또한 , 상술 한 각 실시 형태 에 관련 된 디바이스 제조 시스템 에서 는 , 플레이트 ( 유리 기판 ) 상 에 소정 의 패턴 ( 회로 패턴 , 전극 패턴 등 ) 을 형성 함 으로써 , 마이크 로 디바이스 로서 의 액정 표시 소자 를 얻 을 수 도 있 다 . 이하 , 도 18 의 플로우 차트 를 참조 하 여 , 이 때 의 수법 의 일례 에 대해 설명 한다 . 먼저 , 도 18 에 있 어서 , 패턴 형성 공정 ( S 401 ) 에서 는 , 상술 한 각 실시 형태 에 관련 된 디바이스 제조 시스템 이 구비 하 는 노광 장치 를 사용 하 여 마스크 의 패턴 을 감광성 기판 ( 레지스 트 가 도포 된 유리 기판 등 ) 에 전사 노광 하 는 , 이른바 광 리소그래피 공정 이 실행 된다 . 이 광 리소그래피 공정 에 의해 , 감광성 기판 상 에 는 다수 의 전극 등 을 포함 하 는 소정 패턴 이 형성 된다 . 그 후 , 노광 된 기판 은 , 반송 장치 에 의해 코터 디벨로 퍼 장치 가 구비 하 는 현상 부 로 반송 되 어 , 현 상부 에 의한 현상 공정 , 에칭 공정 , 레지스 트 박리 공정 등 의 각 공정 을 거침 으로써 , 기판 상 에 소정 의 패턴 이 형성 되 고 , 다음 의 컬러 필터 형성 공정 ( S 402 ) 으로 이행 된다 .