척 ( 107 ) 은 또한 RF 파워 소스 ( 111 ) 로부터 하부 플라 즈 마 생 성 볼륨 ( 109 ) 로 RF 파워 를 공급 하 도록 정의 되 어 , 척 ( 107 ) 이 하부 플라 즈 마 생 성 볼륨 ( 109 ) 에 대한 전극 으로서 기능 한다 . 하부 플 라즈 마 챔버 의 RF 파워 소스 ( 111 ) 는 상부 플 라즈 마 챔버 의 RF 파워 소스 ( 105 ) 로부터 개별 적 그리고 독립 적 임 을 알 아야 한다 . 따라서 , 상부 및 하부 플라 즈 마 생 성 볼륨 들 ( 103 / 109 ) 에 공급 된 RF 파워 는 개별 적 으로 그리고 독립 적 으로 제어 될 수 있 다 . 일 실시 형태 에서 , RF 파워 소스 ( 111 ) 는 RF 파워 및 다중 주파수 들 을 제공 하 도록 정의 된다 . 예 를 들 어 , RF 파워 소스 ( 111 ) 는 2 MHz , 27 MHz , 및 60 MHz 의 주파수 에서 RF 파워 를 제공 하 도록 정의 될 수 있 다 . 상부 및 하부 플 라즈 마 챔버 들 ( 112 / 114 ) 각각 에 대한 RF 파워 소스 들 ( 105 / 111 ) 각각 은 샤워 헤드 전극 ( 101 ) 및 척 ( 107 ) 에 각각 RF 파워 의 전달 을 가능 하 게 하 도록 자신 의 매칭 네트워크 들 을 통하 여 연결 되 어 있 음 을 알 아야 한다 . 상술 한 바 와 같이 , 일 실시 형태 에서 , 가스 분배 유닛 ( 115 ) 은 상부 및 하부 플라 즈 마 생 성 볼륨 들 ( 103 / 109 ) 양쪽 모두 에 대하 여 RF 파워 복귀 경로 에서 기준 접지 전극 으로서 기능 한다 .