이상 에서 살펴본 바 와 같이 , 본 발명 에 따른 케미컬 용액 의 파티클 모니터링 장치 및 방법 은 상기 케미컬 용액 에 포함 된 파티클 의 양 을 실시간 으로 감시 하 고 , 상기 파티클 양 이 기준 값 이상 인 경우 케미컬 용액 을 드레 인 시켜 웨이퍼 의 오염 을 방지 하 도록 구성 된다 . 본 발명 이 속하 는 기술 분야 의 당업자 는 본 발명 이 그 기술 적 사상 이나 필수 적 특징 을 변경 하 지 않 고서 다른 구체 적 인 형태 로 실시 될 수 있 다는 것 을 이해 할 수 있 을 것 이 다 .