한편 , 노광 장치 내 의 프로 젝 션 렌즈 부 의 어느 한 부분 에 는 패턴 이 형성 된 포토 마스크 를 통과 한 광 의 성분 이 맺히 는 퓨 필 ( pupil ) 면 이 존재 한다 . 이러 한 퓨 필 면 내 에 맺히 는 광 의 형태 및 정도 에 따라 포토 마스크 상 에 형성 된 패턴 의 콘트 라스트 ( contrast ) 가 결정 되 어 웨이퍼 상 에 패턴 을 형성 하 게 된다 .