본 단계 는 노광 처리 의 전 단계 로서 , 반도체 포토 장비 를 이용 하 여 감광 물질 층 ( 30 ) 으로 빛 을 쏘 아 주 게 되 면 감광 물질 을 경화 시킨다 . 다만 마스크 판 ( 100 ) 이 상부 에 형성 되 어 빛 이 닿 지 않 는 부분 은 경화 되 지 않 음 으로써 , 감광 물질 층 ( 30 ) 내 에 경화 부분 과 비 경화 부분 이 공존 하 게 된다 .