용기 내부 의 전구체 액 위 의 정확 한 측정 이 가능 하 게 된다 .