본 발명 의 다른 실시 형태 에서 , 기판 상 에 배치 된 에칭 층 상 에 형성 된 제 1 마스크 피 쳐 들 을 갖 는 패 터닝 된 포토레지스트 ( PR ) 마스크 상 에 보호 코팅 층 을 제공 하 기 위한 장치 가 제공 된다 . 그 장치 는 플 라즈 마 프로세싱 챔버 를 포함 하 며 , 그 플 라즈 마 프로세싱 챔버 는 , 플라 즈 마 프로세싱 챔버 엔 클로 져 를 형성 하 는 챔버 벽 , 플라 즈 마 프로세싱 챔버 엔 클로 져 내 에서 기판 을 지지 하 기 위한 기판 지 지체 , 플라 즈 마 프로세싱 챔버 엔 클 로 져 내 의 압력 을 조절 하 기 위한 압력 조절기 , 플라 즈 마를 지속 시키 기 위해 플 라즈 마 프로세싱 챔버 엔 클로 져 에 전력 을 제공 하 기 위한 적어도 하나 의 전극 , 적어도 하나 의 전극 에 전기 적 으로 접속 된 적어도 하나 의 RF 전력 소스 , 플라 즈 마 프로세싱 챔버 엔 클로 져 로 가스 를 제공 하 기 위한 가스 주입구 , 및 플 라즈 마 프로세싱 챔버 엔 클로 져 로부터 가스 를 배기 하 기 위한 가스 배출구 를 포함 한다 . 그 장치 는 가스 주입구 와 유체 연결 하 는 가스 소스 를 포함 하 며 , 그 가스 소스 는 증착 가스 소스 및 프로파일 형상 화 가스 소스 를 포함 한다 . 제어기 는 가스 소스 와 적어도 하나 의 RF 전력 소스 에 제어 가능 하 게 접속 된다 . 제어기 는 적어도 하나 의 프로세서 및 컴퓨터 판독 가능 매체 를 포함 하 다 . 컴퓨터 판독 가능 매체 는 , 적어도 하나 의 싸이클 을 포함 하 는 , 패 터닝 된 PR 마스크 상 에 보호 코팅 을 제공 하 기 위한 컴퓨터 판독 가능 코드 를 포함 하 고 , 패 터닝 된 마스크 는 제 1 마스크 피 쳐 들 을 가지 며 , 각각 의 싸이클 에 대한 컴퓨터 판독 가능 코드 는 , 플라 즈 마 챔버 로 증착 가스 를 플로우 시키 기 위한 컴퓨터 판독 가능 코드 , 제 1 마스크 피 쳐 들 의 표면 위 에 증착 층 을 증착 하 기 위해 증착 가스 로부터 플 라즈 마 를 형성 하 기 위한 컴퓨터 판독 가능 코드 , 증착 가스 의 플로우 를 중단 시키 기 위한 컴퓨터 판독 가능 코드 , 플라 즈 마 챔버 로 프로파일 형상 화 가스 를 플로우 시키 기 위한 컴퓨터 판독 가능 코드 , 증착 층 의 프로 파일 을 형상 화 하 기 위해 프로파일 형상 화 가스 로부터 플 라즈 마 를 형성 하 기 위한 컴퓨터 판독 가능 코드 , 및 증착 가스 의 플로우 를 중단 시키 기 위한 컴퓨터 판독 가능 코드 를 포함 한다 .