상기 포토 리소그래피 방법 은 코팅 ( coating ) 공정 , 노광 ( photo exposure ) 공정 및 현상 ( develop ) 공정 으로 구성 될 수 있 다 . 코팅 공정 은 포토 레지스 트 를 기판 에 균일 하 게 코팅 하 는 공정 이 고 , 노광 공정 은 얻 고자 하 는 패턴 의 마스크 ( mask ) 를 사용 하 여 EUV ( Extreme UltraViolet ) , e - beam , X - ray , 이온 빔 ( Ion beam ) 등 의 다양 한 광선 중 하나 를 선택 적 으로 포토 레지스 트 에 조사 하 는 공정 이 다 . 또한 , 현상 공정 은 포토 레지스 트 를 선택 적 으로 제거 하 여 패턴 을 형성 시키 는 공정 이 다 .