타 겟 디자인 에 대한 모델 - 기반 OPC 의 적용 은 , 칩 디자인 에 전형 적 으로 존재 하 는 수많 은 피처 들 을 고려 하 는 계산 수단 들 및 우수 한 공정 모델 들 을 필요 로 한다 . 하지만 , OPC 를 적용 하 는 것 은 일반 적 으로 ' 정밀 과학 ' 이 아니 라 , 레이아웃 상 의 모든 가능 한 결점 을 항상 해결 하 지 는 않 는 실험 적 인 반복 공정 이 다 . 그러므로 , 마스크 세트 의 제조 로 만들 어 지 는 디자인 결함 들 의 가능 성 을 최소 화 하 기 위해 , OPC 후 디자인 들 , 즉 OPC 및 여 하한 의 다른 RET 들 에 의해 모든 패턴 수정 들 을 적용 한 이후 의 마스크 레이아웃 들 이 디자인 검사 , 즉 캘리 브레이 션 된 수치 공정 모델 들 을 이용 한 풀 - 칩 ( full - chip ) 시뮬레이션 에 의해 입증 되 어야 한다 . 이 는 고 성능 마스크 세트 들 을 구성 하 는 막대 한 비용 - 이 는 수백만 달러 범위 에서 운영 됨 - 에 의해서 뿐 만 아니 라 , 일단 제조 되 면 실제 마스크 들 을 재 가공 하 거나 수리 함 으로써 소요 시간 에 대한 영향 에 의해 좌우 된다 .