특히 , 본 발명 은 세리아 슬러리 의 제조 방법 에 있 어서 , 밀링 공정 이후 에 숙 성 ( aging ) 공정 을 도입 하 여 평균 입도 를 제어 하 고 분산 안정 성 을 강화 시키 는 것 을 목적 으로 한다 . 숙성 시간 , 온도 및 숙성 방법 을 조절 하 여 거대 입자 가 제거 되 고 80 내지 300 ㎚ 범위 의 평균 입도 를 갖 는 세리아 슬러리 를 제공 하 는 것 을 목적 으로 한다 . 또한 , 응집 되 어 있 는 2 차 입자 들 을 제거 하 거나 응집 을 해소 하 여 분산 안정 성 이 강화 된 세리아 슬러리 를 제공 하 는 것 을 목적 으로 한다 .