또 , 상기 각 실시 형태 의 노광 장치 의 광원 은 ArF 엑 시머 레이저 에 한정 되 지 않 고 , KrF 엑 시머 레이저 ( 출력 파장 : 248 nm ) , F 2 레이저 ( 출력 파장 : 157 nm ) , Ar 2 레이저 ( 출력 파장 : 126 nm ) 또는 Kr 2 레이저 ( 출력 파장 : 146 nm ) 등 의 펄스 레이저 광원 , 또는 g - 선 ( 출력 파장 : 436 nm ) , i - 선 ( 출력 파장 : 365 nm ) 등 의 휘선 을 발생 하 는 초고압 수은 램프 가 사용 될 수 도 있 다 . 또한 , YAG 레이저 등 의 고조파 발생 장치 가 또한 사용 될 수 있 다 . 상기 광원 이외 에 , 예 를 들 어 미국 특허 제 7 , 023 , 610 호 에 개시 된 바 와 같이 , 예 를 들 어 에르븀 ( 또는 에르븀 및 이테르븀 양자 ) 으로 도핑 된 파이버 ( fiber ) 증폭기 를 이용 하 여 , 진공 자외선 으로서 DFB 반도체 레이저 또는 파이버 레이저 에 의해 사출 되 는 적외선 또는 가시광선 영역 내 의 단일 - 파장 레이저 빔 을 증폭 시키 고 , 비 선형 광학 결정 을 사용 하 여 파장 을 자 외광 으로 변환 함 으로써 얻 어 지 는 고조파 가 사용 될 수 도 있 다 .