제조 된 음극 지 지체 의 하면 에 NiO 와 YSZ 의 조성 비 를 각각 60 : 40 과 70 : 30 으로 제조 한 페이스트 를 스크린 프린터 ( Screen printer ) 를 이용 하 여 순차 적 으로 약 10 ㎛ 두께 씩 코팅 하 여 제 2 기능 층 을 형성 하 고 , 상면 에 는 NiO 와 YSZ 의 조성 비 를 각각 40 : 60 과 35 : 65 로 제조 한 페이스트 를 스크린 프린터 ( Screen printer ) 를 이용 하 여 약 10 ㎛ 두께 씩 순차 적 으로 코팅 하 여 제 1 기능 층 을 형성 하 였 다 . 이 로써 음극 재 를 제조 하 였 다 .