도 2 a 내지 도 2 c 는 도 1 의 PLD 장비 를 이용 하 여 본 발명 의 인공 격자 형성 을 위한 제조 공정 을 단계 별 로 나타낸 단면도 이 다 . 도 2 a 에 도시 된 바 와 같이 , MgO 기판 ( 100 ) 을 아세톤 , 메탄올 , TCE 로 각각 5 분 동안 초음파 세척 을 한 후 에 질소 로 건조 시킨다 . 다음 에 상기 건조 된 기판 ( 100 ) 을 은 페이스트 ( silver paste ) 로 히터 ( 40 ) 에 부착 시켜 건조 시킨 후 , 펄스 레이저 증착 장비 ( PLD - 248 nm KrF excimer laser ) 을 이용 하 여 MgO ( 100 ) 단결정 기판 ( 100 ) 위 에 하부 전극 La ( Sr , Co ) O 3 ( LSCO ) 층 ( 110 ) 을 형성 한다 . 이후 , 도 2 b 및 도 2 c 에 도시 된 바 와 같이 입사 된 레이저 를 회전 하 는 타 겟 에 가하 여 박막 의 증착 이 이루어지 는데 , 두 개 의 타 겟 을 동시 에 장착 하 여 각각 에서 임의 의 두께 를 갖 는 PTO ( PbTiO 3 ) 층 ( 120 ) 과 PZO ( PbZrO 3 ) 층 ( 130 ) 을 증착 한다 . 이때 , 회전 하 는 타 겟 ( 60 ) 의 속도 는 11 rpm 이 다 . 또한 , 증착 시 의 증착 온도 는 500 ℃ 로 하 고 분당 10 ℃ 상승 시켰으며 , 산소 분압 은 100 mTorr 을 유지 한다 . PZO 층 과 PTO 층 의 증착 속도 는 각각 8 pulse / 1 단위격자 와 7 pulse / 1 단위격자 이 며 레이저 는 초당 1 펄스 로 타 겟 에 입사 된다 .