이상 설명 한 바 와 같이 , Y 축 방향 의 다른 위치 에 규정 된 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 과 의 각각 에 노광 광 ( EL ) 을 조사 함 과 동시 에 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 이 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 대해서 상대 이동 되 도록 기판 ( P ) 을 Y 축 방향 으로 이동 하 는 것 에 의해 , 기판 ( P ) 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 효율 적 으로 다중 노광 할 수 있 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 기판 ( P ) 위 의 복수 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 ( 이중 노광 ) 할 경우 에 , 1 회 의 스캔 동작 으로 1 개 의 쇼트 영역 을 제 1 패턴 의 상 과 제 2 패턴 의 상 으로 노광 할 수 있 어 스루풋 를 향상 할 수 있 다 . 또 , 기판 ( P ) 의 - Y 방향 으로 의 스캔 동작 과 + Y 방향 으로 의 스캔 동작 을 반복 하 는 것 에 의해서 , 기판 ( P ) 위 의 복수 의 쇼트 영역 을 효율 적 으로 다중 노광 할 수 있 다 . 또 , 1 회 의 스캔 동작 으로 1 개 의 쇼트 영역 을 다중 노광 할 수 있 으므로 , 각 쇼트 영역 내 에 제 1 패턴 의 상 과 제 2 패턴 의 상 을 원하 는 위치 관계 로 형성 할 수 있 다 .