이 들 검사 기술 은 특정 애플리케이션 에서 잘 작동 하 지만 , 각각 의 접근 법 은 부정확 하 거나 비 효율 적 으로 얻 어 지 는 결과 를 초래 할 수 있 는 약점 을 갖 는다 . 다이 - 대 - 다이 접근 법 은 단일 - 다이 레티 클 에 는 작동 하 지 않 을 것 이 다 . 패턴 의 섹션 이 반복 되 거나 자체 참조 하 기 에 충분히 간단 한 경우 , 기준 패턴 ( reference pattern ) 을 찾 거나 합성 할 수 있 다 . 발견 되 거나 합성 된 기준 과 의 비교 를 사용 하 여 결함 을 검출 할 수 있 다 . 그러나 패턴 의 모든 섹션 에 대하 여 적합 한 기준 을 찾 거나 합성 할 수 없 다 . 예 를 들 어 , 일반 적 인 다이 의 넓 은 영역 에 는 반복 되 지 않 는 논리 패턴 이 포함 되 어 있 으며 , 이 는 셀 - 대 - 셀 검사 로 는 검사 할 수 없 다 . 또한 , 동일 셀 이 동일 하 게 설계 되 더라도 광 근접 보정 ( optical proximity correciton , OPC ) 구조 의 고의 적 인 변동 으로 인해 전형 적 으로 이용 가능 하 지 않 기 때문 에 , 셀 - 대 - 셀 검사 를 수행 하 는 것 이 종종 어렵 다 . 일반 적 으로 , 용어 OPC , SRAF , 가 는 라인 ( thin - line ) 및 인쇄 불 가능 한 구조 는 본 명세서 에서 호환 적 으로 사용 된다 .