HMF 를 제조 및 정제 하 기 위해 크로마토그래피 컬럼 내 에 고상 촉매 를 사용 함 으로써 , 열 및 산 촉매 에 의 노출 시간 이 제한 되 고 , 보다 낮 은 온도 에서 제조 하 는 것 이 가능 하 다 . 낮 은 온도 에서 제조 함 으로써 , 에너지 비용 을 감소 시키 고 반응 의 가열 및 냉각 에 필요 한 시간 을 단축 할 수 있 다 . 본 발명 의 공정 에서 사용 될 수 있 는 고상 촉매 의 비 한정 적 예 로 는 Amberlyst 35 , Amberlyst 15 , Amberlyst 36 , Amberlyst 70 , Amberlyst 131 ( Rohm and Hass ) ; Lewatit S 2328 , Lewatit K 2431 , Lewatit S 2568 , Lewatit K 2629 ( Bayer Company ) ; 및 Dianion SK 104 , PK 228 , RCP 160 , Relite RAD / F ( Mitsubishi Chmical America , Inc . ) 과 같 은 산 성 수지 가 있 다 . 클레이 및 제올라이트 와 같 은 다른 고상 촉매 , 예 를 들 어 CBV 3024 및 CBV 5534 G ( Zeolyst International ) , T - 2665 , T - 4480 ( United Catalysis , Inc ) , LZY 64 ( Union Carbide ) , H - ZSM - 5 ( PQ Corporation ) 도 또한 사용 될 수 있 다 . Amberlyst 35 와 같 은 산 성 수지 는 양 이온 인 반면 , 제올라이트 , 알루미나 및 클레이 와 같 은 촉매 는 소분 자 를 가두 어 두 는 다공질 입자 이 다 . H 2 SO 4 , H 3 PO 4 , HCl 과 같 은 무기산 및 p - 톨루엔 술폰산 과 같 은 유기산 을 포함 하 는 수용성 촉매 도 또한 사용 될 수 있 다 .