에칭 공정 에서 는 , 재 치대 ( 12 ) 에 제 2 고주파 전원 ( 18 ) 으로부터 이온 인입 용 ( 바이어스 전압 용 ) 의 고주파 전력 ( 이하 , 「 바이어스 파워 」 라고 도 한다 . ) 을 인가 하 여 , 플 라즈 마 중 의 이온 을 기판 으로 인입 하 여 에칭 을 촉진 시키 는 것 이 행해진다 . 클리닝 공정 에 있 어서 도 , 바이어스 파워 의 인가 에 의해 클리닝 을 촉진 할 수 있 다 .