이상 에서 설명 한 바 와 같이 , 종래 에 포토레지스트 의 경사도 에 따라 문턱 전압 이 비대칭 으로 형성 되 는 문제점 을 해소 하 기 위하 여 본 발명 에 의한 엘 디 모스 채널 형성 방법 은 , 제 1 도 전형 을 형성 하 기 위한 마스크 를 포토레지스트 대신 에 옥사이드 로 형성 하 고 , 이 옥사이드 에 BCl 3 ( 삼 염소 화 붕소 ) 의 확산 공정 을 통하 여 형성 함 으로써 , 제 2 도전 형 형성 시 발생 하 는 포토레지스트 의 기울기 변화 로 문턱 전압 이 비대칭 되 는 것 을 방지 하 고 채널 의 대칭 으로 이어져서 정상 적 인 엘 디 모스 의 동작 이 가능 한 효과 를 가진다 .