또한 , 본 발명 의 포토레지스트 조성물 은 3 - 메 톡 시 부틸 아세테이트 ( Methoxybutyl acetate ) 및 메틸 메 톡 시프 로 피오 네이트 ( methyl - 3 - methoxypropionate ) 가 9 : 1 ~ 6 : 4 의 중량 비 로 혼합 되 는 것 이 용매 의 총량 에 대하 여 70 중량 % 이상 으로 포함 되 는 경우 에 잔 막 률 및 막 균일성 등 에서 더 우수 한 효과 를 나타낸다 .