이 구성 에 따르 면 , 전해 가공 유닛 장치 는 전해 가 공부 , 세 정부 및 건 조부 를 동일 한 가공 처리 실에 형성 하 여 하나 의 모듈 로 통괄 하 였으므로 , 웨이퍼 의 전해 가공 , 세정 및 건조 를 1 개소 에서 연속 적 으로 행할 수 있 다 . 또한 , 하나 의 모듈 에 문제 가 생겨도 , 다른 모듈 에 어떠 한 영향 도 주 지 않 기 때문 에 , 다른 모듈 에서 의 웨이퍼 처리 가공 을 정지 할 필요 도 없 다 .