본 발명 의 실시 예 들 은 일반 적 으로 기판 상 에 물질 들 의 화학 적 기상 증착 ( CVD ) 을 위한 방법 들 및 장치 에 관한 것 이 며 , 그리고 특히 금속 유기 화학 적 기상 증착 ( MOCVD ) 및 / 또는 수소화물 증기 기상 에피택시 ( HVPE ) 를 위해 사용 된 것 과 같 은 , 박막 증착 챔버 들 에 사용 하 기 위해 고 복사율 ( emissivity ) 에 의한 표면 코팅 의 형성 및 샤워 헤드 들 의 구조물 및 코팅 을 포함 하 는 프로세스 챔버 부품 들 을 위한 표면 처리 들 에 관한 것 이 다 .