실험 예 2 에서 는 , 먼저 도 8 의 ( A ) 에 나타내 는 바 와 같이 웨이퍼 ( W ) 의 이면 측 의 라운드 부 를 즉시 이탈 조건 으로 에칭 하 고 ( 제 1 에칭 공정 ) , 이어서 도 8 의 ( B ) 에 나타내 는 바 와 같이 플랫 부 를 즉시 이탈 조건 으로 에칭 한다 ( 제 2 에칭 공정 ) . 이 경우 , 이면 노즐 ( 76 ) 의 토출 부재 ( 76 a ) ( 도 5 를 참조 ) 를 움직여 착 액 점 ( PF ) 을 이동 시키 면서 라운드 부 및 플랫 부 의 에칭 을 행한다 . 또한 도 5 에 나타낸 이면 노즐 ( 76 ) 은 , 구조 상 , 착 액 점 ( PF ) 에 의존 하 여 각도 ( φ ) 및 각도 ( θ ) 가 정해 지 며 , 착 액 점 ( PF ) 과 각도 ( φ ) 및 각도 ( θ ) 를 독립 하 여 조절 할 수 없 다 . 이 때문 에 , 착 액 점 ( PF ) 의 이동 에 따라 웨이퍼 ( W ) 의 회전 속도 혹은 이면 노즐 ( 76 ) 로부터 의 에칭 액 의 토출 유량 을 조절 함 으로써 , 즉시 이탈 조건 의 유지 를 행하 게 된다 . 도 5 에 나타낸 이면 노즐 ( 76 ) 에 있 어서 , 이면 노즐 ( 76 ) 의 토출구 의 앙각 ( 仰角 ) 을 변경 하 는 기구 를 추가 하 면 , 전술 한 각도 ( φ ) 를 독립 하 여 조절 할 수 있 게 되 기 때문 에 , 즉시 이탈 조건 의 유지 를 용이 하 게 행할 수 있 다 .