본 발명 의 일 실시 예 에 따르 면 , 상기 디더링 마스크 패턴 생성 회로 는 공간 적 랜덤 번호 발생 회로 에서 생성 되 는 랜덤 번호 에 근거 하 여 상기 2 N 개 프레임 주기 가 시작 되 는 첫 번 째 프레임 에서 는 2 N / 2 * 2 N / 2 서브 픽셀 단위 로 각 서브 픽셀 에 대응 되 는 마스크 값 을 { 0 , 1 , 2 , … , 2 N / 2 - 1 } 값 중 에서 하나 의 값 을 중복 되 지 않 게 랜덤 하 게 선택 하 여 마스크 패턴 을 생성 시키 고 , 상기 첫 번 째 프레임 에 연속 되 는 2 N / 2 - 1 개 프레임 의 동일 좌표 의 서브 픽셀 에 대응 되 는 각각 의 마스크 값 은 { 0 , 1 , 2 , … , 2 N / 2 - 1 } 값 중 에서 해당 2 N 개 프레임 주기 에 포함 된 이전 프레임 의 동일 좌표 서브 픽셀 에서 선택 된 값 을 배제 하 고 남 은 값 중 에서 하나 의 값 을 랜덤 하 게 선택 하 여 마스크 패턴 을 생성 시키 는 디 더 패턴 생 성부 및 상기 프레임 오프셋 값 과 상기 마스크 패턴 값 을 더 하 여 디더링 마스크 패턴 값 을 생성 시키 는 합 산기 를 포함 함 을 특징 으로 한다 .