초기 에 , 시스템 은 10 - 9 torr 이하 의 진공 을 포함 하 여 깨끗 하 고 비 어 있 을 것 이 며 , 고속 펌프 들 은 기대 속도 를 보일 것 이 다 ( 각각 의 스테이지 가 터보 분자 펌프 인 2 스테이지 ) . 약 25 내지 30 표준 세제곱 센티미터 의 가스 ( 양성자 들 을 발생 시키 는 듀테륨 및 헬륨 - 3 의 약 50 / 50 혼합물 ) 가 타 겟 챔버 내 로 흘러 타 겟 가스 를 생성 할 것 이 다 . 일단 타 겟 가스 가 확립 되 었 으면 , 즉 일단 명시 된 부피 의 가스 가 시스템 내 로 유입 되 었 고 타 겟 챔버 내 의 압력 이 약 0 . 5 torr 에 도달 하 면 , 타 겟 챔버 로부터 이온 소스 로 0 . 5 내지 1 sccm ( 분당 표준 세제곱 센티미터 ) 의 듀테륨 을 흐르 게 하 는 밸브 가 개방 될 것 이 다 . 이 가스 는 시스템 을 통해 빠르 게 재순환 하 여 , 대략 다음 압력 들 을 생성 할 것 이 다 : 이온 소스 에서 , 압력 은 수 mtorr 일 것 이 고 ; 가속기 에서 , 압력 은 약 20 μ torr 일 것 이 며 ; 가속기 에 가장 가까운 펌핑 스테이지 에 걸쳐 , 압력 은 < 20 μ torr 일 것 이 고 ; 타 겟 챔버 에 가장 가까운 펌핑 스테이지 에 걸쳐 , 압력 은 ~ 50 mtorr 일 것 이 며 ; 타 겟 챔버 에서 , 압력 은 ~ 0 . 5 torr 일 것 이 다 . 이 조건 들 이 확립 된 이후 , 약 10 내지 30 MHz 로 ( RF 매칭 회로 에 의해 RF 안테나 에 커플링 된 ) RF 파워 공 급기 를 작동 시킴 으로써 ( 듀테륨 을 이용 하 는 ) 이온 소스 가 여기 될 것 이 다 . 파워 레벨 이 0 으로부터 약 500 W 까지 증가 되 어 , 약 1011 입자 / ㎤ 의 밀도 를 갖 는 조밀 한 듀테륨 플 라즈 마 를 생성 할 것 이 다 . 원 하 는 이온 전류 ( 약 10 mA ) 및 포 커싱 을 제공 하 기 위해 이온 추출 전압 이 증가 될 것 이 다 . 그 후 , 가속기 전압 이 300 kV 로 증가 되 어 , 흐름 제한 부 를 통해 , 또한 타 겟 챔버 로 이온 빔 을 가속 시킬 것 이 다 . 타 겟 챔버 는 약 5000 가우스 ( 또는 0 . 5 테슬라 ) 의 자기장 으로 채워질 것 이 며 , 이 는 이온 빔 을 재순환 하 게 한다 . 이온 빔 은 무시 될 정도 의 낮 은 에너지 로 떨어지 기 전 에 약 10 번 선회 할 것 이 다 .