상기 목적 을 달성 하 기 위해 본 발명 에 따른 화상 형성 장치 는 , 광 주사 장치 ; 상기 광 주사 장치 로부터 의 광 빔 이 주사 되 어 정전 잠상 이 형성 되 는 피 주사 면 ; 상기 정전 잠상 을 현상 하 는 현상 유닛 ; 상기 현상 유닛 에 의해 현상 된 이미지 가 전사 되 는 전사 유닛 ; 을 포함 하 고 , 상기 광 주사 장치 는 , 입사광 을 편향 시키 는 제 1 편 향기 ; 상기 제 1 편 향기 에 대해 같 은 반사면 을 사용 하 는 제 1 및 제 2 서브 주사 광학계 ; 입사광 을 편향 시키 는 제 2 편 향기 ; 상기 제 2 편 향기 에 대해 같 은 반사면 을 사용 하 는 제 3 및 제 4 서브 주사 광학계 ; 를 포함 하 고 , 상기 제 1 내지 제 4 서브 주사 광 학계 는 각각 광원 , 상기 광원 과 편 향기 사이 에 구비 되 어 광 을 편 향기 로 입사 시키 는 입사 광학 부 , 상기 편 향기 에 의해 편향 된 광 을 피 주 사면 에 결상 시키 는 출사 광학 부 를 가지 며 , 상기 제 1 및 제 2 서브 주사 광학계 의 광로 가 상기 제 1 편 향기 를 중심 으로 서로 비대칭 이 며 , 상기 제 3 및 제 4 서브 주사 광학계 의 광로 가 상기 제 2 편 향기 를 중심 으로 서로 비대칭 인 것 을 특징 으로 한다 .