반응물 들 간 가스 상 반응 을 방지 하 고 자기 포화 적 표면 반응 을 가능 하 게 하 기 위하 여 전구체 들 은 아르곤 ( Ar ) 또는 질소 ( N 2 ) 와 같 은 불활성 가스 에 의해 분리 될 수 있 다 . 그러나 , 일부 구 현예 에서 , 기판 은 제 1 증기 상 반응물 및 제 2 증기 상 반응물 을 개별 적 으로 접촉 시키 도록 이동 될 수 있 다 . 반응 은 자 가 포화 되 기 때문 에 , 기판 의 엄격 한 온도 제 어 및 전 구체 의 정확 한 투 여량 제어 는 일반 적 으로 는 요구 되 지 않 는다 . 그러나 , 기판 온도 는 바람직 하 게 는 입사 가스 화학종 이 단분자층 으로 응축 되 지 않 거나 표면 상 에서 분해 되 지 않 도록 한다 . 과잉 화학 물질 및 반응 부산물 이 있 으면 , 기판 이 다음 반응 화학 물질 과 접촉 하 기 전 에 이 들 은 , 예 를 들 어 반응 공간 을 퍼 징하 거나 기판 을 이동 함 으로써 기판 표면 으로부터 제거 된다 . 원 하 지 않 는 가스 분자 들 은 불활성 퍼지 가스 의 도움 으로 반응 공간 으로부터 효과 적 으로 방출 될 수 있 다 . 진공 펌프 는 퍼징 을 돕 는 데 사용 될 수 있 다 .