본 발명 에서 피 처리 물 이 라 함 은 세정 및 건조 처리 가 이루어지 는 대상물 로서 , 통상 의 실리콘 웨이퍼 ( W ) 를 포함 할 수 있 으며 , 그 외 다른 반도체 장치 등 이 포함 될 수 있 다 . 또한 , 본 발명 에서 세정액 ( S ) 이 라 함 은 기판 에 잔존 하 는 오염 물질 을 세정 하 기 위한 화학 용액 으로서 단일 또는 복수 개 의 화학 용액 을 포함 하 여 구성 될 수 있 다 .