상술 한 제 2 실시 형태 에 있 어서 , 도포 · 현상 장치 ( 2 ) 는 , 송액 부 ( 60 ) 와 토출 부 ( 30 ) 사이 를 개폐 하 는 토출 밸브 ( 72 ) 와 , 송액 부 ( 60 ) 내 와 토출 부 ( 30 ) 내 의 압력 차 를 축소 시키 도록 송액 부 ( 60 ) 내 의 압력 을 변경 한 후 에 토출 밸브 ( 72 ) 를 개방 하 는 토출 준비 부 ( 111 ) 와 , 토출 준비 부 ( 111 ) 에 의해 토출 밸브 ( 72 ) 가 개방 된 상태 에서 , 노즐 ( 31 ) 로부터 웨이퍼 ( W ) 에 의 처리 액 의 토출 을 개시 시키 는 토출 제 어부 ( 112 ) 를 구비 한다 . 이 경우 , 송액 부 ( 60 ) 내 와 토출 부 ( 30 ) 내 의 압력 차 를 축소 시킨 상태 에서 , 토출 밸브 ( 72 ) 가 개방 되 므로 , 토출 밸브 ( 72 ) 를 개방 하 는 것 에 수반 하 는 처리 액 의 헌팅 을 억제 할 수 있 다 . 따라서 , 웨이퍼 ( W ) 에 토출 되 는 처리 액 중 의 파티클 의 저감 에 더욱 유용 하 다 .