또한 , 이러 한 기판 처리 방법 이 , 상기 처리 유닛 을 사용 하 여 처리 하 는 공정 과 , 상기 처 리조 내 에서 처리 하 는 공정 모두 를 포함 하 고 , 상기 처리 유닛 을 사용 하 여 처리 하 는 공정 은 , 상기 린스 장치 내 에서 기판 을 린스 처리 하 는 공정 후 에 실시 되 도록 해도 좋 다 . 이러 한 기판 처리 방법 에 있 어서 , 상기 처리 유닛 을 사용 하 여 처리 하 는 공정 은 , 상기 린스 장치 내 에서 린스 처리 가 행해진 하나 의 기판 을 처리 유닛 에 의해 유지 하 는 공정 과 , 상기 처리 유닛 에 의해 유지 된 하나 의 기판 을 건조 시키 는 공정 을 포함 하 도록 해도 좋 다 . 또한 , 이러 한 기판 처리 방법 에 있 어서 , 상 기 처리 유닛 을 사용 하 여 처리 하 는 공정 은 , 상기 린스 장치 내 에서 린스 처리 가 행해진 하나 의 기판 을 처리 유닛 에 의해 유지 하 는 공정 과 , 상기 처 리조 내 에서 처리 하 는 공정 에서 사용 된 처리 액과 는 다른 처리 액 을 공급 하 여 , 처리 유닛 에 의해 유지 된 하나 의 기판 을 처리 하 는 공정 과 , 상기 처리 유닛 에 의해 유지 된 하나 의 기판 에 물 을 공급 하 여 린스 처리 하 는 공정 과 , 상기 처리 유닛 에 의해 유지 되 어 상기 린스 처리 가 실시 된 하나 의 기판 을 건조 시키 는 공정 을 포함 하 도록 해도 좋 다 .