그러나 상기 웨이퍼 ( W ) 를 정렬 하 는 데 기준점 이 되 는 노치 ( n ) 부분 에 는 에 지링 ( 20 ) 의 노출면 ( 25 ) 이 드러나 게 되 고 , 상기 노출면 ( 25 ) 에 는 폴리머 가 과도 하 게 생성 된다 . 이 경우 폴리머 가 벗겨져 떨어지 는 경우 에 는 식각 챔버 내 에서 파티클 ( Particle ) 의 소스 가 되 는 문제점 이 있 다 .