본 체부 ( 46 a ) 에 는 , 가스 확산 실 ( 46 c ) 에 처리 가스 를 도입 하 기 위한 가스 도입 구 ( 46 g ) 가 형성 되 어 있 다 . 이 가스 도입 구 ( 46 g ) 에 는 , 가스 공급 배관 ( 45 a ) 의 일단 부 가 접속 되 어 있 다 . 이 가스 공급 배관 ( 45 a ) 의 타단 부 에 는 , 처리 가스 를 공급 하 는 처리 가스 공급원 ( 45 ) 이 접속 된다 . 가스 공급 배관 ( 45 a ) 에 는 , 상류 측 으로부터 순서 대로 매스 플로우 컨트롤러 ( mass flow controller ; MFC ) ( 45 b ) , 및 개폐 밸브 ( V 2 ) 가 마련 되 어 있 다 . 그리고 , 처리 가스 공급원 ( 45 ) 으로부터 플 라즈 마 에칭 을 위한 처리 가스 가 가스 공급 배관 ( 45 a ) 을 거쳐서 가스 확산 실 ( 46 c ) 에 공급 되 고 , 이 가스 확산 실 ( 46 c ) 로부터 가스 통류 구멍 ( 46 d ) 및 가스 도입 구멍 ( 46 e ) 을 거쳐서 처리 용기 ( 30 ) 내 에 샤워 형상 으로 분산 되 어서 공급 된다 .