잔여 미 사용 된 프라이머 ( 본딩 되 지 않 은 영역 ) 를 가진 컴포넌트 의 영역 은 오염 물질 의 소스 일 수 있 다 . 예 를 들 어 , 실록 산 프라이머 ( 예 를 들 어 , RHODIA SILICONES VI - SIL V - 06 C ) 의 이용 은 티타늄 을 포함 하 는 오염 물질 의 레벨 을 도입 할 가능 성 을 갖 는 것 으로 결정 되 었 다 . 티타늄 오염 물질 은 잠재 적 으로 실리콘 기판 과 반응 하 여 에칭 프로세스 동안 기판 의 원 하 지 않 는 영역 내 에 티타늄 규화물 을 형성 할 수 도 있 다 .