이하 , 첨부 한 도면 을 참조 하 여 본 발명 의 바람직 한 실시 예 들 에 따른 상변화 물질 층 패턴 의 형성 방법 , 상변화 메모리 장치 의 제조 방법 및 이 에 사용 되 는 상변화 물질 층 연마 용 슬러리 조성물 에 대하 여 상세 하 게 설명 한다 . 그러나 본 발명 이 하 기 의 실시 예 들 에 제한 되 는 것 은 아니 며 , 해당 분야 에서 통상 의 지식 을 가진 자 라면 본 발명 의 기술 적 사상 을 벗어나 지 않 는 범위 내 에서 본 발명 을 다양 한 다른 형태 로 구현 할 수 있 을 것 이 다 .