반도체 디바이스 나 FPD ( Flat Panel Display ) 의 제조 프로세스 에 있 어서 의 에칭 , 퇴적 , 산화 , 스퍼터링 등 의 처리 에서 는 , 처리 가스 에 비교 적 저온 에서 양호 한 반응 을 하 게 하 기 위해서 플 라즈 마 가 자주 이용 되 고 있 다 . 종래 부터 이런 유형 의 플 라즈 마 처리 에 는 , MHz 영역 의 고주파 방전 을 이용 하 여 생성 되 는 플 라즈 마나 혹은 GHz 영역 의 마이크로파 방전 을 이용 하 여 생성 되 는 플 라즈 마 가 널리 이용 되 고 있 다 .