도 3 을 참조 하 면 , 알루미늄 PVD 단계 ( S 30 ) 는 , 상기 무공 질 양극 산화층 ( 20 ) 상 에 알루미늄 ( Al ) 을 물리 적 기상 증착 ( PVD ; physical vapor deposition ) 하 여 두께 ( TH 2 ) 가 1 내지 20 ㎛ 인 보강 층 ( 25 ) 을 적층 하 는 단계 이 다 . 알루미늄 PVD 단계 ( S 30 ) 에서 증착 챔버 ( 미 도시 ) 내부 를 고진공 상태 가 되 도록 환경 을 조성 하 고 , 순수 알루미늄 ( pure aluminum ) 을 물리 적 기상 증착 ( PVD ) 하 게 되 면 , 순수 알루미늄 으로 이루어진 보강 층 ( 25 ) 이 적층 된다 .