상기 기술 적 과제 를 달성 하 기 위하 여 , 본 발명 에 따른 포토 마스크 의 제조 방법 에 따르 면 , 투명 기판 상 에 대상 막 패턴 을 형성 하 는 단계 ; 상기 대상 막 패턴 이 형성 된 투명 기판 상 에 펠리 클 을 부착 하 는 단계 ; 상기 대상 막 패턴 사이 의 간격 이 상대 적 으로 넓 은 영역 을 검출 하 는 단계 ; 및 상기 대상 막 패턴 사이 의 간격 이 상대 적 으로 넓 은 영역 의 펠리 클 막 상 에 투과율 조절 막 패턴 을 형성 하 는 단계 를 포함 한다 .