공정 챔버 라이너 및 부품 장치 ( component apparatus ) 및 미세 전자 기계 시스템 ( micro - electro - mechanical systems ( MEMS ) ) 는 전자 장치 를 제작 하 는 데 사용 되 는 처리 챔버 내 에 존재 하 는 것 으로 , 은 알루미늄 및 알루미늄 합금 으로 자주 구성 된다 . 공정 챔버 및 부품 장치 ( 챔버 내 에 존재 ) 의 표면 은 부식성 환경 으로부터 의 어느 정도 의 보호 를 제공 하 도록 자주 양극 산화 된다 ( anodized ) . 그러나 , 양극 산화 ( anodization ) 층 의 무결성 ( integrity ) 은 알루미늄 또는 알루미늄 합 금중 의 불순물 에 의해서 악화 되 어서 , 부식 이 조기 에 발생 되 기 시작 하 여 , 보호 코팅 의 수명 을 단축 시킬 수 있 다 . 알루미늄 옥사이드 의 플 라즈 마 내성 은 일부 다른 세라믹 재료 에 비해서 긍정 적 이 지 못하 다 . 그 결과 , 다양 한 조성 의 세라믹 코팅 이 상기 된 알루미늄 옥사이드 층 대신 사용 되 어 왔으며 ; 일부 의 경우 , 하부 알루미늄 - 기반 재료 의 보호 를 개선 하 기 위해 양극 산화 된 층 의 표면 상 에 사용 되 어 왔 다 .