본 발명 의 제 1 의 측면 은 , 반응 성 스퍼터링 장치 로서 , 챔버 와 , 상기 챔버 내 에 설치 되 고 , 타 겟 이 설치 되 는 타 겟 전극 과 , 상기 성막 챔버 내 에 설치 되 고 , 상기 타 겟 전극 과 대향 해서 성막 대상물 을 보유 하 는 보유 부 와 , 상기 타 겟 의 재료 와 반응 하 는 반응 성 가스 를 도입 하 는 가스 도입부 와 , 성막 중 에 생기 는 플 라즈 마 발광 을 검출 하 는 플라 즈 마 에 미션 모니터 와 , 성막 중 에 상기 보유 부 와 상기 타 겟 전극 과 의 사이 이 며 상기 타 겟 전극 보다 도 상기 보유 부 에 가까운 위치 에 광 을 조사 해서 스퍼터 입자 가 존재 하 는 공간 을 투과 한 후 의 광 의 강도 를 검출 하 는 흡광도 측 정부 를 갖 는 것 을 특징 으로 한다 .