도 8 을 참조 하 면 , 노광 공정 이 진행 된 포토레지스트 막 ( 210 ) 에 현상 공정 을 진행 하 여 미러 층 ( 205 ) 의 표면 을 일부 노출 시키 는 포토레지스트 막 패턴 ( 215 ) 을 형성 한다 . 현상 공정 은 포토레지스트 막 의 노광 여부 에 따라 용 해도 차이 가 발생 된 영역 의 포토레지스트 막 을 제거 한다 . 여기 서 현상 공정 은 알칼리 용액 , 예 를 들 어 테트라메틸 암모늄 하이드 록 사이드 ( TMAH ; Tetramethyl - Ammonium Hydroxide ) 용액 을 이용 하 여 진행 한다 .