로컬 또는 전역 보정 의 경우 , 패턴 밀도 의 조정 치 를 제한 하 기 위해 하위 밀도 한계 및 상위 밀도 한계 가 사용 된다 . 샘플링 영역 에 대한 원 하 는 패턴 밀도 보정 치가 하위 밀도 한계 또는 상위 밀도 한계 를 넘어서 면 , 더미 마이크 로 범프 피처 ( dummy micro bump feature ) 가 샘플링 영역 또는 다른 샘플링 영역 에 추가 되 어 샘플링 영역 또는 다른 샘플링 영역 의 패턴 밀도 에 영향 을 줄 수 있 다 .