플라 즈 마는 이온 이나 전자 , 라디칼 등 으로 이루어진 이온 화 된 가스 상태 를 말 한다 . 플라 즈 마는 매우 높 은 온도 나 , 강한 전계 혹은 고주파 전자계 ( RF Electromagnetic Fields ) 에 의해 생성 된다 . 반도체 소자 제조 공정 은 플 라즈 마 를 사용 하 여 식각 공정 을 수행 한다 . 식각 공정 은 플 라즈 마 에 함유 된 이온 입자 들 이 기판 과 충돌 함 으로써 수행 된다 . 이 때 , 플라 즈 마를 발생 시키 기 위한 고주파 전원 으로부터 공급 되 는 고주파 전력 과 기판 을 가열 하 는 가열 부재 사이 에서 커플링 이 발생 할 수 있 으며 , 이러 한 커플링 을 방지 하 기 위해 가열 부재 에 는 차단 필터 가 사용 된다 . 다만 , 차단 필터 가 챔버 에 연결 되 는 경우 챔버 의 임피던스 변화 에 의해 차단 필터 의 성능 이 열화 되 는 문제 가 있 었 고 , 차단 필터 및 차단 필터 와 정전 척 사이 의 연결 케이블 에 의한 하부 전극 의 전압 변화 가 발생 하 여 공정 에 영향 을 주 는 문제 가 있 었 다 .