이 와 같 은 노광 공정 을 수행 하 는 데 있 어서 , 웨이퍼 의 배면 에 이 물질 이 발생 하 거나 웨이퍼 의 표면 에 형성 되 는 감광막 의 높이 가 불 균일 하 게 형성 될 경우 노광 장치 의 초점 이 맞 지 않 게 되 는 문제 가 있 다 . 노광 장치 는 DOF ( Depth of Focus ) 라는 초점 심도 가 존재 하 지만 이 물질 또는 평탄 도 가 초점 심도 를 벗어날 경우 노광 으로 형성 되 는 패턴 은 불량 이 될 수 밖에 없 다 .