탄성 열 - 방출 구조 의 제조 절차 가 이하 에서 설명 될 것 이 다 . 일부 실시 예 들 에 있 어서 , 완전 가수 분해 된 PVA ( 폴리비닐 알코올 , 예 . 1700 DP ) 는 반응기 로서 선택 되 고 또 한 상기 에서 언급 된 한정 들 ( 길 이 및 두께 ) 을 갖 는 그래핀 마이크 로 칩 들 은 구멍 형성자 로서 사용 된다 . 따라서 , 서로 다른 밀도 들 을 갖 는 탄성 열 - 방출 구조 들 은 반응기 의 양 및 제조 조건 들 을 제어 하 는 것 에 의해 제조 될 수 있 다 . 이 실시 예 에 있 어서 , PVA 는 반응 액 의 대략 6 ~ 7 wt % 이 고 , 이때 포름알데히드 및 황산 이 대략 60 ℃ 에서 아세탈 반응 을 수행 하 기 위해 추가 된다 . 따라서 , 그래핀 열전 도 물질 들 을 포함 하 는 다공성 열 - 방출 구조 가 획득 될 수 있 다 .