도 3 a 를 참조 하 면 , 차폐층 ( 111 ) 상부 에 플로팅 게이트 ( FG ) 가 배치 된다 ( 단계 a ) . 플로팅 게이트 ( FG ) 상부 에 제 1 유전체 층 ( 112 ) 이 배치 되 고 ( 단계 b ) , 제 1 유전체 층 ( 112 ) 상 에 는 채널 층 ( 113 ) 이 배치 된다 ( 단계 c ) . 채널 층 ( 113 ) 의 일부 영역 상 에 소스 영역 ( 113 S ) 과 드레 인 영역 ( 113 D ) 을 형성 한다 ( 단계 d ) . 이어서 , 제 1 유전체 층 ( 112 ) 상부 에 배치 된 마스크 를 이용 하 여 소스 영역 ( 113 S ) , 채널 영역 ( 113 C ) 및 드레 인 영역 ( 113 D ) 을 격자 화 ( patterning ) 한다 ( 단계 e ) .