도 14 에 는 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 상 에 탑재 된 웨이퍼 ( W ) 에 대한 스텝 · 앤드 · 스캔 방식 의 노광 이 실시 되 고 있 는 상태 가 도시 되 어 있 다 . 이 노광 은 , 개시 전 에 실시 되 는 웨이퍼 얼라이먼트 ( EGA ; Enhanced Global Alig ㎚ ent ) 등 의 결과 에 기초 하 여 , 웨이퍼 ( W ) 상 의 각 쇼트 영역 의 노광 을 위한 주사 개시 위치 ( 가속 개시 위치 ) 로 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 를 이동 하 는 쇼트 간 이동과 , 각 쇼트 영역 에 대하 여 레티 클 ( R ) 에 형성 된 패턴 을 주사 노광 방식 으로 전사 하 는 주사 노광 을 반복 함 으로써 실시 된다 . 또한 , 노광 은 웨이퍼 ( W ) 상의 - Y 측 에 위치 하 는 쇼트 영역 으로부터 + Y 측 에 위치 하 는 쇼트 영역 의 순서 로 실시 된다 . 또한 , 투영 유닛 ( PU ) 과 웨이퍼 ( W ) 사이 에 액침 영역 ( 14 ) 이 형성 된 상태 에서 실시 된다 .