이상 , 구체 예 를 참조 하 면서 실시 형태 에 대하 여 설명 했 다 . 그러나 , 본 발명 은 , 이 들 구체 예 로 한정 되 는 것 은 아니 다 . 또한 , 실시 형태 2 ~ 4 중 의 어느 한 묘화 시퀀스 에 대하 여 , 오프셋 양 ( 거리 ) 및 방향 을 가변 케 한 복수 의 묘화 시퀀스 를 미리 준비 해 두 면 바람직 하 다 . 이 들 복수 의 묘화 시퀀스 를 포함 하 는 복수 의 묘화 시퀀스 ( 1 , 2 , 3 , 4 , ...) 의 정보 는 , 묘화 장치 ( 100 ) 에 외부 로부터 입력 되 어 기억 장치 ( 144 ) 에 저장 해 둔다 . 그리고 , 결함 화소 수 최대 값 연산 공정 ( S 104 ) 및 묘화 시퀀스 선택 공정 ( S 108 ) 을 실시 하 고 , 복수 의 묘화 시퀀스 중 에서 , 결함 화소 수 최대 값 이 , 보다 작아지 는 묘화 시퀀스 를 선택 하 면 된다 . 또한 , 상술 한 예 에서 는 , 주편 향기 ( 208 ) 와 부편 향기 ( 209 ) 와 의 2 단 편향 을 행하 는 경우 에 대하 여 설명 했으나 이 에 한정 되 는 것 은 아니 다 . 일단 편향 ( 트랙 킹 + 화소 전환 양쪽 모두 를 행함 ) 의 경우 여도 상관없 다 . 멀티 하전 입자 빔 의 블 랭킹 기구 는 블 랭킹 애퍼처 어레이 에 한정 되 지 않 는다 . 예 를 들 어 , 기계 적 셔터 를 이용한 애퍼처 어레이 로 블 랭킹 제어 를 해도 된다 . 블 랭킹 애퍼처 로 블 랭킹 제어 하 는 장치 가 아니 라 , 레이저 를 디지털 미러 디바이스 ( DMD ) 등 으로 블 랭킹 하 는 멀티 레이저 빔 묘화 장치 여도 된다 .