게이트 절 연막 ( 715 ) 은 , 게이트 절 연막 ( 703 ) 과 같 은 재료 , 같 은 적층 구조 를 이용 해서 형성 할 수 있 다 . 다만 , 게이트 절 연막 ( 715 ) 은 , 수분 , 수소 등 의 불순물 을 극력 ( 極力 ) 포함 하 지 않 는 것 이 바람직 하 다는 점 을 주목 하 라 . 스퍼터링 법 에 의해 산화 규소 막 을 성막 한 경우 에 는 , 타 겟 으로서 실리콘 타 겟 또는 석영 게이트 를 이용 하 고 , 스퍼터링 가스 로서 산소 또는 , 산소 및 아르곤 의 혼합 가스 를 이용 한다 .