도 6 a , 도 6 b , 도 7 a 및 도 7 b 를 참조 하 면 , 실시 예 1 및 2 의 적층 체 들 에 있 어서 , 이 들 을 제조 하 는 공정 동안 구리 ( Cu ) 가 SiO 2 유전체 층 으로 확산 되 지 않 았 음 을 확인 할 수 있 다 . 즉 , 실시 예 1 및 2 의 Ta 1 - xMnxOy 박막 들 은 매우 우수 한 구리 확산 방지 막 으로 기능 함 을 알 수 있 다 .