본 발명 의 제 1 의 관점 에 의하 면 기판 에 처리 가스 를 공급 해 소정 의 처리 를 가하 는 가스 처리 장치 로서 , 기판 을 반송 하 는 반 송로 와 반 송로 를 반송 되 고 있 는 기판 을 가스 의 토출 및 흡인 에 의해 부상 시키 는 부상 기구 와 복수 의 처리 가스 토출 기구 를 갖 고 , 상기 반 송로 를 반송 되 고 있 는 기판 을 향해 처리 가스 를 토출 시키 는 처리 가스 토출 기구 와 상기 반 송로 를 따라 기판 을 반송 시키 는 반송 기구 와 상기 부상 기구 의 가스 의 토출 및 흡인 을 조절 해 기판 의 부상 량 을 제어 해 , 상기 처리 가 스 토출 기구 의 상기 처리 가스 토출구 와 기판 의 사이 의 거리 를 제어 하 는 제 어부 를 구비 하 는 가스 처리 장치 가 제공 된다 .