이 와 같이 형성 된 노광 마스크 의 위상 반전 패턴 ( 40 ) 은 크롬 막 패턴 ( 30 ) 들 과 함께 광 의 위상 을 180 ˚ 반전 시킴 으로써 , 노광 공정 시 웨이퍼 상 에 조사 되 는 광 의 진폭 을 일정 하 게 유지 하 고 , 위상 반전 영역 을 통과 한 광과 인접 패턴 을 통과 한 광과 의 간섭 효과 가 최소 가 되 도록 하 여 감광막 패턴 의 해상도 를 향상 시키 는 원리 를 사용 한 것 이 다 .