이러 한 포토 리소그래피 공정 시 사용 되 는 노광 마스크 는 다음 과 같이 제조 된다 . 유리 ( Glass ) 나 석영 ( Quartz ) 등 과 같 은 광 투과성 기판 상 에 일정 두께 로 광 을 투과 시키 거나 차광 시키 기 위한 차광막 , 예 를 들 어 니켈 ( Ni ) , 크롬 ( Cr ) , 그리고 코발트 ( Co ) 등 과 같 은 금속 을 증착 한다 . 그리고 차광막 상부 에 레지스 트 를 도포 하 고 노광 , 현상 으로 레지스 트 패턴 을 형성 하 고 레지스 트 패턴 으로 차광막 을 식각 하 여 광 투과성 기판 이 드러나 는 광 투과 영역 과 광차 단 영역 을 형성 한 후 에 세정 및 검사 의 공정 을 거쳐 노광 마스크 를 완성 한다 .