본 발명 의 제 1 실시 예 에 따른 수처 리용 여과 장치 ( 10 ) 는 여재 의 상승 이 제한 하 는 다수 의 단위 스크린 부 에 의해 원수 나 , 세정 용 공기 및 세 정수 에 의한 상승 압력 이 분산 될 수 있 어 안정 적 으로 여재 가 구속 되 어 일정 한 두께 의 여과 층 이 유지 될 수 있 어 여과 및 세정 효율 을 높일 수 있 는 이점 이 있 다 .