스텝 S 1 은 , WCl 6 가스 를 처리 공간 ( 37 ) 에 공급 하 는 원료 가스 공급 스텝 이 다 . 스텝 S 1 에서 는 , 우선 , 개폐 밸브 ( 76 , 78 ) 를 개방 한 상태 에서 , 제 1 N 2 가스 공급원 ( 54 ) 및 제 2 N 2 가스 공급원 ( 55 ) 으로부터 , 제 1 연속 N 2 가스 공급 라인 ( 66 ) 및 제 2 연속 N 2 가스 공급 라인 ( 68 ) 을 거쳐서 N 2 가스 를 계속 해서 공급 한다 . 또한 , 개폐 밸브 ( 73 ) 를 개방 함 으로써 , WCl 6 가스 공급 기구 ( 51 ) 로부터 WCl 6 가스 공급 라인 ( 61 ) 을 거쳐서 WCl 6 가스 를 처리 용기 ( 1 ) 내 의 처리 공간 ( 37 ) 에 공급 한다 . 이때 , WCl 6 가스 는 , 버퍼 탱크 ( 80 ) 에 일단 저류 된 후 에 처리 용기 ( 1 ) 내 에 공급 된다 . 또한 , 스텝 S 1 에서 , 제 2 H 2 가스 공급원 ( 53 ) 으로부터 연장 되 는 제 2 H 2 가스 공급 라인 ( 63 ) 을 거쳐서 첨가 환원 가스 로서 H 2 가스 를 처리 용기 ( 1 ) 내 에 공급 해도 된다 . 스텝 S 1 시 에 WCl 6 가스 와 동시 에 환원 가스 를 공급 함 으로써 , 공급 된 WCl 6 가스 가 활성 화 되 고 , 그 후 의 스텝 S 3 시 의 성막 반응 이 발생 하 기 쉬워진다 . 그 때문 에 , 높 은 스텝 커버리지 를 유지 하 고 , 또한 1 사이클 당 퇴적 막 두께 를 두껍 게 해서 성막 속도 를 크 게 할 수 있 다 . 첨가 환원 가스 의 유량 으로서 는 , 스텝 S 1 에서 CVD 반응 이 발생 하 지 않 을 정도 의 유량 으로 할 수 있 다 .