이 절 연막 에 대하 여 , 비아 패턴 을 갖 는 레지스 트 층 을 마스크 로 , CF 4 / CHF 3 가스 를 원료 로 한 F ( 불소 ) 플 라즈 마 에 의해 가스 조성 을 바꿈 으로써 , SiO 2 막 ( 16 ) / 저 유전율 절 연막 ( 15 ) / SiN 막 ( 14 ) / SiOC 막 ( 13 ) / 캡 층 ( 19 ) 순 으로 가공 하 였 다 ( 단계 14 ) . 계속 해서 , 제 2 층 째 배선 패턴 을 갖 는 레지스 트 층 을 마스크 로 , CF 4 / CHF 3 가스 를 원료 로 한 F ( 불소 ) 플 라즈 마 에 의해 더 가공 하 였 다 ( 단계 15 ) .