이 에 더 하 여 O 2 , N 2 , NH 3 , CF 4 , 전 구체 ( precusors ) 중 하나 이상 을 주입 하 여 파우더 ( P ) 의 표면 의 작용기 나 박막 의 물 성 을 제어 하 여 파우더 ( P ) 의 표면 에 플 라즈 마 - CVD ( plasma - chemical vapor deposition ) 를 수행 하 는 구성 을 선택 적 으로 포함 할 수 있 다 .