본 발명 의 일 형태 에 관한 표면 처리 조성물 은 , 세정 처리 에 있 어서 적합 하 게 사용 된다 . 즉 , 본 발명 의 일 형태 에 관한 표면 처리 조성물 은 , 세정 용 조성물 로서 바람직 하 게 사용 할 수 있 다 . 세정 처리 는 , 연마 대상물 에 대하 여 최종 연마 ( 마무리 연마 ) 를 행한 후 , 상기 린스 연마 처리 를 행한 후 , 또는 본 발명 의 표면 처리 조성물 이외 의 린스 연마 용 조성물 을 사용 한 다른 린스 연마 처리 를 행한 후 , 연마 완료 연마 대상물 ( 세정 대상물 ) 의 표면 상 의 이물 의 제거 를 목적 으로 하 여 행해 지 는 것 이 바람직 하 다 . 또한 , 세정 처리 와 , 상기 린스 연마 처리 는 , 이 들 처리 를 행하 는 장소 에 따라 분류 되 며 , 세정 처리 는 , 연마 정반 ( 플 래 턴 ) 상 이 아닌 장소 에서 행해 지 는 표면 처리 이 며 , 연마 완료 연마 대상물 을 연마 정반 ( 플 래 턴 ) 상 에서 분리 한 후 에 행해 지 는 표면 처리 인 것 이 바람직 하 다 . 세정 처리 에 있 어서 도 , 본 발명 의 일 형태 에 관한 표면 처리 조성물 을 연마 완료 연마 대상물 에 직접 접촉 시켜 , 당해 대상물 의 표면 상 의 이물 을 제거 할 수 있 다 .