기판 들 상 으로 패턴 들 을 묘화 시키 기 위한 시스템 및 방법 이 제공 된다 . 극자 외 ( EUV ) 방사선 의 제 1 및 제 2 빔 들 이 생성 된다 . 상기 EUV 방사선 의 제 1 및 제 2 빔 들 을 기판 상 으로 투영 하 기 위해 노광 유닛 이 사용 된다 . 상기 방사선 의 제 1 및 제 2 빔 들 은 상기 기판 의 노광 필드 에서 평행 한 라인 들 의 제 1 세트 를 노광 하 도록 서로 간섭 한다 .