본 발명 의 또 다른 구체 예 에서 , 본 발명 에 따르 는 신 너 폐액 의 정제 방법 에 사용 되 는 신 너 폐액 은 반도체 제조 공정 중 포토레지스트 를 세정 하 는 린스 공정 에서 사용 된 신 너 의 폐액 이 이용 될 수 있 다 . 전술 한 바 와 같이 이러 한 신 너 의 폐액 은 PGME ( Propylene Glycol Methyl Ether , 1 - Methoxy - 2 - Propanol ) , HBM ( 2 - Hydroxyisobutyric Acid Methyl Ester ) , PGMEA ( Propylene Glycol Methyl Ether Acetate , 1 - Methoxy - 2 - Propanol Acetate ) , EL ( Ethyl Lactate ) , MAK ( Methyl Amyl Ketone ) , 사이클 로 헥산 온 ( Cyclohexanone ) , GBL ( γ - Butyrolactone ) , EEP ( Ethyl 3 - Ethoxypropionate ) , DPE ( Diisopentyl Ether ) 및 기타 불가분 의 불순물 을 포함 할 수 있 다 .