또한 상기 각 실시 형태 에서 는 , 예 를 들 어 투영 유닛 ( PU ) 의 크기 등 에 따라서 는 동일 방향 으로 연장 되 는 1 쌍 의 스케일 부재 의 간격 을 넓혀야 하 므로 , 웨이퍼 ( W ) 상 의 특정 쇼트 영역 , 예 를 들 어 최 외주 ( 最 外周 ) 에 위치 하 는 쇼트 영역 의 주사 노광 시 에 , 그 1 쌍 의 스케일 부재 의 일방 에 , 이것 에 대응 하 는 헤드 가 대향 하 지 않 게 되 는 경우 가 있 다 . 일례 로서 , 도 3 중 에서 투영 유닛 ( PU ) 이 조금 커지 면 , 1 쌍 의 스케일 부재 ( 46 B , 46 D ) 중 헤드 유닛 ( 46 B ) 에 , 대응 하 는 X 헤드 ( 66 ) 가 모두 대향 하 지 않 게 된다 . 또한 , 예 를 들 어 국제 공개 WO 99 / 49504 호 팜플렛 등 에 개시 된 , 투영 광학계 ( PL ) 와 웨이퍼 사이 에 액체 ( 예 를 들 어 순수 등 ) 가 채워지 는 액침 형 노광 장치 에서 는 액체 를 공급 하 는 노즐 부재 등 이 투영 유닛 ( PU ) 을 둘러싸 도록 형성 되 기 때문 에 , 투영 광학계 ( PL ) 의 전술 한 노광 영역 에 대하 여 헤드 를 근접 시켜 배치 하 는 것 이 한층 더 곤란 해진다 . 따라서 , 액침 형 노광 장치 에서 도 3 의 인코더 시스템 을 채용 하 는 경우 에 는 , 항상 X 축 및 Y 축 방향 에 관하 여 각각 2 개 씩 위치 정보 가 계측 가능 할 필요 는 없 고 , X 축 및 Y 축 방향 의 일방 에서 는 2 개 의 위치 정보 , 및 타 방 에서 는 1 개 의 위치 정보 가 계측 가능 해 지 도록 인코더 시스템 을 구성 하 면 된다 . 즉 , 인코더 시스템 에 의한 웨이퍼 스테이지 ( 또는 계측 스테이지 ) 의 위치 제어 에서 는 , 반드시 X 축 및 Y 축 방향 에 관하 여 각각 2 개 씩 , 합계 4 개 의 위치 정보 를 사용 하 지 않 아도 된다 .