한편 , 본 웨트 에칭 장치 에서 는 , 웨이퍼 에 액체 를 공급 하 고 , 웨이퍼 상 의 액체 를 빨아들여 회수 하 거나 , 혹은 , 웨이퍼 지 지구 의 간극 으로부터 흘러 떨어지 는 액체 를 보 틀 에 의해 회수 하 고 있 다 . 이 때문 에 , 에칭 유닛 , 세정 유닛 및 마스크 층 제거 유닛 의 장치 구조 를 현저 하 게 소형 화 할 수 있 다 . 따라서 , 이 들 유닛 및 건조 유닛 을 소형 의 수용 실에 수용 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 대형 의 클린 룸 을 불 필요 하 게 할 수 있 음 과 함께 , 본 웨트 에칭 장치 의 사이즈 및 비용 을 현저 하 게 억제 하 는 것 이 가능 하 다 .