참고 로 , 상기 제 1 트랜 치 ( B ) 가 형성 된 제 1 산화 막 ( 105 ) , 질화 막 ( 106 ) , " 제 2 산화 막 ( 109 ) 은 ONO ( "" O ( Oxide ) """," "" N ( Nitride ) """," "" O ( Oxide ) "" 는 각각 제 1 산화 막 ( 105 ) ", 질화 막 ( 106 ) , 제 2 산화 막 ( 109 ) 을 의미 함 ) 마스크 층 으로 도 지칭 되 며 , 이러 한 ONO 마스크 를 이용 하 면 다양 한 식각 공정 을 처리 할 수 있 다 .