도 2 를 다시 참조 하 면 , 프로세스 는 돌출 하 는 피처 들 의 수평 표면 들 및 측벽 들 모두 위 에 주석 옥사이드 층 을 증착 함 으로써 203 으로 이어진다 . 도 1 b 에 도시 된 구조 체 를 참조 하 면 , 주석 옥사이드 층 ( 109 ) 은 ESL ( 103 ) 위 , 그리고 맨드릴 들 의 측벽 들 을 포함 하 여 맨드릴 들 ( 101 ) 위 에 증착 된다 . 주석 옥사이드 층 은 임의 의 적합 한 방법 , 예컨대 ( PECVD 를 포함 하 는 ) CVD , ( PEALD 를 포함 하 는 ) ALD , 스퍼터링 , 등 에 의해 증착 된다 . 일부 실시 예 들 에서 , 도 1 b 에 도시 된 바 와 같이 , 층 ( 103 ) 및 맨드릴 들 ( 101 ) 의 표면 을 따르 도록 , 주석 옥사이드 막 을 컨 포 멀 하 게 증착 하 는 것 이 바람직 하 다 . 일부 실시 예 들 에서 , 주석 옥사이드 층 은 약 5 내지 30 ㎚, 예컨대 약 10 내지 20 ㎚ 의 두께 로 컨 포 멀 하 게 증착 된다 . 컨 포 멀 한 주석 옥사이드 막 의 적합 한 증착 방법 들 중 하나 는 ALD 이 다 . 열적 또는 플 라즈 마 강화 된 ALD 가 사용 될 수 있 다 .