도 4 f 에 도시 된 바 와 같이 , ONO - 1 Pre Cln FN 공정 을 진행 하 여 최종 EFH 를 각각 제어 하 되 , 셀 영역 에서 는 240 Å , 주변 회로 영역 에서 는 760 Å 으로 각각 제어 한다 . 즉 , 셀 영역 과 주변 회로 영역 에서 의 최종 EFH 를 각각 240 Å , 760 Å 으로 제어 하 므로써 , 두 영역 간 EFH 차이 는 520 Å 정도 가 된다 . 종래 기술 에서 는 PCL 마스크 및 OBN 공정 을 도입 하 지 않 아 ONO 유전 막 형성 전 의 EFH 가 동일 하 였으나 , 본 발명 은 두 영역 간 EFH 를 서로 다르 게 한다 . 바람직 하 게 , 셀 영역 과 주변 회로 영역 간 EFH 차이 는 적어도 500 Å 이상 으로 한다 .