이상 설명 한 바 와 같이 , 본 형태 의 자기 패턴 검출 장치 ( 100 ) 에서 는 , 가산 회로 ( 64 ) 에 있 어서 자기 센서 소자 ( 45 ) 로부터 출력 되 는 신호 의 최대 값 과 최소 값 을 가산 한 제 1 신호 ( S 1 ) 는 , 자기 패턴 ( 2 ) 의 잔류 자속 밀도 레벨 에 대응 하 는 신호 로서 , 이러 한 제 1 신호 ( S 1 ) 를 감시 하 면 , 하드 재 를 함유 하 는 자기 잉크 에 의해 형성 된 제 1 자기 패턴 의 유무 및 형성 위치 를 검출 할 수 있 다 . 또 , 감산 회로 ( 65 ) 에 있 어서 자기 센서 소자 ( 45 ) 로부터 출력 되 는 신호 의 최대 값 과 최소 값 을 감산 한 제 2 신호 ( S 2 ) 는 , 자기 패턴 ( 2 ) 의 투자 율 ( μ ) 에 대응 하 는 신호 로서 , 이러 한 제 2 신호 ( S 2 ) 를 감시 하 면 , 소프트 재 를 함유 하 는 자기 잉크 에 의해 형성 된 제 2 자기 패턴 의 유무 및 형성 위치 를 검출 할 수 있 다 . 그러므로 , 자계 를 인가 했 을 때 의 잔류 자속 밀도 ( Br ) 및 투자 율 ( μ ) 이 상이 한 복수 종류 의 자기 패턴 의 매체 ( 1 ) 에서 의 자기 패턴 ( 2 ) 마다 의 유무 및 형성 위치 를 잔류 자속 밀도 레벨 및 투자 율 레벨 의 쌍방 에 기초 하 여 식별 할 수 있 다 .