노광 장치 의 해상도 1 . 5 ㎛ 의 노광 장치 를 사용 하 여 레지스 트 막 을 노광 하 여 현상 했 다 . 그 후 , 제 1 에칭 조건 으로서 BCl 3 가스 의 유량 을 40 sccm 으로 하 고 , Cl 2 가스 의 유량 을 40 sccm 으로 하 고 , 65 초 의 에칭 을 행한 후 , 제 2 에칭 조건 으로서 BCl 3 가스 의 유량 을 70 sccm 으로 하 고 , Cl 2 가스 의 유량 을 10 sccm 으로 하 여 에칭 을 행하 였 다 .