몇몇 실시 형태 에 있 어서 , 후방 측 간섭계 마스크 ( 300 ) 는 후방 전극 ( 1660 ) 내 의 임의 의 패턴 을 덮 도록 웨이퍼 를 가로질러 혹은 전지 를 가로질러 패턴 화 되 어 있 을 수 있 다 . PV 기능 성 의 관점 으로부터 , 변환 될 광이 전방 층 을 통해서 들어오 기 때문 에 이러 한 패턴 화 는 필요 하 지 않 을 수 있 고 , 후방 측 은 불 투명 할 수 있 으므로 , 후방 측 간섭계 마스크 는 웨이퍼 의 전체 후방 측 을 싸 거나 덮 을 수 있 다 . 그러나 , 후면 이 보이 는 응용 을 위해서 , 창 혹은 태양광 패널 의 부분 은 아 투명 ( translucent ) 하 거나 투명 하 거나 반투명 ( semi - transparent ) 하 다 . 그 경우 에 , 후방 전극 ( 1660 ) 의 패턴 을 따르 도록 IMOD 마스크 ( 300 ) 를 패턴 화 하 는 것 은 후방 전극 ( 1660 ) 에 인접 한 영역 에서 투명 성 을 유지 함 으로써 일부 의 광 의 통과 를 허용 하 는 것 을 도울 수 있 다 . 전술 한 바 와 같이 , 전방 전극 에 대해서 , 이러 한 IMOD 마스크 패턴 은 후방 전극 패턴 과 정렬 될 수 있 거나 혹은 10 % 이하 혹은 5 % 이하 만큼 후방 전극 의 표면 을 넘 어 피복 되 어 연장 될 수 있 다 . 또한 , 전방 측 IMOD 마스크 와 마찬가지 로 , 후방 측 마스크 ( 300 ) 의 광학 공명 공동 부 ( 302 ) 는 , 전도성 층 , 유전체 층 , 공기 간극 , 다수 층 혹은 층 ( 들 ) 과 공기 간극 의 조합 을 비롯 한 광학 적 으로 투명 한 막 으로 형성 될 수 있 다 .