유전체 판 ( 56 ) 위 에 는 , 안테나 후 면판 을 겸하 는 커버 플레이트 ( 72 ) 가 챔버 ( 10 ) 의 상면 을 덮 도록 설치 되 어 있 다 . 이 커버 플레이트 ( 72 ) 는 , 예컨대 알루미늄 으로 이루어지 며 , 유전체 창 ( 52 ) 및 유전체 판 ( 56 ) 에서 발생 되 는 유전 손실 의 열 이나 프로세스 에 따라 발생 하 는 열 을 흡수 ( 방열 ) 하 여 임의 의 온도 로 조정 하 는 기능 을 갖 고 있 다 . 이 냉각 기능 을 위해서 , 커버 플레이트 ( 72 ) 의 내부 에 형성 되 어 있 는 유로 ( 74 ) 에 는 , 칠러 유닛 ( 도시 하 지 않 음 ) 으로부터 배관 ( 76 , 78 ) 을 통해 정해진 온도 의 냉매 , 예컨대 냉각수 ( cw ) 가 순환 공급 된다 . 이 커버 플레이트 ( 72 ) 에 있 어서 는 , 모니터링 용 의 광 도파 로 ( 104 ) 가 통과 하 는 부위 에 , 판면 을 연직 으로 관통 하 는 구멍 ( 72 a ) 이 형성 되 어 있 다 .