먼저 , 소정 의 상부 유리 층 ( 10 ) 상 에 전도 성 의 금속 재질 예 를 들 어 , 알루미늄 , 크롬 , 니켈 및 은 등 을 스퍼터링 ( sputtering ) 등 의 PVD ( Physical Vapor Deposition ) 방법 을 이용 하 여 금속 층 으로 증착 하 고 , 증착 형성 된 금속 층 상 에 포토레지스트 ( photo - resist ) 패턴 ( 도시 하 지 않 음 ) 을 구비 하 며 , 이러 한 포토레지스트 패턴 에 대해 식각 및 에 싱 ( ashing ) 을 수행 하 여 상부 유리 층 ( 10 ) 상 에 원형 또는 타원 형 의 개구부 를 가지 는 금속 전극 패턴 ( 21 ) 과 금속 전극 패턴 ( 21 ) 에서 외측 으로 연장 되 는 도선 패턴 을 형성 할 수 있 다 .