본원 의 일 측면 은 , 제 1 기재 ( substrate ) 상 에 입자 의 정렬 층 을 형성 하 는 단계 ; 상기 입자 의 정렬 층 이 형성 된 제 1 기재 와 제 2 기재 를 접촉 시켜 상기 입자 의 정렬 층 을 제 2 기재 로 전사 ( transfer ) 하 는 단계 ; 상기 제 2 기재 상 에 전사 된 상기 입자 의 정렬 층 을 제 1 박막 형성 물질 로 코팅 하 여 상기 입자 - 제 1 박막 복합체 를 형성 하 는 단계 ; 및 , 상기 입자 - 제 1 박막 복합체 중 상기 코팅 된 제 1 박막 의 일부 를 제거 하 여 복수 의 홀 ( hole ) 을 형성 한 후 상기 홀 을 통하 여 상기 입자 를 제거 하 는 단계 를 포함 하 는 , 홀 을 가지 는 다공성 박막 의 제조 방법 을 제공 한다 .