상기 화학식 1 의 화합물 은 미 쯔 비 시사 의 상품명 MS 51 ( 분자량 600 ) 혹은 MS 56 ( 분자량 1200 ) 의 Silicate 를 예 로 들 수 있 으며 , 가수 분해 및 축합 반응 을 통해 본 발명 을 위한 수지 를 생성 시킬 수 있 다 . Si 함량 을 조절 함 에 따라 상부 포토레지스트 층 및 하부 유기물 로 이루어진 하드 마스크 층 사이 의 에칭 선택 비 를 부여 할 수 있 다 .