본 체부 ( 16 a ) 는 내부 에 가스 확산 실 ( 16 c ) 이 마련 되 어 있 다 . 또한 , 본 체부 ( 16 a ) 는 가스 확산 실 ( 16 c ) 의 하부 에 , 다수 의 가스 통류 홀 ( 16 d ) 이 형성 되 어 있 다 . 상부 천판 ( 16 b ) 은 당해 상부 천판 ( 16 b ) 을 두께 방향 으로 관통 하 도록 가스 도입 홀 ( 16 e ) 이 , 가스 통류 홀 ( 16 d ) 와 중첩 되 도록 마련 되 어 있 다 . 이러 한 구성 에 의해 , 가스 확산 실 ( 16 c ) 로 공급 된 처리 가스 는 , 가스 통류 홀 ( 16 d ) 및 가스 도입 홀 ( 16 e ) 을 거쳐 처리 용기 ( 1 ) 내 에 샤워 형상 으로 분산 되 어 공급 된다 .