이 와 같이 , 윙 스 페이서 ( 104 A ) 제거 공정 시 그 하부 에 형성 된 소자 분리 막 용 산화 막 ( 103 A ) 이 손실 되 는 경우 , 손실 되 는 양 만큼 이미 도 2 a 에서 결정 된 EFH 가 변동 되 고 , 이러 한 EFH 의 변동 이 셀 영역 내 에서 균일 하 게 이루어지 지 않 고 , 공정 조건 에 따라 불 균일 하 게 일어나 균일 한 문턱 전압 의 분포 를 확보 할 수 없 는 문제 가 발생 된다 . 즉 , 간섭 효과 에 의한 셀 의 기입 문턱 전압 의 분포 는 개선 할 수 있 으나 , 물리 적 인 EFH 에 의한 셀 기입 문턱 전압 의 분포 는 안정 적 으로 확보 할 수 없 는 문제 가 발생 된다 .