구체 적 으로 , 반도체 제조 장치 는 기판 컨테이너 ( 100 , FOUP ) 에 아이 솔 레 이 션 챔버 ( 250 , ISCH ) 및 로드 락 챔버 ( 300 , LOCH ) 가 연결 될 수 있 다 . 기판 컨테이너 ( 100 ) 에 는 제 1 퍼지 가스 공급 부 ( 124 ) 에 의해 퍼지 가스 를 공급 할 수 있 다 . 제 1 퍼지 가스 공급 부 ( 124 ) 는 유량 흐름 제어기 ( MFC ( mass flow controller ) , 124 a ) , 공급 라인 ( 124 b ) 및 질소 공급원 ( 124 c ) 을 포함 할 수 있 다 . 기판 컨테이너 ( 100 ) 에 공급 된 퍼지 가스 는 퍼지 가스 배기 부 ( 260 ) 를 통하 여 배출 될 수 있 다 .