구체 적 으로 , 기판 처리 장치 ( 100 ) 는 상부 가 개방 된 원통형 으로 구비 되 어 내부 에 공정 처리 를 위한 공간 이 형성 된 공정 챔버 ( 106 ) 와 , 공정 챔버 ( 106 ) 내부 에 구비 되 어 기판 을 안 착하 고 , 세정 공정 을 위해 공급 되 는 약액 에 대응 하 여 상하 이동 및 회전 하 는 스핀 헤드 ( 130 ) 와 , 공정 챔버 ( 106 ) 로 다수 의 약액 들 을 공급 하 는 약액 공급 부 ( 170 ) 와 연결 되 어 기판 표면 으로 약액 을 분사 하 는 노즐 부 ( 160 ) 와 , 공정 챔버 ( 110 ) 에 구비 되 어 다수 의 약액 들 을 회수 하 는 다수 의 약액 포집 장치 ( 110 ) 들 및 , 약액 포집 장치 ( 110 ) 들 로부터 회수 된 약액 들 을 배출 하 는 배출 배관 ( 150 ) 을 포함 한다 . 또 기판 처리 장치 ( 100 ) 는 스핀 헤드 ( 130 ) 와 노즐 부 ( 160 ) 에 연결 되 어 각각 상하 이동 및 / 또는 회전 이동 시키 는 구동 부 ( 104 , 140 ) 와 , 구동 부 ( 104 , 140 ) 를 제어 하 는 제 어부 ( 102 ) 를 포함 한다 .