이 와 같이 정밀 한 이온 주입 공정 이 이루어지 는 이온 주입 설비 는 다양 한 종류 가 있 으나 , 일반 적 으로 도전 성 불순물 이온 을 생성 하 는 이온 소스 와 , 소정 의 질량 을 갖 는 도전 성 불순물 이온 을 분리 추출 하 는 질량 분석기 와 , 상기 질량 분석기 에서 분리 추출 된 도전 성 불순물 이온 을 집속 시키 는 자기 집속 장치 와 , 상기 자기 집속 장치 에서 집속 된 도전 성 불순물 이온 으로 이루어진 이온 빔 을 소정 의 선폭 으로 스캐닝 시키 는 스캐닝 시스템 , 상기 스캐닝 시스템 에서 스캐닝 된 이온 빔 을 가속 시키 는 가속 장치 와 , 상기 가속 장치 에서 가속 된 상기 이온 빔 에 대응 하 여 웨이퍼 를 고정 시키 고 일 방향 으로 이동 시키 는 타깃 ( target ) 과 , 상기 웨이퍼 또는 타깃 과 인접 하 도록 형성 되 어 상기 이온 빔 의 도즈 을 카운터 링 하 기 위한 페러 데이 시스템 을 포함 하 여 이루어진다 .