본 발명 의 다른 실시 예 에 따르 면 , 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 ( 200 ) 는 필드 샷 영역 ( 220 ) 내 의 스 크 라 이브 레인 에 캐 패 시 터 특성 테스트 패턴 ( 224 ) 을 배치 하 는 것 이 바람직 하 다 . 이때 , 캐 패 시터 특성 테스트 패턴 ( 224 ) 은 필드 크기 가 줄어든 필드 샷 영역 ( 220 ) 에 위치 하나 도 3 에 도시 된 하부 층 패턴 용 노광 마스크 ( 300 ) 의 캐 패 시터 특성 테스트 패턴 ( 324 ) 과 동일 한 위치 에 배치 해야 한다 .