본 발명 의 한 실시 예 에 따른 표시 장치 의 제조 방법 은 표시 영역 및 상기 표시 영역 주위 에 위치 하 는 주변 영역 을 포함 하 는 기판 위 에 제 1 절연 층 , 상기 주변 영역 에 위치 하 는 제 1 액티브 패턴 및 상기 표시 영역 에 위치 하 는 제 2 액티브 패턴 , 제 2 절연 층 , 도전 층 , 그리고 포토레지스트 층 을 차례 대로 형성 하 는 단계 , 광 마스크 를 통해 상기 포토레지스트 층 에 빛 을 조사 하 는 단계 , 노광 된 상기 포토레지스트 층 을 현상액 에 노출 하 여 상기 주변 영역 에 위치 하 는 제 1 마스크 패턴 및 상기 표시 영역 에 위치 하 는 제 2 마스크 패턴 을 형성 하 는 단계 , 상기 제 1 마스크 패턴 및 상기 제 2 마스크 패턴 을 마스크 로 하 여 상기 도전 층 을 식각 하 여 상기 주변 영역 에 위치 하 는 제 1 게이트 전극 및 상기 표시 영역 에 위치 하 는 제 2 게이트 전극 을 형성 하 는 단계 , 그리고 상기 제 1 마스크 패턴 및 상기 제 2 마스크 패턴 을 마스크 로 하 여 상기 제 2 절연 층 을 식각 하 여 상기 주변 영역 에 위치 하 는 제 1 게이트 절 연막 및 상기 표시 영역 에 위치 하 는 제 2 게이트 절 연막 을 형성 하 는 단계 를 포함 하 고 , 상기 광 마스크 는 상기 제 2 마스크 패턴 에 대응 하 는 하프톤 영역 을 포함 한다 .