나아가 , 본 발명 에 따른 유리 기판 ( P ) 에칭 장치 는 상술 한 바 와 같 은 구성 이외 에 파원 발생 부 ( 140 ) 를 더 포함 하 여 상기 에칭 배스 ( 110 ) 에 채워진 에칭 액 에 파동 이 발생 하 도록 하 면서 유리 기판 ( P ) 의 식각 이 이루어지 도록 함 에 따라 , 에칭 배스 ( 110 ) 내부 의 에칭 액 농도 가 균일 하 도록 함 과 동시 에 유리 기판 ( P ) 표면 에 기포 등 각종 이물질 이 부착 되 는 것 을 방지 할 수 있 게 되 어 당해 유리 기판 ( P ) 표면 전체 에 걸친 식각 특성 을 더욱더 향상 시킬 수 있 게 됨 은 물론 , 유리 기판 ( P ) 의 식각 을 촉진 하 여 공정 시간 역시 단축 할 수 있 게 된다 .