격벽 ( 180 ) 은 하부 유전체 층 ( 175 ) 상 에 형성 되 며 , 제 1 기판 ( 111 ) 과 제 2 기판 ( 171 ) 사이 의 방전 공간 을 구획 하 여 복수 의 방전 셀 들 을 형성 한다 . 본 실시 예 에서 는 매트릭스 형 의 격벽 ( 180 ) 을 예시 하 였으나 , 이 에 한정 되 는 것 은 아니 며 스트라이프 형 격벽 ( 180 ) 을 비롯 하 여 , 방전 셀 단면도 가 원형 , 다각형 등 의 다양 한 형태 를 갖 도록 격벽 ( 180 ) 을 형성 할 수 있 다 .