또한 , 본 발명 의 일 형태 에 관한 전자 빔 묘화 방법 은 , 편 향기 에 의해 편향 된 전자 빔 을 샷 마다 순차 조사 함 으로써 , 스테이지 에 적재 된 시료 면 상 에 패턴 을 묘화 하 도록 구성 되 고 , 시료 면 상 에 있 어서 면적 이 동일 하 고 또 한 형상 이 다른 장방형 또는 정방 형 영역 을 조사 하 는 샷 의 조합 으로 이루어지 는 전자 빔 을 조사 하 여 보정 패턴 의 묘화 를 행하 는 공정 과 , 묘화 된 보정 패턴 을 기초 로 하 여 전자 빔 의 형상 의 보정 을 행하 는 공정 과 , 형상 이 보정 된 전자 빔 에 의해 패턴 의 묘화 를 행하 는 공정 을 구비 한 것 을 특징 으로 한다 .