제 2 마스크 를 이용 하 여 포토레지스트 를 노광 및 현상 하 여 , 데이터 라인 ( DL ) , 소스 및 드레 인 전극 , 데이터 하부 패드 를 포함 한 소스 / 드레 인 패턴 이 형성 될 부분 상측 에 두께 가 다른 제 1 포토레지스트 패턴 ( 70 ) 을 형성 한다 . 제 1 포토레지스트 패턴 ( 70 ) 은 소스 / 드레 인 패턴 이 형성 될 부분 에서 는 제 1 두께 를 갖 고 , 소스 및 드레 인 전극 이 분리 될 채널 영역 에서 는 제 1 두께 보다 낮 은 제 2 두께 를 갖 는다 .