본 발명 을 따르 는 실시 예 에서 , 정렬 장치 ( aligner ) 는 적어도 하나 의 하부 기판 홀더 , 상부 기판 홀더 , 각각 2 개 의 렌즈 를 포함 하 는 2 개 의 감지 유닛 , 및 바람직 하 게 하나 의 위치 오 차 수정 장치 ( PEC ) 를 포함 한다 . 위치 오 차 수정 장치 가 샘플 홀더 의 위치 감지 를 수행 하 는 정밀도 는 , 1 μ m 보다 양호 하 거나 바람직 하 게 500 nm 보다 양호 하 거나 보다 바람직 하 게 100 nm 보다 양호 하 거나 가장 바람직 하 게 50 nm 보다 양호 하 거나 가장 바람직 하 게 10 nm 보다 양호 하 다 . 2 개 의 기판 홀더 들 중 하나 , 특히 하부 기판 홀더 가 공정 영역 을 완전히 벗어나 서 추가 공정 단계 에서 공정 영역 으로 다시 이동 해야 할 때 상기 위치 오 차 수정 장치 는 특히 중요 하 다 . 위치 오 차 수정 장치 를 이용 하 면 정렬 마크 들 을 새로 측정 하 지 않 고 도 기판 홀더 의 매우 정확 하 고 새로운 위치 설정 이 수행 될 수 있 다 . 하부 기판 홀더 는 최 하부 기판 의 하부 측 부 에서 리세 스 를 가지 며 , 상기 리세 스 를 통해 하부 렌즈 는 각각 결합 경계 면 또는 하부 정렬 마크 로 안내 될 수 있 다 . 하부 기판 홀더 는 바람직 하 게 x 및 / 또는 y 및 / 또는 z 방향 으로 변경 ( shifted ) 될 수 있 다 . 추가 의 공보 및 특히 도면 에 도시 되 고 설명 된 실시 예 에 의하 면 , 기판 홀더 , 특히 하부 기판 홀더 가 x 및 y 방향 을 따라 제 1 위치 설정 이후 에 z 방향 으로 만 이동 한다 . 그러나 , 기판 홀더 는 공정 영역 을 완전히 벗어나 서 나중 에 공정 영역 으로 다시 이동 할 수 있 다 . 기판 홀더 가 공정 영역 속 으로 각각 새로 들어가 면 , 기판 의 새로운 교정 은 특히 기판 홀더 상 의 렌즈 에 의해 수행 될 수 있 다 . 그러나 , 기판 홀더 는 위치 오 차 수정 장치 에 의해서 만 최초 위치 로 이동 하 는 것 이 바람직 하 다 . 전체 공정 영역 을 벗어나 야 하 는 기판 홀더 에 있 어서 , 리세 스 속 으로 가라앉 은 렌즈 위 로 기판 홀더 를 들어올리 는 것 이 필요 할 수 있 다 .