도 2 g 를 참조 하 면 , 상기 절 연막 ( 218 ) 및 하드 마스크 ( 214 ) 를 식각 하 여 상기 드레 인 영역 ( 204 b ) 과 콘 택하 는 패드 ( 212 ) 를 노출 시키 는 하부 전극 용 홀 ( C 2 ) 을 형성 한다 . 상기 하부 전극 용 홀 ( C 2 ) 은 후속 으로 형성 하 는 상변화 막 과 의 접촉 면적 을 최소 화 하 기 위하 여 100 nm 이하 , 바람직 하 게 50 ∼ 100 nm 의 크기 로 형성 한다 .