상술 한 본 발명 의 승강 장치 , 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법 에 있 어서 , 복수 의 기판 들 을 하나 의 챔버 내 에 동시 에 처리 하 는 동시 에 기판 들 의 이면 을 전체 적 으로 접촉 한 상태 에서 상기 기판 들 을 지지 하 는 척 들 이 구비 된다 . 그러므로 , 기판 처리 장치 는 기판 의 이면 에 대한 불 필요 한 박막 이 형성 되 는 것 을 억제 하 는 동시 에 복수 의 기판 을 동시 에 처리 함 으로써 , 기판 처리 공정 에 소요 되 는 시간 을 단축 시킬 수 있 고 , 그 결과 반도체 소자 의 제조 에 따른 생산 성 의 향상 을 기대 할 수 있 다 .