고밀도 플라스마 화학 기상 증착 ( High - Density Plasma Chemical Vapor Deposition : HDPCVD ) 방법 은 플라스마 를 이용 하 여 갭 내 에 막 을 증착 하 고 , 막 의 증착 시 성장 한 오버행 을 에칭 하 며 , 이후 다시 막 을 증착 하 는 증착 / 에칭 / 증착 방법 을 사용 하 여 보이드 가 형성 되 는 것 을 방지 한다 . 즉 , 부분 적 으로 채워진 갭 을 재 형상 화 하 여 갭 을 개방 시키 고 , 갭 내 에 보이드 가 형성 되 기 이전 에 갭 내 에 막 을 증착 시킨다 . 이 와 같 은 방법 은 큰 종횡비 ( Aspect Ratio : AR ) 를 가지 는 갭 내 에 보이 드 없이 막 을 증착 시킬 수 있 다 .