다른 실시 형태 에 있 어서 , 광기전력 장치 용 의 리본 전도체 를 제조 하 는 방법 은 전도성 스트립 ( conductive strip ) 을 제공 하 는 단계 를 포함 한다 . 상기 전도성 스트립 은 복수 개 의 층 으로 피복 된다 . 상기 층 들 은 , 간섭계 변조기 마스크 ( interferometric modulator mask ) 를 규정 하 도록 , 상기 전도성 스트립 위 에 광학 공명 공동 부 와 해당 광학 공명 공동 부 위 에 광학 흡 수체 층 을 형성 한다 .