상기 웨이퍼 의 세정 방법 중 가장 널리 쓰이 는 방법 이 습식 세정 ( Wet Cleaning ) 방법 이 다 . 상기 습식 세정 방법 은 여러 가지 화학 물질 들 의 혼합물 을 이용해 웨이퍼 표면 의 오염원 을 제거 하 는 방법 으로 오염 물질 의 종류 에 따라 다양 한 혼합물 을 사용 하 게 된다 . 상기 습식 세정 방법 은 또한 여러 개 의 공정 단계 를 거치 게 되 는데 상기 공정 단계 의 사이 에 헹굼 단계 를 포함 한다 . 상기 헹굼 단계 는 일반 적 으로 초 순수 ( Ultra Pure Water ; UPW 또는 Deionized water ; DI water 라고 도 함 ) 를 가지 고 수행 하 게 된다 . 따라서 반도체 산업 에서 초 순수 는 소자 의 원 하 는 전기 적 특성 을 얻 고 , 나아가 수율 을 향상 시키 는 데 필수 적 이 다 .