본 발명 에 따르 면 , 80 , 000 보다 적 은 미러 를 갖 는 투사 노광 장치 의 다중 미러 어레이 ( MMA ) 의 조명 의 시간 적 안정 화 가 본 발명 에 따르 는 제 1 투사 노광 장치 와 연결 하 여 이미 서술 된 것 같이 , DOE 의 광 혼합 성질 을 나타내 는데 유리 하 다 . 그러므로 , 고리 모양 의 세팅 의 형태 로 원 하 는 구조 에 관련 되 어 큰 변동 없이 , 또한 최소 의 가능 한 편차 를 가지 고 , 높 은 정확 성 으로 재생 가능 하 게 실행 되 는 노광 공정 에 대해서 외측 및 / 또는 내측 σ 에서 약간 차이 가 나 는 2 개 의 고리 모양 의 세팅 사이 에 , 투사 노광 장치 의 사용자 에 의해 의도 된 , 변화 가 가능 하 다 . 그러므로 본 발명 에 따르 는 투사 노광 장치 의 사용 자 는 외측 및 / 또는 내측 σ 에서 약간 만 차이 가 나 는 , 2 개 의 고리 모양 의 세팅 또는 출사 동공 에서 의 원 하 는 강도 분포 사이 에서 정확 할 뿐 아니 라 신속 하 게 , 시간 적 으로 안정 되 게 , 재생 가능 하 게 변화 할 수 있 다 .