상기 와 같 은 구조 에서 기판 을 하부 전극 에 안착 시키 고 상기 챔버 내부 를 고진공 상태 로 만든 다음 , 상기 챔버 내부 로 가스 제 공부 를 통해 식각 공정 을 위한 공정 가스 를 제공 한다 . 상부 전극 에 RF 파워 를 인가 하 여 상기 하부 전극 및 상부 전극 사이 에 전기장 을 형성 시키 고 , 상기 상부 전극 에서 방출 되 는 자유 전자 가 전기장 에 의해 가속 되 어 상기 공정 가스 와 충돌 하 면서 상기 챔버 내부 에 플 라즈 마가 형성 되 어 기판 에 대한 식각 공정 을 수행 하 게 된다 .