도 4 A 및 4 B 를 참조 하 면 , 광 정의 가능 재료 피처 ( 124 ) 에 의해 경계 가 정해 지 는 공간 또는 트렌치 ( 122 ) 를 포함 하 는 패턴 은 광 정의 가능 층 ( 120 ) 내 에 형성 된다 . 트렌치 ( 122 ) 는 예 를 들 어 층 ( 120 ) 이 레티 클 을 통해 방사선 에 노출 된 다음 에 현상 되 는 248 nm 또는 193 nm 광 으로 포토 리소그래피 에 의해 형성 될 수 있 다 . 현상 된 후 , 도시 된 실시 예 에서 나머지 광 정의 가능 재료 인 포토레지스트 는 도시 된 라인 ( 124 ) ( 횡단면 으로 만 도시 됨 ) 과 같 은 마스크 피처 를 형성 한다 .