나노 임프 린트 리소그래피 ( NIL : Nanoimprint Lithography ) 란 나노 수준 의 정밀 한 금형 을 만들 어 미세 한 패턴 을 형성 하 는 기술 로 , 고분자 레지스 트 위 에 압력 을 가해 마치 도장 을 찍 듯 패턴 을 전사 하 는 나노 소자 제작 방법 으로 , 기존 노광 공정 에 비해 단순 하 고 비용 이 낮 은 장점 이 있 어 차세대 패턴 형성 기술 로 주목 받 아 온 기술 로서 , 대한민국 출원 번호 10 - 2004 - 0003394 등 에 그 기술 이 설명 되 어 있 다 .