한편 , 본 발명 의 다른 측면 에 따르 면 , 상기 와 같 은 구성 을 갖 는 위상 반전 블랭크 마스크 를 이용 하 여 제조 된 위상 반전 포토 마스크 로서 , 상기 위상 반 전막 을 식각 하 여 제조 된 적어도 2 층 이상 의 다층막 으로 이루어진 위상 반 전막 패턴 을 포함 하 며 , 상기 위상 반 전막 패턴 을 구성 하 는 각 막 은 산소 ( O ) , 질소 ( N ) , 탄소 ( C ) 중 적어도 하나 의 물질 을 포함 하 는 금속 실리사이드 화합물 로 이루어지 며 , i 선 ( 365 nm ) , h 선 ( 405 nm ) , g 선 ( 436 nm ) 을 포함 하 는 복합 파장 의 노광 광 에 대하 여 35 % 이하 의 반사 율 을 갖 는 위상 반전 포토 마스크 가 제공 된다 .