도 3 에 있 어서 , 기판 ( 102 ) 은 , 그 제 1 표면 측 에 배치 되 는 회로 층 ( 104 ) 이나 복수 의 화소 ( 112 ) 등 의 각종 소자 를 지지 한다 . 따라서 , 기판 ( 102 ) 에 는 , 그 위 에 형성 되 는 각종 소자 의 프로세스 온도 에 대한 내열 성 과 프로세스 에서 사용 되 는 약품 에 대한 화학 적 안정 성 을 갖 는 재료 를 이용 하 면 된다 . 기판 ( 102 ) 의 재료 로서 는 , 유리 , 석영 , 플라스틱 , 금속 , 세라믹 등 을 포함 할 수 있 다 .