백 플레이트 ( 200 ) 및 가스 확산 부재 ( 300 ) 의 하측 에 는 샤워 헤드 ( 400 ) 가 이격 되 어 배치 된다 . 샤워 헤드 ( 400 ) 는 주입 된 공정 가스 를 확산 시켜 , 공정 가스 가 서 셉 터 ( 500 ) 상 에 위치 할 기판 ( 800 ) 의 전면 에 고르 게 분사 되 도록 하 는 수단 으로서 , 공정 챔버 ( 100 ) 의 단면 형상 과 닮 은 꼴 인 형상 을 가질 수 있 다 . 예 를 들 어 , 공정 챔버 ( 100 ) 가 직육면체 형상 으로 이루어져 그 단면 이 직사각형 을 갖 는 경우 , 샤워 헤드 ( 400 ) 는 직사각 형 의 판재 형상 일 수 있 는 것 이 다 . 또한 , 샤워 헤드 ( 400 ) 는 알루미늄 등 과 같 은 금속 재질 의 판재 형상 인 몸체 에 고른 간격 으로 천공 되 는 분사 홀 ( 410 ) 을 포함 할 수 있 다 . 이 때 , 분사 홀 ( 410 ) 은 아래 로 갈수록 단면적 이 점차 커지 는 콘 형상 일 수 있 다 .