상기 기술 적 과제 를 달성 하 기 위하 여 , 본 발명 의 일실 시예 는 미세 입자 를 포함 하 는 매질 이 유입 되 는 유입 부 및 상기 미세 입자 간 응집 되 어 형성 된 조대 입자 가 제거 된 매질 이 배출 되 는 배 출부 를 포함 하 는 메인 챔버 , 상기 메인 챔버 에 접하 며 , 상기 미세 입자 를 포함 하 는 매질 에 음압 을 인가 하 기 위한 음파 를 발생 시키 는 액추에이터 및 상기 메인 챔버 에 결합 되 며 , 상기 음파 의 파동 간섭 으로 상기 미세 입자 들 을 충돌 시켜 상기 미세 입자 들 을 조대 입자 로 응집 하 여 침전 시키 고 , 침전 된 조대 입자 를 저장 하 는 침 전집 진부 를 포함 하 는 멀티 어쿠스틱 액추에이터 시스템 을 제공 한다 .