액정 표시 디바이스 나 반도체 디바이스 는 마스크 상 에 형성 된 패턴 을 감광성 기판 상 에 전사 하 는 이른바 포토 리소그래피 의 수법 에 의해 제조 된다 . 이 포토 리소그래피 공정 에서 사용 되 는 노광 장치 는 , 마스크 를 노광 광 으로 조명 하 고 , 마스크 의 패턴 을 투영 광학계 를 통하 여 기판 에 전사 한다 . 최근 , 마스크 와 기판 을 동기 하 여 이동 시키 면서 노광 광 으로 마스크 를 주사 하 는 주사 형 노광 장치 가 주류 로 되 고 있 다 . 이 종류 의 노광 장치 에 있 어서 는 , 제조 하 는 디바이스 의 저 비용 화 를 실현 하 기 위해 생산 성 의 향상 이 요구 되 고 있 다 . 생산 성 을 향상 시키 기 위해 , 기판 의 노광 을 실시 하 는 제 1 노광 스테이션 과 제 2 노광 스테이션 을 구비 하 고 , 제 1 노광 스테이션 에서 기판 상 의 제 1 영역 에 제 1 노광 을 실시 한 기판 에 대하 여 , 제 2 노광 스테이션 에서 기판 상 의 제 1 영역 과 상이 한 제 2 영역 에 제 2 노광 을 연속 하 여 실시 하 는 기술 이 개시 되 어 있 다 ( 예 를 들 어 , 특허 문헌 1 참조 ) .