상술 한 문제점 을 해결 하 기 위하 여 ONO 유전체 막 의 목표 식각 두께 를 증가 시킴 으로써 개선 될 수 있 으나 , 유전체 막 의 목표 식각 두께 가 증가 할 경우 활성 영역 의 어택 마진 ( attack margin ) 이 감소 하 는 문제 를 유발 시키 게 된다 . 이러 한 마이크 로 브릿지 는 인접 한 셀 간 의 정보 구분 이 않되 는 2 비트 페일 ( 2 bit fail ) 을 발생 시켜 제품 수율 을 떨어뜨리 는 요인 이 된다 .