그리고 , 2 샷 째 의 최대 묘화 시간 ( Ttr ) 이 경과 한 후 , 멀티 빔 ( 20 ) 을 일괄 적 으로 편향 함 으로써 , 각 빔 의 묘화 위치 ( 2 샷 째 의 묘화 위치 ) 를 다음 의 각 빔 의 묘화 위치 ( 3 샷 째 의 묘화 위치 ) 로 시프트 한다 . 이러 한 편향 시 에 , 모두 , 부편 향기 ( 209 ) 는 , 오프셋 으로서 + y 방향 으로 빔 간 피치 의 정수 배 ( nP ) 만큼 , 각 빔 의 묘화 위치 ( 3 샷 째 의 묘화 위치 ) 를 빔 편향 에 의해 이행 한다 . 도 16 ( b ) 에 도시 한 바 와 같이 , 시각 ( t = 2 T ) 이 된 시점 에서 , 주목 서브 조사 영역 ( 29 ) 의 아래 로부터 2 단 째 및 오른쪽 으로부터 1 번 째 의 화소 로부터 , 주목 서브 조사 영역 ( 29 ) 의 y 방향 으로 인접 한 서브 조사 영역 ( 29 ) 의 아래 로부터 3 단 째 및 오른쪽 으로부터 1 번 째 의 화소 로 부편 향기 ( 209 ) 에 의한 멀티 빔 ( 20 ) 의 일괄 편향 에 의해 묘화 대상 화소 가 시프트 되 어 있 다 . 도 16 ( b ) 에 도시 한 바 와 같이 , 주편 향기 ( 208 ) 에 의한 트랙 킹 제어 를 행하 고 있 는 묘화 대상 스트라이프 영역 ( 32 ) 내 의 영역 ( 21 ) ( 실선 ) 은 , y 방향 으로 오프셋 되 어 있 는 것 은 아니 지만 , 실제로 멀티 빔 ( 20 ) 을 조사 하 는 조사 영역 ( 34 ) ( 점선 ) 은 , 부편 향기 ( 209 ) 에 의한 빔 편향 에 의해 y 방향 으로 오프셋 되 어 있 게 된다 .