상기 낱장 식 의 장치 에서 성막 스텝 을 행할 때 에 는 , 제 1 반응 가스 및 제 2 반응 가스 가 교대 로 진공 용기 ( 1 ) 내 에 공급 되 고 , 이 들 가스 를 전환 할 때 에 는 진공 용기 ( 1 ) 내로 의 퍼지 가스 의 도입 과 진공 용기 ( 1 ) 내 의 진공 배기 가 행해진다 . 또한 , 개질 스텝 을 행할 때 에 는 , 퍼지 가스 의 공급 에 의해 진공 용기 ( 1 ) 내 의 가스 를 치환 해서 진공 배기 한 후 , 진공 용기 ( 1 ) 내 에 처리 가스 를 공급 하 고 , 적재 대 ( 2 ) 와 가스 샤워 헤드 ( 200 ) 의 사이 에 고주파 를 공급 한다 . 이렇게 해서 진공 용기 ( 1 ) 내 의 분위기 를 전환 할 때 에 는 퍼지 가스 가 공급 되 어 , 성막 스텝 과 개질 스텝 이 예 를 들 어 교대 로 행해 지 게 된다 .