또한 본 발명 의 냉각 장치 에 사용 되 는 용액 분사 노즐 에 있 어서 공기 의 분사 압력 은 1 ~ 5 kgf / cm 2 이 고 , 용액 의 분사 압력 은 1 ~ 4 kgf / cm 2 의 범위 를 갖 으며 분사 된 액적 중 크기 가 100 μ m 이하 인 것 이 99 % 이상 인 가압 식 분사 노즐 도 사용 이 가능 하 다 . 크기 가 100 μ m 이하 인 것 이 99 % 보다 적 게 되 면 큰 액적 들 에 의해 피팅 마크 가 발생 할 위험 이 증가 하 게 된다 . 용액 분사 에 필요 한 용액 가압 장치 및 용액 저장 탱크 는 특별 한 제약 없이 일반 적 인 가압 식 용액 분사 에 사용 되 는 것 이 면 충분 하 다 .