다음 으로 , 도 48 ∼ 도 76 에 기초 하 여 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 , WST 2 ) 를 사용 한 병행 처리 동작 에 대하 여 설명 한다 . 또한 , 이하 의 동작 중 , 주제 어 장치 ( 20 ) 에 의해 액체 공급 장치 ( 5 ) 와 액체 회수 장치 ( 6 ) 가 제어 되 고 , 액체 ( Lq ) 가 투영 광학계 ( PL ) 의 선단 렌즈 ( 191 ) 의 바로 아래 에 공급 됨 과 함께 , 선단 렌즈 ( 191 ) 의 바로 아래 로부터 회수 되 어 , 일정량 의 액체 ( Lq ) 가 선단 렌즈 ( 191 ) 와 웨이퍼 테이블 ( WTB 1 및 / 또는 WTB 2 ) 사이 에 유지 됨 으로써 , 항상 액침 영역 ( 14 ) 이 형성 되 어 있 다 . 그러나 , 이하 에서 는 설명 을 알 기 쉽 게 하 기 위해서 , 액체 공급 장치 ( 5 ) 및 액체 회수 장치 ( 6 ) 의 제어 에 관한 설명 은 생략 한다 . 또한 , 이후 의 동작 설명 은 다수 의 도면 을 사용 하 여 실시 하 는데 , 도면 마다 동일 한 부재 에 부호 가 부여 되 어 있 거나 , 부여 되 어 있 지 않 다 . 즉 , 도면 마다 기재 되 어 있 는 부호 가 상이 하 지만 , 그 들 도면 은 부호 의 유무 에 관계없이 동일 구성 이 다 . 지금 까지 설명 에 사용 한 각 도면 에 대해서 도 동일 하 다 . 또한 , 도 48 ∼ 도 76 에 있 어서 , 도시 의 편의 상 , 액침 영역 ( 14 ) 만 을 도시 하고 , 투영 유닛 ( PU ) ( 투영 광학계 ( PL ) ) 및 국소 액침 장치 ( 8 ) ( 노즐 유닛 ( 32 ) ) 등 의 도시 는 생략 되 어 있 다 .