화학 증폭 형 레지스 트 조성물 로 는 , 일반 적 으로 , 산 의 작용 에 의해 현상액 에 대한 용해 성 이 변화 하 는 기재 성분 과 , 노광 에 의해 산 을 발생 하 는 산 발생 제 성분 을 함유 하 는 것 이 사용 되 고 있 다 . 예 를 들 어 현상액 이 알칼리 현상액 ( 알칼리 현상 프로세스 ) 의 경우 , 기재 성분 으로서 , 산 의 작용 에 의해 알칼리 현상액 에 대한 용해 성 이 증대 되 는 것 이 사용 되 고 있 다 .