본 발명 의 화장료 조성물 은 알파 - 하이드 록 시 에시드 ( α - hydroxy acid , 이하 ' AHA ' 라 함 ) 를 포함 하 므로 현저 한 각질 제거 기능 을 갖 게 된다 . 이러 한 AHA 의 예 는 젖산 , 글리콜산 , 말산 , 타르타르산 , 글루쿠론산 , 피루브산 , 2 - 하이드 록 시 이소부 틸 산 , 3 - 하이드 록 시 이소부 틸 산 , 시트 릭 산 , 갈 락 투 론 산 , 만 데릭 산 , 뮤신 알파 - 페닐 락 틱 산 ( micic α - phenyllactic acid ) , 페닐 피루브산 , 사카린 산 , 하이드 록 시 부틸 산 , 하이드 록 시 이소부 틸 산 , 하이드 록 시 이소 카프 로 익산 ( hydroxyisocaproic acid ) , 하이드 록 시 이소발 레르 산 , 아트 로 젖산 ( atrolactic acid ) , 디하 이드 록 시 말레산 , 디하 이드 록 시타르 타르산 , 디하 이드 록 시 푸 말산 및 벤질 포름산 으로 이루어지 는 군 으로부터 선택 되 는 1 종 이상 인 것 일 수 있 으며 , 바람직 하 게 는 젖산 또는 글리 콜린 산 일 수 있 다 . 본 발명 의 화장료 조성물 은 상기 AHA 를 0 . 1 내지 15 중량 부 로 포함 할 수 있 으며 , 0 . 1 중량 부 미만 인 경우 는 그 효과 가 미미 하 고 , 15 중량 부를 초과 하 는 경우 에 는 피부 자극 을 배제 할 수 없 다 .