이 와 같이 본 발명 의 실시 예 에서 는 스테이지 위치 가 기 설정 된 토출 기준 위치 ( XS 1 , XS 2 , XS 3 … XS 20 ) 가 될 때 , 디 스펜서 ( 5000 ) 로부터 원료 를 토출 시킨다 . 따라서 , 코팅 층 ( 140 ) 을 균일 한 두께 로 형성 할 수 있 다 . 즉 , 코팅 층 ( 140 ) 중 일부 가 목표 하 는 두께 ( L 3 ) 에 비해 얇 거나 , 두껍 게 형성 되 지 않 고 균일 한 두께 를 가지 도록 형성 할 수 있 다 .