이것 에 의하 면 , 본 실시 형태 에 따른 클리닝 실시 전 은 , 도 9 ( b ) 에 나타내 는 바 와 같이 인듐 이 검출 되 고 있 었 다 . 한편 , 본 실시 형태 에 따른 클리닝 실시 후 는 , 도 9 ( d ) 에 나타내 는 바 와 같이 인듐 은 검출 되 지 않 았 다 . 이상 의 실험 결과 로부터 , 본 실시 형태 에 따른 클리닝 공정 에 의해 , 제품 처리 유래 의 챔버 ( 11 ) 내벽 에 부착 된 인듐 잔사 를 제거 할 수 있 음 이 실증 되 었 다 . 한편 , 검출 결과 에 나타나 고 있 는 Ar 은 , 아르곤 플 라즈 마로 잔사 구성 성분 을 기판 에 수집 했 을 때 에 기판 에 박힌 것 이 다 .