산화물 반도체 층 ( 644 ) 의 형성 후 에 는 , 산화물 반도체 층 ( 644 ) 에 대하 여 열처리 ( 제 1 열처리 ) 를 행하 는 것 이 바람직 하 다 . 이 제 1 열처리 에 의해 산화물 반도체 층 ( 644 ) 중 의 , 과잉 수소 ( 물 이나 수산기 를 포함 한다 ) 를 제거 할 수 있 다 . 제 1 열처리 의 온도 는 , 예 를 들 어 300 ℃ 이상 550 ℃ 미만 , 바람직 하 게 는 400 ℃ 이상 500 ℃ 이하 로 한다 .