여기 서 , 「 스 패 터 증착 의 초기 단계 」 라 함 은 , 투명 화소 전극 을 구성 하 는 산화물 투명 도전 막 의 두께 가 약 1 / 5 내지 1 / 2 정도 까지 성막 되 는 단계 를 의미 한다 . 예 를 들 어 , ITO 막 의 두께 를 약 50 ㎚ 로 하 면 , 대략 10 내지 25 ㎚ 정도 가 성막 되 는 단계 를 의미 한다 . 바람직 하 게 는 , 스 패 터 증착 의 전체 단계 에 대해 , 질소 성분 을 함유 한 증착 분위기 에서 행한다 . 또한 , 「 질소 성분 」 으로서 는 N 2 가스 가 바람직 하 다 . N 2 가스 를 사용 하 는 경우 , 그 양 은 스 패 터 가스 의 Ar 에 대한 체적 유량 비 로 , 바람직 하 게 는 5 내지 25 ％( 보다 바람직 하 게 는 12 내지 18 ％) 이 다 .