이 에 따라 포토레지스트 와 피식 각층 사이 에 식각 내성 이 강한 무기물 혹은 유기물 막 질 을 도입 하 게 되 었 다 . 이 막 질 을 하드 마스크 라 칭하 며 , 하드 마스크 공정 은 통상 적 으로 포토레지스트 패턴 을 이용 하 여 하드 마스크 를 식각 하 여 패 터닝 한 후 하드 마스크 의 패턴 을 이용 하 여 피식 각층 을 식각 하 는 공정 을 말 한다 .