구성 단위 ( a 03 ) 은 , 하 기 일반식 ( a 0 - 3 ) 으로 나타내 고 , 또한 상기 서술 한 구성 단위 ( a 02 ) 와 는 상이 한 구조 를 갖 는 구성 단위 이 다 . 구성 단위 ( a 03 ) 을 채용 함 으로써 , 노광 후 의 유기 용제 현상 프로세스 에 있 어서 유기계 현상액 에 대한 레지스 트 막 의 용해 성 을 컨트롤 하 여 , 막 쉬 링크 를 억제 할 수 있 다 . 또한 상기 서술 한 구성 단위 ( a 02 ) 와 함께 구성 단위 ( a 03 ) 을 사용 함 으로써 , 형성 되 는 레지스 트 패턴 에 있 어서 , 패턴 붕괴 를 개선 함 과 함께 러프 니스 도 개선 할 수 있 다 .