본 발명 은 상기 와 같 은 종래 기술 의 문제점 을 해결 하 는 것 으로 , 평판 슬롯 안테나 의 전자파 방사 특성 의 균일성 에 영향 을 주 지 않 고서 , 파장 영역 이 넓 은 모니터 광 ( 특히 비 코 히 어 런 트 의 모니터 광 ) 을 이용 하 여 처리 용기 내 의 피 처리 기판 의 표면 에 대한 광학 적 인 모니터링 을 고정 밀도 로 행할 수 있 도록 한 광학 모니터 장치 및 플 라즈 마 처리 장치 를 제공 한다 .