상기 기술 과제 를 위한 본 발명 의 일 관점 은 , 라인 패턴 및 패드 패턴 을 포함 하 는 원본 레이아웃 을 설계 하 는 단계 , 상기 원본 레이아웃 으로부터 상기 패드 패턴 을 추출 하 는 단계 , 상기 추출 된 패드 패턴 의 레이아웃 에 대해 제 1 축 소폭 으로 축소 된 제 1 축소 레이아웃 을 얻 는 단계 , 상기 패드 패턴 의 레이아웃 에 대해 상기 제 1 축 소폭 보다 큰 제 2 축 소폭 으로 축소 된 제 2 축소 레이아웃 을 얻 는 단계 , 상기 제 1 축소 레이아웃 으로부터 상기 제 2 축소 레이아웃 을 차감 하 여 상기 패드 패턴 의 레이아웃 에 자기 정렬 되 는 보조 패턴 의 레이아웃 을 얻 는 단계 , 상기 원본 레이아웃 으로부터 상기 보조 패턴 의 레이아웃 을 차감 하 여 상기 원본 레이아웃 에 보조 패턴 을 생성 시키 는 단계 , 및 상기 보조 패턴 이 생성 된 레이아웃 을 반도체 기판 상 으로 노광 과정 에 의해 전사 하 는 단계 를 포함 하 는 노광 과정 중 의 스컴 을 억제 하 는 리소그래피 방법 을 제시 한다 .