그래서 , 본 발명자 들 은 , 채널 부 를 형성 하 는 포토 마스크 가 갖 는 , 전 사용 패턴 의 형상 에 따라 , 피전 사체 상 에 , 어떤 광학 상 ( 광 강도 분포 ) 이 형성 되 는지 에 대하 여 검토 하 였 다 . 예 를 들 어 , 측면 형상 이 보다 수직 에 가까운 ( 후술 하 는 경사각 θ 가 크 고 , 90 도 에 가까운 ) 레지스 트 패턴 을 형성 할 수 있 는 포토 마스크 를 얻 을 수 있 다면 , 미세 폭 을 갖 는 패턴 ( 예 를 들 어 , 보다 폭 이 작 은 채널 부 ) 을 , 보다 안정 되 고 확실 하 게 형성 할 수 있 게 된다 . 또한 , 레지스 트 패턴 의 측면 의 경사각 θ 를 90 도 이하 의 원 하 는 값 으로 미세 조정 할 수 있 다면 , 미세 한 패턴 을 고정 밀도 로 형성 할 수 있 음 과 함께 , CD 의 미세 조정 이 가능 한 레지스 트 패턴 을 형성 할 수 있 다 .