이어서 , 도 5 c 에 도시 된 바 와 같이 패턴 밀도 가 낮 은 영역 ( 이하 , A 영역 이 라 함 ) 상 의 제 2 하드 마스크 물질 ( 50 ) 상부 에 제 2 감광막 패턴 ( 52 ) 을 형성 한다 . 이때 , 제 2 감광막 패턴 ( 52 ) 은 식각 바이어스 차이 로 인한 하드 마스크 의 사이즈 불 균일 을 방지 하 기 위한 것 으로 , 패턴 간 의 공간 이 좁 은 즉 , 패턴 밀도 가 낮 은 영역 에 만 형성 하 는 것 이 다 .