상기 와 같 은 문제점 을 해결 하 기 위해 안출 된 본 발명 의 목적 은 포토 마스크 표면 에 반복 적 인 포토 리소그래피 공정 을 진행 함 에 따라 생성 되 는 성장 성 결함 인 헤이즈 를 수 시간 내 에 생 성 을 유도 하 며 , 생성 과정 을 실시간 으로 관측 하 여 헤이즈 의 성장 초기 단계 에서 의 검출 및 생 성 원인 에 대한 정량 적 분석 이 가능 한 헤이즈 검출 장치 및 그 검출 방법 을 제공 하 는데 있 다 .