상기 와 같 은 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 의 광 위치 결정 유닛 의 제어 방법 은 , 레이저 빔 을 기판 상 의 목표 위치 로 조사 시키 기 위하 여 상기 레이저 빔 및 상기 기판 중 어느 하나 를 이동 가능 하 게 하 는 광 위치 결정 유닛 을 이용 하 여 , 상기 기판 상 의 다수 의 목표 위치 를 레이저 가공 하 는 데 이용 되 는 방법 으로서 , 상기 광 위치 결정 유닛 에 이동신 호 를 인가 한 시점 부터 상기 광 위치 결정 유닛 이 실제로 이동 하 기 시작 하 는 시점 까지 걸리 는 시간 인 광 위치 결정 유닛 의 이동 지연 시간 을 측정 하 는 측정 단계 ; 상기 기판 상 의 일 목표 위치 를 가공 하 기 위해 상기 광 위치 결정 유닛 을 제 1 위치 로 이동 시키 는 제 1 이동신 호 를 인가 하 는 제 1 이동신 호 인가 단계 ; 상기 광 위치 결정 유닛 이 상기 제 1 위치 로 이동 된 후 , 레이저 온 신호 를 인가 하 여 레이저 빔 을 출사 시킴 으로써 레이저 가공 을 수행 하 는 출사 단계 ; 상기 레이저 가공 이 완료 되 면 , 레이저 오프 신호 를 인가 하 여 레이저 빔 의 출사 를 정지 시키 는 정지 단계 ; 및 상기 기판 상 의 다른 목표 위치 를 가공 하 기 위해 상기 광 위치 결정 유닛 을 제 2 위치 로 이동 시키 는 제 2 이동신 호 를 인가 하 는 제 2 이동신 호 인가 단계 ; 를 포함 하 며 , 상기 제 2 이동신 호 를 인가 하 는 시점 은 상기 레이저 오프 신호 를 인가 하 는 시점 보다 앞서 며 , 상기 제 2 이동신 호 를 인가 하 는 시점 과 상기 레이저 오프 신호 를 인가 하 는 시점 간 의 시간 차이 는 상기 광 위치 결정 유닛 의 이동 지연 시간 이내 인 것 을 특징 으로 한다 .