본 발명 의 실시 예 에 따르 면 , 상기 각 제 1 배선 은 제 1 유전 층 과 제 2 유전 층 을 포함 하 고 , 상기 제 1 유전 층 은 상기 제 1 도전 층 과 상기 제 2 도전 층 사이 에 위치 하 고 , 상기 제 2 유전 층 은 상기 제 2 도전 층 과 상기 제 3 도전 층 사이 에 위치 한다 . 상기 제 2 유전 층 은 상기 제 2 도전 층 의 일부 를 노출 하 는 복수 의 제 2 콘 택 홀 들 을 구비 한다 . 상기 제 3 도전 층 은 상기 제 2 콘 택 홀 들 을 덮 고 상기 제 2 도전 층 에 전기 적 으로 병렬 연결 된다 . 또한 , 상기 제 1 유전 층 과 상기 제 2 유전 층 내 에 는 상기 제 1 도전 층 을 노출 하 기 위한 복수 의 제 1 콘 택 홀 이 존재 한다 . 상기 제 2 도전 층 은 상기 제 1 콘 택 홀 을 덮 고 상기 제 1 도전 층 과 전기 적 으로 병렬 연결 된다 .