하지만 , 소자 제작 에 있 어 현재 까지 이용 한 공정 방법 은 공정 변수 에 따라 소자 성능 이 크 게 변화 될 가능 성 이 매우 높 으며 , 뒤 에서 제시 할 여러 문제 로 인하 여 탐침 의 성능 이 기대 치 이하 로 저하 되 는 문제 를 가지 고 있 다 . 따라서 상용 화 를 고려 한 앞 으로 의 탐침 개발 에 있 어서 는 보다 높 은 감도 와 분해능 을 가지 면서 공정 변수 의 영향 이 적 은 공정 방법 이 요구 된다 .