먼저 도 18 을 참조 하 면 , 기판 ( 110 ) 위 에 절연 층 인 버퍼 층 ( 120 ) , 액티브 패턴 ( 131 d ) , 절연 층 ( 140 ) , 도전 층 ( 150 ) , 그리고 포토레지스트 층 ( 50 ) 을 차례 대로 형성 한 후 광 마스크 ( 62 ) 를 통해 UV 등 의 빛 을 포토레지스트 층 ( 50 ) 에 조사 한다 . 광 마스크 ( 62 ) 는 빛 이 적어도 일부 차단 되 는 차 광부 ( 62 a , 62 b ) 를 포함 하 고 , 차 광부 ( 62 a , 62 b ) 는 빛 의 투과 량 또는 차광 률 이 서로 다른 두 개 이상 의 차 광부 ( 62 a , 62 b ) 를 포함 할 수 있 다 . 여기 서 차 광부 ( 62 a ) 의 차광 률 이 차 광부 ( 62 b ) 의 차광 률 보다 높 을 수 있 다 . 차 광부 ( 62 a , 62 b ) 이외 의 부분 은 빛 이 투과 되 는 투광 부 일 수 있 다 .