그 다음 , 저장 전극 마스크 ( 미 도시 ) 를 이용 한 사진 식각 공정 으로 희생 산화 막 ( 29 ) 및 식각 장벽층 ( 27 ) 을 순차 적 으로 식각 하 여 저장 전극 제 2 콘 택 플러그 ( 25 ) 를 노출 시키 는 저장 전극 영역 ( 31 ) 을 정의 하 고 , 저장 전극 영역 ( 31 ) 표면 에 도전 층 을 형성 하 여 콘 케 이브 형 저장 전극 ( 33 ) 을 형성 한다 .