따라서 , 본 발명 의 EUVL 장치 의 상기 장점 은 다양 한 최신 기술 의 리소그래피 응용 에서 일반 적 으로 사용 되 는 바 와 같이 원형 / 대칭 단면 을 갖 는 수용 콘 을 갖 는 이미 징 시스템 으로 달성 할 수 있 다 . 다르 게 말 하 면 , 이미 징 시스템 의 복잡 한 재설 계 없이 타 겟 웨이퍼 에 이미 징 되 는 산란 된 광 의 양 이 감소 될 수 있 다 .