그러나 , 종래 의 레지스 트 조성물 을 사용 하 여 상기 와 같이 미세 한 패턴 ( 예 를 들 어 미세 한 라인 앤드 스페이스 패턴 ) 을 기판 상 에 형성 하 고자 하 면 , 패턴 붕괴 를 발생 시키 는 등 의 해상 성 이 문제 가 된다 . 또한 , 이 해상 성 을 개선 할 수 있 는 것 이 어도 , 예 를 들 어 패턴 에 있 어서 의 스페이스 폭 의 균일성 ( 러프 니스 저감 ) 의 점 에서 , 요구 에 대하 여 여전히 불충분 하 였 다 .