상기 가스 분리 형 샤워 헤드 는 제 1 가스 및 제 2 가스 가 분리 되 어 공급 되 는 가스 공급 모듈 , 상기 공급 된 제 1 가스 및 제 2 가스 가 분리 분산 되 는 가스 분리 모듈 및 복수 의 홀 을 구비 하 고 , 플 라즈 마 화 를 위한 파워 가 인가 되 어 상기 분리 분산 된 가스 들 이 플 라즈 마 화 되 어 상기 복수 의 홀 을 통해 공통 으로 반응 챔버 로 분사 되 는 가스 분사 모듈 을 구비 한다 . 상기 도파관 은 복수 개 의 배 출부 를 구비 하 며 , 제 3 가스 가 공급 되 어 상기 복수 개 의 배 출부 각각 을 통하 여 상기 반응 챔버 내부 로 분사 된다 .