본 개시 의 일부 구 현예 에서 , 메모리 ( 144 ) 의 프로그램 은 , 순차 제어기 ( 142 ) 상 에서 실행 되 는 경우 에 제 1 전구체 이후 제 2 전구체 를 제공 하 도록 전구체 분배 시스템 및 제거 시스템 을 활성 화 시킴 으로써 , 복사선 개질 가능 층 ( 106 ) 상 에 선택 적 증착 을 수행 하 도록 프로그래밍 될 수 있 고 , 즉 제 1 전구체 공급원 ( 114 A ) 은 제 1 전구체 증기 를 반응 챔버 ( 12 ) 에 제공 하 고 제 1 전구체 로 복사선 개질 가능 층 ( 106 ) 위 에 또는 그 안 에 재료 를 선택 적 으로 증착 할 수 있 고 , 후속 으로 제 2 전구체 공급원 ( 114 B ) 은 제 2 전구체 증기 를 반응 챔버 ( 12 ) 에 제공 하 고 제 2 전구체 로 복사선 개질 가능 층 ( 106 ) 위 에 또는 그 안 에 재료 를 선택 적 으로 증착 할 수 있 다 . 메모리 ( 144 ) 에 저장 된 프로그램 의 선택 적 증착 사이클 은 , 순차 제어기 ( 142 ) 상 에 실행 되 는 경우 에 복사선 개질 가능 층 ( 106 ) 위 또는 그 안 에 선택 적 증착 을 수행 하 기 위해 , 제 2 전구체 증기 를 제공 한 제 3 기간 보다 더 긴 제 1 전구체 증기 를 제공 한 제 1 기간 을 가질 수 있 다 .