또한 , 플라 즈 마 처리 장치 ( 100 ) 는 웨이퍼 ( 8 ) 의 이면 측 에 전열 용 가스 를 공급 하 여 온도 를 개별 로 제어 가능 한 구성 으로 해도 된다 . 예 를 들 면 , 배치 대 ( 2 ) 등 을 관통 하 도록 , 웨이퍼 ( 8 ) 의 이면 에 헬륨 가스 등 의 전열 용 가스 ( 백 사이드 가스 ) 를 공급 하 기 위한 가스 공급 관 이 마련 되 어도 된다 . 가스 공급 관 은 도시 하 지 않 은 가스 공급원 에 접속 되 어 있 다 . 이 들 구성 에 의해 , 배치 대 ( 2 ) 의 상면 에 정전 척 ( 6 ) 에 의해 흡착 유지 된 웨이퍼 ( 8 ) 를 정해진 온도 로 제어 한다 .