본 발명 의 일 양태 에 따르 면 , 본 발명 은 반도체 소자 의 노광 공정 에 있 어 광 투과율 의 균일성 을 개선 하 는 데 적합 한 보조 포토 마스크 를 갖 는 노광 장비 를 제공 한다 . 상기 노광 장비 는 광원 과 상기 광원 으로부터 소정 거리 이격 되게 배치 되 는 주 포토 마스크 ( main photo mask ) 를 포함 한다 . 투명 영역 들 및 반투명 영역 들 을 갖 고 , 상기 주 포토 마스크 에 대해 콘주게이트 관계 ( conjugate relation ) 를 유지 하 는 보조 포토 마스크 ( auxiliary photo mask ) 가 배치 된다 .