노광 장치 의 용도 로 는 반도체 제조 용 노광 장치 에 한정 되 지 않 고 , 예 를 들 어 각 형 ( 角 型 ) 의 유리 플레이트 에 액정 표시 소자 패턴 을 전사 하 는 액정 용 노광 장치 , 유기 EL , 박막 자기 헤드 , 촬상 소자 ( CCD 등 ) , 마이크 로 머신 및 DNA 칩 등 을 제조 하 기 위한 노광 장치 에 도 널리 적용 할 수 있 다 . 또한 , 반도체 소자 등 의 마이크 로 디바이스 뿐 만 아니 라 , 광 노광 장치 , EUV 노광 장치 , X 선 노광 장치 및 전자선 노광 장치 등 에서 사용 되 는 레티 클 또는 마스크 를 제조 하 기 위해서 , 유리 기판 또는 실리콘 웨이퍼 등 에 회로 패턴 을 전사 하 는 노광 장치 에 도 본 발명 을 적용 할 수 있 다 .