또한 , 전술 한 제 3 실시 형태 에서 는 , 기판 ( W ) 을 처리 액 에 의해 처리 하 고 있 는 동안 , 어느 하나 의 노즐 로부터 처리 액 을 토출 시키 는 경우 에 대하 여 설명 하 였 다 . 그러나 , 기판 ( W ) 위 에 처리 액 의 액 막 을 보유 시킴 으로써 기판 ( W ) 을 처리 하 여도 좋 다 . 즉 , 기판 ( W ) 에 의 처리 액 의 공급 을 정지 시킨 상태 에서 , 기판 ( W ) 위 에 처리 액 의 액 막 을 보유 시킴 으로써 처리 를 진행 시키 는 푸들 ( puddle ) 처리 가 행하 여져 도 좋 다 .