본 발명 을 따르 는 제 1 방법 의 제 2 공정 단계 ( 101 ) 에서 , 2 개 의 정렬 마크 들 이 렌즈 의 피사 계 심도 에 위치 할 때 까지 하부 기판 홀더 는 z 방향 으로 이동 한다 . 이 에 의해 , 렌즈 의 초점 평면 과 평행 하 게 제 1 기판 의 외부 표면 을 정렬 시키 기 위해 웨지 오 차 보상 을 수행 할 수 있 다 . 두 개 의 정렬 마크 들 이 피사 계 심도 에 위치 할 때 , 정렬 마크 들 은 측정 될 수 있 는 초점 으로 표시 된다 .