처리 시스템 은 또한 경계 부 정보 를 사용 하 여 크로스 토크 에 의해 야기 되 는 노이즈 신호 를 완화 시키 거나 제거 할 수 있 다 . 위 에서 논의 된 바 와 같이 , 수차 및 분산 으로 인하 여 인접 한 전자 빔 들 에 의해 형성 된 빔 스폿 들 의 부분 중첩 으로 크로스 토크 가 발생 할 수 있 다 . 일부 실시 예 에서 , 처리 시스템 은 이웃 하 는 빔 스폿 들 의 ( 예 를 들 어 도 4 b 에 보여 지 고 있 는 바 와 같이 ) 일 차 경 계부 ( 312 ) 에 기초 하 여 부분 중첩 의 발생 을 검출 할 수 있 다 . 그 뿐 만 아니 라 , 일부 실시 예 에서 , 처리 시스템 은 또한 부분 중첩 의 발생 을 검출 함 에 있 어서 이웃 하 는 빔 스폿 들 의 이 차 경 계부 ( 314 ) 를 포함 할 수 있 다 . 검출 에 기초 하 여 , 처리 시스템 은 일부 전자 감지 요소 가 빔 스폿 이 중첩 되 는 영역 내 에 위치 되 어 있 다는 것 을 결정 할 수 있 으며 빔 스폿 의 세기 값 을 결정 할 때 이 전자 감지 요소 로부터 의 출력 을 배제 할 수 있 다 . 따라서 , 분산 으로 인한 인접 한 빔 스폿 들 간 의 중첩 을 감소 또는 제거 하 기 위해 전자 광학 서브 - 시스템 내 의 비 정상 적 인 보정 하드웨어 의 필요 성 이 완화 되 거나 심지어 제거 될 수 있 다 . 결과 적 으로 , 전자 빔 툴 ( 104 ) 의 복잡 성 이 감소 될 수 있 으며 , 이 는 툴 의 성능 및 신뢰 성 을 향상 시킬 수 있 다 . 또한 , 전자 광학 서브 - 시스템 내 의 비 정상 적 인 보정 하드웨어 는 검출 된 전자 빔 의 상당 한 세기 감소 를 야기 할 수 있 으며 신호 대 노이즈 비 를 감소 시킬 수 있 다 . 처리 시스템 에 의하 여 제공 되 는 크로스 토크 결정 및 완화 는 신호 대 노이즈 비 와 크로스 토크 간 의 균형 을 실시간 으로 조정 하 기 위해 사용 될 수 있 다 . 신호 대 노이즈 비 와 크로스 토크 간 의 균형 을 실시간 으로 조정 하 는 능력 은 전자 빔 툴 의 유연 성 과 성능 을 크 게 향상 시킬 수 있 다 .