샤워 헤드 ( 42 ) 에 는 공정 챔버 ( 40 ) 내 에 RF 전력 을 공급 하 기 위한 전원 부 , 예컨대 제 1 전원 ( 10 ) 및 / 또는 제 2 전원 ( 20 ) 이 연결 될 수 있 다 . 제 1 전원 ( 10 ) 및 제 2 전원 ( 20 ) 에서 생성 된 RF 전력 은 매칭 부 ( 35 ) 를 거치 면서 정합 되 어 공정 챔버 ( 40 ) 에 공급 될 수 있 다 . 샤워 헤드 ( 42 ) 를 통해서 공정 가스 가 공정 챔버 ( 40 ) 에 공급 되 고 , 제 1 전원 ( 10 ) 및 / 또는 제 2 전원 ( 20 ) 이 매칭 부 ( 35 ) 를 통해서 샤워 헤드 ( 42 ) 에 공급 되 어 공정 챔버 ( 40 ) 내 에 플 라즈 마 ( P ) 가 생성 될 수 있 다 .