제 1 약액 노즐 ( 21 A ) 로부터 토출 된 약액 은 , 기판 ( W ) 의 상면 에 착 액 한 후 , 회전 하 고 있 는 기판 ( W ) 의 상면 을 따라 바깥쪽 으로 흐른다 . 이것 에 의해 , 기판 ( W ) 의 상면 전역 을 덮 는 약액 의 액막이 형성 되 어 , 기판 ( W ) 의 상면 전역 에 약액 이 공급 된다 . 특히 , 노즐 이동 유닛 ( 22 ) 이 제 1 약액 노즐 ( 21 A ) 을 중앙 처리 위치 와 외주 처리 위치 사이 에서 이동 시키 는 경우 는 , 기판 ( W ) 의 상면 전역 이 약액 의 착 액 위치 에서 주사 되 므로 , 약액 이 기판 ( W ) 의 상면 전역 에 균일 하 게 공급 된다 . 이것 에 의해 , 기판 ( W ) 의 상면 이 균일 하 게 처리 된다 . 제 1 약액 노즐 ( 21 A ) 로 의 약액 의 공급 이 개시 되 고 나 서 소정 시간 이 경과 하 면 , 제 1 약액 노즐 ( 21 A ) 로 의 약액 의 공급 이 정지 된다 . 그 후 , 노즐 이동 유닛 ( 22 ) 이 제 1 약액 노즐 ( 21 A ) 을 퇴피 위치 로 이동 시킨다 .