본 발명 의 일실 시예 에 따른 폐가스 정화 처리 방법 에서 는 , 상기 반도체 제조 장치 등 에서 발생 한 유해 가스 를 포함 하 는 배기 가스 를 상기 버너 부 ( 100 ) 를 이용 하 여 연소 시키 고 , 이때 , 산소 함량 이 높 게 조정 된 정화 건조 공기 를 상기 버너 부 ( 100 ) 에 공급 하 여 완전 연소 를 촉진 함 으로써 연소 후 배출 되 는 가스 에 잔존 하 는 유해 가스 를 줄인다 .