본 발명 은 반도체 재료 층 을 처리 하 기 위해 , 특히 결정질 반도체 층 을 생성 하 기 위해 광 방사선 의 강도 를 균일화 하 기 위한 광학 시스템 ( 30 ) 에 관한 것 이 다 . 상기 광학 시스템 은 제 1 장치 ( 32 a ) 를 가진 광학 빔 변환 장치 ( 32 ) 를 포함 하 고 , 상기 제 1 장치 ( 32 a ) 는 제 1 빔 변환 요소 들 ( 40 ) 을 포함 하 며 , x - 방향 의 단축 과 y - 방향 의 장축 을 가진 빔 프로파일 ( 50 ) 을 갖 는 입사 광 빔 ( 38 ) 을 상기 장축 을 따라 부분 광 빔 들 ( 42 ) 로 기하학 적 으로 분할 하 도록 설계 되 고 , 상기 x - 방향 및 상기 y - 방향 은 각각 광 빔 의 전파 방향 에 대해 수직 이 고 , 상기 부분 광 빔 ( 42 ) 의 전파 방향 은 상기 입사 광 빔 ( 38 ) 의 전파 방향 과 는 다르 다 . 상기 광학 빔 변환 장치 ( 32 ) 는 또한 제 2 빔 변환 요소 들 ( 44 ) 를 가진 제 2 장치 ( 32 b ) 를 포함 하 고 , 상기 제 2 장치 ( 32 b ) 는 상기 부분 광 빔 들 ( 42 ) 의 빔 경로 에 배치 되 어 편향 된 부분 광 빔 ( 42 ) 을 재차 편향 시키 도록 설계 된다 . 재차 편향 된 부분 광 빔 ( 46 ) 의 전파 방향 과 관련 해서 , x - 방향 에서 재차 편향 된 부분 광 빔 ( 46 ) 의 빔 프로파일 ( 48 ) 은 상기 입사 광 빔 ( 38 ) 의 전파 방향 과 관련 해서 , y - 방향 에서 상기 입사 광 빔 ( 38 ) 의 빔 프로파일 ( 50 ) 의 섹션 에 상응 한다 . 상기 재차 편향 된 부분 광 빔 ( 46 ) 의 빔 경로 에 배치 되 며 상기 광학 빔 변환 장치 ( 32 ) 후방 에 배치 된 빔 형성 장치 ( 34 ) 가 제공 되 고 , 상기 빔 형성 장치 ( 34 ) 는 부분 광 빔 ( 46 ) 을 y - 방향 과 관련 해서 조명 평면 내 에 놓인 조명 라인 으로서 공간 적 으로 중첩 시키 도록 설계 된다 . 또한 , 광학 시스템 은 재차 편향 된 부분 광 빔 ( 46 ) 의 빔 경로 에 배치 되 며 상기 광학 빔 변환 장치 ( 32 ) 후방 에 배치 된 광학 이미 징 장치 ( 36 ) 를 포함 하 고 , 상기 광학 이미지 장치 ( 36 ) 는 상기 제 1 빔 변환 요소 들 ( 44 ) 이 상기 조명 평면 ( 65 ) 내 에 놓인 이미지 평면 ( 61 ) 에서 광학 적 으로 이미 징 되 도록 설계 되 고 배치 된다 .