상기 기술 적 과제 를 달성 하 기 위하 여 , 본 발명 에 따른 포토 마스크 의 결함 패턴 수정 방법 은 , 불량 패턴 이 유발 된 포토 마스크 상 에 레지스 트 막 을 형성 하 는 단계 ; 패턴 이 형성 된 주형 마스크 를 이용 해 정상 패턴 사이 의 투명 기판 부분 을 덮 으면서 수정 되 어야 할 불량 패턴 부분 을 노출 시키 는 레지스 트 패턴 을 상기 포토 마스크 상 에 임프 린트 ( imprint ) 하 는 단계 ; 상기 레지스 트 패턴 에 의해 노출 된 불량 패턴 을 수정 하 는 단계 ; 및 상기 레지스 트 패턴 을 제거 하 는 단계 를 포함 한다 .