도 17 에 , 본 실시 예 에서 의 레벤 손 형 마스크 의 개략 평면도 를 도시 한다 . 레벤 손 형 마스크 는 , 차광막 ( 2 ) 을 포함 한다 . 차광막 ( 2 ) 은 , 동 위상 개구부 ( 2 a , 2 c ) 및 반전 위상 개구부 ( 2 b , 2 d ) 를 가진다 . 동 위상 개구부 ( 2 a ) 와 반전 위상 개구 부 ( 2 b ) 가 쌍 을 이룸 으로써 , 동 위상 개구부 ( 2 a ) 와 반전 위상 개구부 ( 2 b ) 의 사이 에 선 패턴 인 레지스 트 패턴 ( 11 ) 의 제 1 패턴 부 ( 11 a ) 가 형성 된다 . 동일 하 게 , 동 위상 개구부 ( 2 c ) 와 반전 위상 개구부 ( 2 d ) 가 쌍 을 이룸 으로써 , 레지스 트 패턴 ( 12 ) 의 제 1 패턴 부 ( 12 a ) 가 형성 된다 ( 도 16 참조 ) .