양방향 화살표 ( 56 및 58 ) 에 따른 프리즘 ( 30 및 32 ) 의 회전 제어 를 위해 표면 ( 34 ) 및 표면 ( 42 ) 상 으로 입사 빔 ( 20 ) 의 입사각 은 액 츄 에 이터 ( 52 및 54 ) 에 의해 조절 될 수 있 다 . 프리즘 ( 30 및 32 ) 에 의해 빔 ( 12 ) 의 각도 분포 또는 스펙트럼 을 얼마나 많이 차단 할지 를 결정 하 기 위해 프리즘 ( 30 및 32 ) 의 회전각 의 제어 가 이용 될 수 있 다 . 양쪽 프리즘 ( 30 및 32 ) 의 회전 제어 는 입사 빔 ( 12 ) 의 발산 을 임의 의 원 하 는 값 까지 감소 시키 도록 허용 한다 . 표면 ( 34 및 42 ) 상 으로 의 입사각 을 약간 더 높 게 하 기 위해 양쪽 프리즘 ( 30 및 32 ) 을 회전 하 는 경우 , 여전히 더 작 게 발산 하 는 출사 빔 ( 48 ) 의 발산 프로 파일 을 보여 주 는 그래프 ( 50 ) 에서 점선 ( 60 ) 을 따르 는 각도 의 세기 분포 가 획득 된다 .