본 발명 의 실시 예 에서 는 , 전자 빔 크기 측정 시 측정 기준 마크 가 전자 빔 스캔 방향 으로 2 개 의 벽면 에지 ( edge ) 가 구비 되 는 측정 담장 을 포함 하 게 구성 되 어 , 전자 빔 스캔 에서 이중 에지 에 대한 전자 빔 신호 를 검출 할 수 있 게 한다 . 검출 된 신호 를 각각 의 에지 에 대한 2 종류 의 신호 로 분할 하 여 각각 1 차 및 2 차 미분 하 여 결과 를 계산 처리 하 도록 한다 . 이 에 따라 , 전자 빔 크기 측정 시 측정 기준 마크 자체 에 기인 하 는 오차 성분 및 전자 빔 세기 검출 방향 에 따른 오차 성분 을 감소 할 수 있 도록 하 여 , 전자 빔 크기 측정 정도 를 향상 시킬 수 있 다 .