피 가 공체 를 구성 하 는 금속 으로 는 , 규소 , 갈륨 , 티탄 , 텅스텐 , 하프늄 , 지르코늄 , 크롬 , 게르마늄 , 구리 , 은 , 금 , 인듐 , 비소 , 팔라듐 , 탄탈 , 이리듐 , 알루미늄 , 철 , 몰리브덴 및 코발트 중 어느 하나 , 혹은 이 들 의 합금 인 것 을 이용 할 수 있 다 . 이러 한 금속 을 포함 하 는 피 가공 층 으로 는 , 예컨대 , Si , SiO 2 , SiN , SiON , SiOC , p - Si , α - Si , TiN , WSi , BPSG , SOG , Cr , CrO , CrON , MoSi , W , W - Si , Al , Cu , Al - Si 등 및 각종 저유 전막 및 그 에칭 스토퍼 막 이 이용 되 고 , 통상 50 ∼ 10 , 000 nm , 특히 100 ∼ 5 , 000 nm 의 두께 로 형성 할 수 있 다 .