최근 , NTD 프로세스 에서 의 패턴 붕괴 마진 ( PCM ) 은 패턴 스케일 의 감소 에 따라 ArF 침지 리소그래피 에서 의 더 높 은 수율 에 대한 가장 중요 한 문제 가 되 었 다 . NTD 에서 의 PCM 은 하단 반사 방지 코팅 ( BARC ) 막 의 특성 에 크 게 의존 한다 . 특히 , 산 성 BARC 표면 은 포토레지스트 의 탈 보호 반응 을 더 증가 시킴 으로써 패턴 붕괴 를 크 게 높일 수 있 다 . BARC 에서 의 산 성 촉매 로서 , 광산 발생 제 는 노광 된 영역 에서 만 발생 된 산 에 의해 패턴 붕괴 를 개선 시킬 수 있 으므로 , BARC 제제 의 우수 한 산도 제어 단위 중 하나 일 수 있 다 . 그러나 , 이 방법 의 주요 단점 은 포토레지스트 스핀 코팅 또는 레지스 트 절감 ( RRC ) 공정 중 에 공정 용매 에 의해 용해 됨 으로 인한 BARC 표면 에서 의 PAG 농도 의 감소 이 다 . 네거티브 톤 현상 에서 의 패턴 붕괴 마진 을 개선 할 수 있 는 새로운 반사 방지 코팅 조성물 에 대한 요구 가 남 아 있 다 .