도 5 에서 , " 전구체 는 캐리어 가스 ( "" 불활성 가스 "") 의 도움 으로 제공 된다 . ALD 는 자기 - 제한 흡착 반응 공정 이 므로 ", 증착 된 전구체 분자 들 의 개수 는 반응 성 표면 사이트 의 개수 에 의해 결정 되 며 포화 후 전구체 의 노출 과 는 무관 하 고 , " 전구체 의 공급 은 사이클 마다 반응 성 표면 사이트 가 포화 되 도록 한다 . 반응물 및 전 구체 의 반응 성 을 높이 기 위한 촉매 는 증착 사이클 에 걸쳐 연속 적 으로 흐르 는 펄스 ( "" 피드 2 "") 로 반응 챔버 에 공급 되 고 ", 반면 반응물 및 불활성 가스 는 전구체 의 공급 없이 반응 챔버 에 연속 적 으로 공급 되 어 단층 을 형성 한다 . 반응물 의 반응 성 이 낮 기 때문 에 , 반응물 은 사이클 에 걸쳐 연속 적 으로 흐를 수 있 고 , 촉매 를 펄스 로 공급 함 으로써 , 증착 반응 은 활성 화 될 수 있 다 . 열적 ALD 를 위한 연속 반응물 유동 은 알려져 있 지 않 고 , 압력 변동 은 최소 화 되 거나 실질 적 으로 억제 될 수 있 고 , 조절 능 은 증가 된다 .