상기 발광 층 에 사용 되 는 발광 물질 로서 는 일반 적 으로 사용 되 는 형광 혹은 인광 발광 물질 을 제한 없이 사용 할 수 있 으나 , 1 종 이상 의 고분자 호스트 , 고분자 와 저 분자 의 혼합물 호스트 , 저 분자 호스트 , 및 비 발광 고분자 매트릭스 로 이루어진 군 으로부터 선택 된 하나 이상 을 더 포함 할 수 있 다 . 여기 에서 고분자 호스트 , 저 분자 호스트 , 비 발광 고분자 매트릭스 로 는 유기 전계 발광 소자 용 발광 층 형성 시 통상 적 으로 사용 되 는 것 이 라면 모두 다 사용 가능 하 며 , 고분자 호스트 의 예 로 는 폴리 ( 비닐 카르바졸 ) , 폴 리플 루 오렌 , 폴리 ( p - 페닐 렌 비닐 렌 ) , 폴리 티오펜 등 이 있 고 , 저 분자 호스트 의 예 로 는 CBP ( 4 , 4 '- N , N '- 디 카르바졸 - 비페닐 ) , 4 , 4 '- 비스 [ 9 -( 3 , 6 - 비페닐 카바졸 릴 ) ] - 1 - 1 , 1 '- 비페닐 { 4 , 4 '- 비스 [ 9 -( 3 , 6 - 비페닐 카바졸 릴 ) ] - 1 - 1 , 1 '- 비페닐 }, 9 , 10 - 비스 [ ( 2 ', 7 '- t - 부틸 ) - 9 ', 9 ''- 스피로 비플 루 오레 닐 ( spirobifluorenyl ) 안트라센 , 테트라 플 루 오렌 등 이 있 고 , 비 발광 고분자 매트릭스 로 는 폴리 메틸 메타크릴 레이트 , 폴리스티렌 등 이 있 지만 , 이 에 한정 하 는 것 은 아니 다 . 상술 한 발광 층 은 진공 증착 법 , 스퍼터링 법 , 프린팅 법 , 코팅 법 , 잉크젯 방법 등 에 의해 형성 될 수 있 다 .