일부 구 현예 에서 , 듀얼 샤워 헤드 ( 10 ) 는 복수 의 가스 유입 구 ( 18 ) ( 애퍼처 ) 와 복수 의 가스 유출 구 ( 20 ) ( 애 퍼 쳐 ) 또는 배기 포트 를 포함 할 수 있 다 . 유입 구 ( 18 ) 와 유출 구 애퍼처 ( 20 ) 는 서로 직접 연통 하 지 않 을 수 있 지만 , 그 아래 의 반응 챔버 ( 3 ) 와 는 직접 유체 연통 할 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 제 2 가스 유출 구 라인 ( 26 ) 또는 배기 포트 는 , 반응 챔버 ( 3 ) 와 직접 유체 연통 하 여 반응 챔버 ( 3 ) 로부터 가스 를 제거 할 수 있 다 . 도 1 에 나타난 바 와 같이 , 반응물 가스 ( 예 , 에칭 가스 ) 는 가스 유입 구 ( 들 ) ( 16 ) 에서 상부 플레 넘 ( 24 ) 안 으로 듀얼 샤워 헤드 장치 ( 10 ) 내 에 진입 할 수 있 고 , 웨이퍼 ( 6 ) 를 유지 하 는 서 셉 터 플레이트 ( 5 ) 를 향해 흐를 수 있 다 . 듀얼 샤워 헤드 ( 10 ) 의 가스 유출 구 애퍼처 ( 20 ) 는 챔버 ( 3 ) 로부터 내부 또는 하부 샤워 헤드 플레 넘 ( 22 ) 에 연결 된 펌프 ( 9 ) 를 통해 증기 를 제거 한다 . 제 2 가스 유출 구 라인 ( 26 ) 은 또한 펌프 ( 9 ) 를 통해 증기 를 제거 하 는 데 사용 될 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 동일 한 펌프 ( 9 ) 가 가스 유출 구 라인 ( 20 , 26 ) 양쪽 모두 와 함께 사용 될 수 있 다 . 다른 구 현예 에서 , 가스 유출 구 ( 20 , 26 ) 모두 는 가스 유출 구 라인 ( 20 , 26 ) 의 각각 에 연결 된 별도 의 펌프 ( 9 ) 를 갖 는다 . 일부 구 현예 에서 , 밸브 ( 38 ) 는 각각 의 가스 유출 구 라인 ( 20 , 26 ) 에 연결 되 고 펌프 ( 9 ) 와 일렬 로 작동 하 여 반응기 챔버 ( 3 ) 로부터 가스 흐름 을 제어 한다 .