또한 반도체 장치 를 구성 하 는 박막 을 가공 할 때 는 포토 리소그래피 법 등 을 사용 하 여 가공 할 수 있 다 . 그 외 에 나 노임 프린트법 , 샌드 블라스트 법 , 리프트 오프 법 등 에 의하 여 박막 을 가공 하 여도 좋 다 . 또한 메탈 마스크 등 의 차폐 마스크 를 사용 하 는 성막 방법 에 의하 여 섬 형상 의 박막 을 직접 형성 하 여도 좋 다 .