상기 베이스 폴리머 가 저 분자량 이나 고 분자량 의 폴리머 분 율 을 나타내 는 분자량 분포 또는 분포도 ( Mw / Mn ) 를 갖 는 경우 , 패턴 상 에 이 물 이 보이 거나 , 패턴 의 형상 이 악화 하 거나 할 우려 가 있 다 . 패턴 룰 이 미세 화 함 에 따라 , Mw 및 Mw / Mn 의 영향 이 커지 기 쉽 다 . 따라서 , 베이스 폴리머 는 미세 한 패턴 치수 에 적합 하 게 이용 되 는 레지스 트 재료 를 얻 기 위해서 1 . 0 ∼ 2 . 0 , 특히 1 . 0 ∼ 1 . 5 의 좁 은 분포도 ( Mw / Mn ) 를 가지 는 것 이 바람직 하 다 .