이후 상기 제 2 산화 크롬 물질 층 ( 641 ) 위 로 감광성 유기 물질 인 포토레지스트 를 도포 하 여 포토레지스트 층 을 형성 하 고 , 그 위 로 투과 영역 ( TA ) 과 반투 과 영역 ( HTA ) 및 차단 영역 ( BA ) 을 갖 는 노광 마스크 ( 691 ) 를 위치 시킨 후 , 상기 노광 마스크 ( 691 ) 를 통한 노광 을 실시 한다 .