상술 한 본 발명 에 따르 면 , 회로 원본 레이아웃 에 자기 정렬 되 는 보조 패턴 을 생성 시킬 수 있 어 , 노광 과정 중 에 수반 될 수 있 는 스컴 을 보다 효과 적 으로 억제 시킬 수 있 다 . 보조 패턴 은 원본 레이아웃 에 자기 정렬 되 므로 , 보조 패턴 의 생 성 에 따른 회로 의 레이아웃 에 악영향 이 발생 되 는 것 을 억제 시킬 수 있 다 . 또한 , 보조 패턴 은 원본 레이아웃 을 기반 으로 적용 되 므로 , 연산 에 의한 자동 생성 이 가능 하 여 보조 패턴 생성 과정 이 설계 툴 장비 에서 상당히 신속 하 고 용이 하 게 이루어질 수 있 다 .