다른 실시 형태 에서 , 기판 의 오염물 을 세정 하 기 위한 시스템 이 개시 된다 . 이 시스템 은 기판 을 지지 하 도록 정의 된 지지 구 조체 를 포함 한다 . 시스템 은 또한 , 지지 구조 체 위 에 세정 재료 를 분배 하 여 기판 이 지지 구 조체 상 에 존재 할 때 기판 위 에 세정 재료 가 도포 되 도록 정의 된 세정 재료 분배 디바이스 를 포함 한다 . 시스템 은 , 린스 유체 의 흐름 을 지지 구 조체 를 향하 게 하 여 기판 이 지지 구 조체 상 에 존재 할 때 린스 유체 가 기판 에 충격 을 가하 도록 정의 된 린스 유체 분배 디바이스 를 더 포함 한다 . 린스 유체 분배 디바이스 는 세정 재료 로 하여금 린스 유체 에 의해 충격 을 받 을 때 탄성 방식 으로 작용 하 게 하 는 속도 범위 내 에서 린스 유체 의 유동 속도 를 제어 하 도록 정의 된다 .