기판 상 에 다층막 이 형성 된 측정 시편 으로부터 반사 되 는 빛 의 세기 를 분석 하 여 시편 의 다층막 구조 분석 을 위한 산업 계 의 요구 가 증가 하 고 있 다 . 현재 활용 되 는 방법 은 크 게 반사광 측정 기술 ( Reflection Technology ) 과 타원 편광 계측 기술 ( Elliptical Polarization Technology ) 로 구분 되 고 , 1 ㎛ 를 기준 으로 후막 에서 는 반사광 측정기 가 주로 적용 되 고 , 박막 에서 는 타원 계측기 가 주로 사용 되 고 있 으나 , 두께 로 인한 뚜렷 한 구분 은 없 으며 사용 자 의 숙련도 와 시편 의 제작 상태 에 따라서 측정값 의 편차 가 심하 게 나타나 고 있 는 실정 이 다 .