이러 한 과제 를 해결 하 기 위해 , 본 발명 은 , 광 검출기 가 시료 에서 반사 된 반사광 의 세기 를 검출 하 는 제 1 단계 와 , 편광 변환 소자 의 회전각 에 대한 회전 변수 와 광원 의 파장 에 대한 파장 변수 또는 시료 상 의 위치 에 대한 위치 변수 가 분리 되 도록 반사광 의 광 세기 함수 를 정의 하 는 제 2 단계 와 , 반사광 의 세기 와 광 세기 함수 를 기초 로 , 회전 변수 를 변수 로 하 는 회전 오 차 함수 를 정의 하 고 , 파장 변수 를 변수 로 하 는 파장 오 차 함수 또는 위치 변수 를 변수 로 하 는 위치 오 차 함수 를 정의 하 는 제 3 단계 와 , 편광 변환 소자 의 회전 에 따라 파장 오 차 함수 에 최소 제곱법 을 적용 하 여 회전각 을 각각 산출 하 거나 , 물체 상 의 위치 에 따라 위치 오 차 함수 에 최소 제곱법 을 적용 하 여 회전각 을 산출 하 는 제 4 단계 와 , 회전 오 차 함수 에 최소 제곱법 을 적용 하 되 제 4 단계 에서 산출 된 회전각 을 회전 변수 에 적용 하 여 광 세기 함수 의 퓨리 에 계수 를 산출 하 는 제 5 단계 를 포함 하 는 타원 계측기 의 데이터 분석 방법 을 제공 한다 .