발생기 는 셀 챔버 및 반응 셀 챔버 압력 중 적어도 하나 에 대한 정확 한 가스 압력 감지 및 제 어 시스템 을 포함 할 수 있 다 . 본 개시 의 시스템 은 가스 탱크 및 라인 , 예컨대 수소 및 희귀 가스 탱크 와 같 은 라인 및 라인 ( 5 u 및 5 ua 1 ) 중 적어도 하나 를 포함 할 수 있 다 . 가스 시스템 은 압력 센서 , 매니폴드 , 입구 라인 , 피드 - 스루 , 주입기 , 주입기 밸브 , 13 a 와 같 은 진공 펌프 , 13 b 와 같 은 진공 펌프 라인 , 제 어 밸브 , 라인 및 피드 - 스루 를 더 포함 할 수 있 다 . 셀 챔버 ( 5 b 3 또는 5 b 3 a 1 ) 에 는 아르곤 또는 크세논 과 같 은 희가스 가 반응 셀 챔버 ( 5 b 31 ) 의 압력 과 일치 하 도록 첨가 될 수 있 다 . 반응 셀 챔버 압력 은 흑체 온도 를 측정 하 고 금속 증기압 과 온도 사이 의 관계 를 사용 하 여 측정 될 수 있 다 . 돔 의 온도 는 흑체 스펙트럼 방출 을 사용 하 여 측정 될 수 있 다 . 온도 는 광섬유 를 사용 하 여 광 을 수집 하 여 센서 로 이송 할 수 있 는 광학 고온계 를 사용 하 여 측정 될 수 있 다 . 온도 는 온도 를 결정 하 기 위해 흑체 곡선 의 일부 를 샘플링 하 도록 선택 적 인 필터 를 가질 수 있 는 복수 의 다이오드 에 의해 측정 될 수 있 다 . 저 장소 ( 5 c ) 와 같 은 셀 구성 요소 는 가시 광 및 적외선 중 적어도 하나 에 대해 적어도 부분 적 으로 투명 한 알루미나 , 사파이어 , 질화 붕소 및 탄화 규소 중 적어도 하나 와 같 은 내화 재료 를 포함 할 수 있 다 . 질화 붕소 저 장소 와 같 은 저 장소 와 같 은 구성 요소 는 광이 구성 요소 를 통해 광학 온도 센서 로 더 잘 통과 할 수 있 도록 구성 요소 내 에 리세 스 또는 얇 아 진 스폿 을 포함 할 수 있 다 .