스텝 퍼 장비 ( 206 ) 는 반도체 소자 제조 를 위한 포토 공정 중 노광 공정 에 사용 되 는 장치 로서 웨이퍼 와 레티 클 ( reticle ) 을 정렬 시킨 후 , 레티 클 에 포함 된 회로 패턴 을 웨이퍼 위 에 전사 시키 는 동작 을 반복 하 며 , APC ( advanced process control ) 서버 ( 200 ) 로부터 포토 공정 이 수행 되 는 웨이퍼 롯 트 에 필요 한 Overlay 값 을 제공 받 아 웨이퍼 상 레티 클 을 정렬 시켜 노광 공정 을 수행 하 게 된다 .