본 발명 의 기본 적 인 의도 는 바닥 면적 이 작 은 기판 처리 시스템 을 제공 한다 . 또한 , 복수 매 의 기판 처리 능력 을 구비 한 기판 처리 시스템 을 제공 한다 . 또한 , 복수 매 의 기판 을 처리 하 는 과정 에서 기판 상호 간 의 공정 간섭 을 방지 할 수 있 는 독립 공간 을 제공 하 는 기판 처리 시스템 을 제공 한다 . 또한 , 효율 적 인 기판 교환 방식 에 기반 하 여 보다 많 은 매수 의 기판 을 동시 에 처리 할 수 있 는 기판 처리 시스템 을 제공 한다 .