또 다른 실시 형태 는 기판 을 프로세싱 하 기 위한 플 라즈 마 시스템 을 제공 한다 . 본 시스템 은 베이스 , 다수 의 측벽 들 , 베이스 에 인접 한 기판 지 지체 및 프로세스 챔버 를 감싸 기 ( enclose ) 위해 측벽 들 과 인터페이스 되 는 챔버 상부 ( chamber top ) 를 갖 는 프로세스 챔버 를 포함 한다 . 본 시스템 은 또한 다수 의 페라이트 들 과 다수 의 플 라즈 마 챔버 유출 부들 을 포함 한다 . 페라이트 들 은 챔버 상부 위 에 배치 되 어 , 페라이트 들 이 기판 지 지체 의 영역 들 위 에 분배 되 고 , 그 영역 들 은 적어도 기판 지 지체 의 외부 부분 과 기판 지 지체 의 중심 부분 사이 에 연장 된다 . 플 라즈 마 챔버 유출 부 들 은 플 라즈 마 챔버 를 프로세스 챔버 에 연결 하 고 있 고 , 플라 즈 마 챔버 유출 부 들 의 각각 하나 는 각각 의 플 라즈 마 제 한부 를 갖 는다 . 플 라즈 마 시스템 은 또한 , 페라이트 들 을 따라 전류 를 제공 하 기 위한 전력 공급 부 를 포함 할 수 있 고 , 페라이트 들 은 기판 지 지체 의 영역 들 상 에 전류 를 집중 시킨다 .