예시 적 인 반도체 웨이퍼 처리 시스템 ( 10 ) 은 , 예 를 들 어 , 하나 이상 의 반경 방향 스테이션 들 ( radial station ) ( 12 ) 과 하나 이상 의 오프셋 스테이션 들 ( offset station ) ( 14 ) 을 포함 할 수 있 다 . 로봇 ( 100 ) 은 상기 스테이션 들 ( 12 , 14 ) 사이 에서 또는 환경 챔버 ( environment chamber ) ( 13 ) 에 연결 된 다른 모듈 들 / 스테이션 들 ( 미 도시 ) 사이 에서 하나 이상 의 기판 들 ( S ) 을 이동 시키 기 위해 제공 될 수 있 다 . 상기 환경 챔버 ( 13 ) 는 , 예 를 들 어 진공 환경 을 제공 할 수 있 으며 , 상기 챔버 ( 13 ) 의 바닥 벽 을 통해 상기 챔버 ( 13 ) 에 의해 적어도 부분 적 으로 한정 된 환경 내부 로 연장 된 로봇 ( 100 ) 을 가진다 . 상기 로봇 ( 100 ) 과 스테이션 들 ( 12 , 14 ) 은 적어도 하나 의 제어기 ( 15 ) 에 연결 되 며 , 상기 제어기 ( 15 ) 는 적어도 하나 의 프로세서 ( 17 ) 와 , 상기 시스템 ( 10 ) 의 작동 을 제어 하 기 위한 소프트웨어 ( 21 ) 를 포함 하 는 적어도 하나 의 메모리 ( 19 ) 를 포함 한다 . 상기 시스템 ( 10 ) 은 , 예 를 들 어 , 아래 의 웨이퍼 핸들링 작동 들 을 제공 할 수 있 다 .