( 해결 수단 ) 웨트 에칭 되 는 웨이퍼 ( W ) 가 간극 을 갖 는 웨이퍼 지지 부재 ( 3 ) 에 지지 되 어 있 다 . 웨이퍼 지지 부재 ( 3 ) 에 지지 된 웨이퍼 ( W ) 의 상면 을 세 정수 에 의해 세정 할 때 , 웨이퍼 지지 부재 ( 3 ) 의 간극 으로부터 흘러 떨어지 는 세 정수 가 , 웨이퍼 지지 부재 ( 3 ) 의 하방 에 배치 된 세정액 용 보 틀 ( 32 ) 에 의해 회수 된다 . 이 로써 , 세 정수 를 웨이퍼 ( W ) 의 주위 로 비산 시키 는 것 을 억제 하 면서 , 양호 하 게 회수 할 수 있 다 .