흡입 챔버 ( 11 ) 는 전체 적 으로 사각 박스 형상 , 실린더 형상 또는 이 와 유사 한 형상 이 될 수 있 지만 이 에 제한 되 지 않 는다 . 흡입 챔버 ( 11 ) 의 내부 에 유도 경로 가 형성 될 수 있 고 , 유도 경로 를 통하 여 예 를 들 어 레이저 가공 과정 에서 발생 되 는 칩 또는 연기 가 유도 되 어 배출 통로 ( 19 ) 를 통하 여 배출 될 수 있 다 . 흡입 챔버 ( 11 ) 를 관통 하 는 형상 으로 유도 홀 ( 13 ) 이 형성 될 수 있 고 , 예 를 들 어 흡입 챔버 ( 11 ) 의 위쪽 면 으로부터 아래쪽 면 에 이르 도록 유도 홀 ( 13 ) 이 형성 될 수 있 다 . 유도 홀 ( 13 ) 은 전체 적 으로 뿔 형상 , 원뿔 형상 또는 이 와 유사 한 형상 이 될 수 있 다 . 유도 홀 ( 13 ) 은 위쪽 으로부터 아래쪽 으로 갈수록 단면적 이 점차 로 작아지 는 형상 이 될 수 있 다 . 흡입 챔버 ( 11 ) 의 위쪽 면 에 원형 홈 형상 의 입구 ( 12 ) 가 형성 되 고 , 입구 ( 12 ) 의 중심 부분 을 기준 으로 유도 홀 ( 13 ) 이 형성 될 수 있 다 . 유도 홀 ( 13 ) 은 입구 ( 12 ) 로부터 유도 챔버 ( 11 ) 의 내부 를 경유 하 여 유로 입구 ( 16 ) 가 형성 된 부분 으로 연결 될 수 있 다 . 유도 홀 ( 13 ) 은 예 를 들 어 레이저 를 가공 면 으로 유도 하 는 기능 을 가질 수 있 고 , 이 와 같이 뿔 형상 으로 만들 어 지 는 것 에 의하 여 가공 고정 에서 발생 되 는 칩 , 흄 또는 연기 의 비산 이 방지 되 도록 한다 . 유도 홀 ( 13 ) 의 바깥쪽 둘레 면 을 따라 유도 경로 가 형성 될 수 있 고 , 유도 경로 는 유도 홀 ( 16 ) 의 아래쪽 끝 부분 으로부터 유도 홀 ( 13 ) 의 바깥쪽 둘레 면 또는 흡입 챔버 ( 11 ) 의 내부 를 따라 위쪽 방향 으로 나선 형상 으로 형성 될 수 있 다 . 그리고 유도 경로 의 위쪽 부분 은 흡입 챔버 ( 11 ) 의 내부 와 외부 를 연결 하 여 흡입 된 미립자 , 이 물질 또는 연기 를 외부 로 배출 시키 는 배출 통로 ( 19 ) 와 연결 될 수 있 다 . 이 와 같이 유도 경로 가 유도 홀 ( 13 ) 의 주위 를 따라 나선 형상 으로 만들 어 지 는 것 에 의하 여 유로 입구 ( 16 ) 에서 강한 흡입력 이 발생 될 수 있 고 , 이 에 의하 여 집진 효율 이 향상 되 면서 제거 장치 의 전체 구조 가 간단 해 지 도록 한다 . 흡입 챔버 ( 11 ) 의 아래쪽 면 에 원형 의 흡입 유도 면 ( 14 ) 이 형성 될 수 있 고 , 흡입 유도 면 ( 14 ) 의 내부 에 유로 형성 면 ( 15 ) 이 형성 될 수 있 다 . 그리고 유로 형성 면 ( 15 ) 은 유도 홀 의 아래쪽 끝 부분 에 해당 하 는 홀 끝 ( 131 ) 을 둘러싸 는 형상 이 될 수 있 다 . 유로 입구 ( 16 ) 은 홀 끝 ( 131 ) 과 유로 형성 면 ( 15 ) 에 의하 여 형성 되 는 분리 부분 에 형성 될 수 있 다 . 유로 입구 ( 16 ) 를 통하 여 유입 된 미립자 , 가공 칩 , 흄 또는 연기 는 유도 경로 를 따라 유도 되 어 배출 통로 ( 19 ) 를 통하 여 외부 로 배출 될 수 있 다 .