도 18 , 도 19 a 및 도 19 b , 도 20 a 및 도 20 b , 및 도 21 a 및 도 21 b 를 참조 하 면 , 후면 차단 유전체 층 ( 도시 되 지 않 음 ) 이 후면 리세 스 들 ( 143 , 243 ) 및 후면 트렌치 들 ( 79 ) 내 에 그리고 제 1 콘택트 레벨 유전체 층 ( 280 ) 위 에 선택 적 으로 침착 될 수 있 다 . 도 19 a 및 도 19 b , 도 20 a 및 도 20 b , 및 도 21 a 및 도 21 b 는 각각 도 18 의 프로세싱 단계 들 에서 의 예시 적 구조물 의 제 1 구성 , 제 2 구성 , 및 제 3 구성 을 도시 한다 . 도 19 a , 도 20 a , 및 도 21 a 각각 에서 의 힌지 된 수직 단면 평면 들 X - X ' 은 도 18 의 수직 단면도 의 평면 에 대응 한다 . 도 19 a , 도 20 a 및 도 21 a 각각 에서 의 수직 단면 평면 들 B - B ' 은 각각 도 19 b , 도 20 b 및 도 21 b 의 수직 단면도 들 의 평면 들 에 대응 한다 .