본 발명 에 따른 기판 처리 장치 는 , 하나 의 기판 을 유지 하 고 , 유지 한 하나 의 기판 을 처리 하 는 처리 유닛 과 , 복수 의 기판 을 동시 에 수용 할 수 있 는 처 리조 로서 , 기판 을 침지 하 여 처리 하 기 위한 처리 액 을 순환 공급 하 면서 저류 ( 貯留 ) 하 는 처 리조 와 , 상기 처 리조 의 기판 수용 가능 수 미만 의 수 이 며 1 이상 의 기판 을 동시 에 반송 가능 한 반송 장치 로서 , 적어도 상기 처리 액 이 저류 된 상기 처 리조 내 에 기판 을 반송 하 는 반송 장치 를 구비 하 고 , 상기 처리 유닛 과 상기 처 리조 중 적어도 어느 하나 를 사용 해서 기판 을 처리 하 는 것 을 특징 으로 한다 .