본 발명 에 의하 면 , 반 송로 를 반송 되 고 있 는 기판 을 가스 의 토출 및 흡인 에 의해 부상 시키 므로 , 기판 을 평탄 하 게 해 처리 가스 토출구 와 의 거리 를 매우 작 게 할 수 가 있 어 높 은 반응 속도 를 유지 할 수 가 있 다 . 또 , 반 송로 를 반송 되 고 있 는 기판 에 대해서 처리 가스 를 토출 하 여 처리 하 므로 , 큰 사이즈 의 기판 에 대해서 도 핸들링 이 용이 하 고 , 장치 의 간소화 가 가능 해진다 .