도 4 에 는 플 라즈 마 증착 된 PPDMCPSO : CHex 박막 을 질소 와 산소 가스 를 이용 하 여 550 ℃ 까지 온도 에 따라 열처리 를 모두 수행 한 박막 에 대한 상대 유전 상수 ( 도 4 a ) 와 두께 변화 ( 도 4 b ) 가 나타나 있 다 . 유전 상수 의 측정 은 저항 이 매우 낮 은 실리콘 기판 위 에 Al / PPDMCPSO : CHex / metallic - Si 구조 의 축전기 를 만들 어 1 MHz 주파수 의 신호 를 인가 함 으로써 측정 하 였 다 . 플 라즈 마 증착 된 PPDMCPSO : CHex 박막 ( AS ) 을 550 ℃ 까지 질소 가스 를 이용 하 여 후 열처리 한 박막 ( RTN ) 에 대하 여 유전 상수 를 측정 하 였을 때 상대 유전 상수 는 2 . 4 에서 1 . 85 로 현저히 감소 하 였 고 , 산소 가스 를 이용 하 여 후 열처리 한 박막 ( RTO ) 에 대하 여 질소 가스 를 이용 하 여 후 열처리 한 박막 ( RTO ) 에 비하 여 2 . 4 에서 1 . 98 까지 감소 하 는 것 을 알 수 있 었 다 . 박막 의 두께 변화 는 후 열처리 온도 가 증가 할수록 두께 가 줄어드 는 경향 을 보 았 으며 , 특히 350 ~ 400 ℃ 에서 48 % 의 급격 한 두께 변화 가 나타났 다 . 450 ℃ 이후 에서 는 두께 변화 가 거의 없 었 으며 , 이 는 앞 에서 보여준 열 적 안정 성 데이터 와 비교 하 였을 때 , 441 ℃ 이후 질량 감소 가 없 는 것 과 일치 함 을 보였 다 . 또한 실험 결과 , 300 ℃ 이전 에 까지 는 0 . 5 % 미만 으로 거의 두께 변화 가 없 었 다 .