도 2 및 도 3 에 도시 된 바 와 같이 , 본 발명 에 따른 반도체 웨이퍼 처리 장치 ( A ) 는 , 반도체 웨이퍼 를 고정 시키 는 지지대 ( 2 ) 가 연결 된 구동 수단 ( 4 ) 과 ; 상기 구동 수단 ( 4 ) 을 고정 시키 기 위해 설치 되 며 , 중심부 를 통해 상기 지지대 ( 2 ) 가 관통 결합 되 는 보호 부재 ( 6 ) 와 ; 상기 보호 부재 ( 6 ) 의 중심부 에 장착 되 되 상기 지지대 ( 2 ) 의 하부 에 설치 되 며 , 냉각 가스 를 분사 하 여 지지대 ( 2 ) 를 냉각 시키 는 차단 블럭 ( 8 ) 과 ; 상 기 차단 블럭 ( 8 ) 에 냉각 가스 를 공급 하 는 냉각 가스 공급 부 로 구성 된다 .