MIM ( Metal Insulator Metal ) 캐 패시 터 에서 유전 막 으로 는 캐 패 시 턴 스와 누설 전류 특성 확보 를 위해 결정 성 을 가진 고유 전 물질 과 비결정질 의 저 유전 물질 을 적층 하 여 사용 하 고 있 다 . 일예 로 , HfO 2 와 Al 2 O 3 을 적층 하 여 만든 HfO 2 / Al 2 O 3 / HfO 2 ( ' HAH 유전 막 ' 이 라 약칭 함 ) 를 주로 사용 하 고 있 다 .