도 18 은 , 프로세스 챔버 의 플 라즈 마 에 전력 공급 하 기 위해 전자기 방사선 을 제공 하 는 방법 의 흐름 도 ( 610 ) 이 다 . 방법 ( 610 ) 은 본원 에 개시 된 시스템 들 ( 100 , 400 , 470 , 480 , 490 , 500 , 550 및 560 ) 중 하나 이상 을 사용 하 여 구현 될 수 있 다 . 방법 ( 600 ) 의 제 1 단계 ( 612 ) 는 하나 이상 의 프로세스 가스 를 프로세스 챔버 ( 예 를 들 어 , 프로세스 챔버 ( 130 또는 430 ) ) 내 에 도입 한다 . 방법 ( 610 ) 의 제 2 단계 ( 614 ) 는 , ( 예 를 들 어 , 전자 장치 세트 들 ( 225 ( 2 ) , 225 ( 2 ) ) 로부터 의 ) 전자기 방사선 을 적어도 2 개 의 위치 들 ( P 및 Q ) ( 도 4 ) 로부터 , 프로세스 챔버 에 인접 하 여 배치 된 도파 로 공동 ( 예 를 들 어 , 공동 ( 167 또는 467 ) ) 내 로 전파 한다 . 도파 로 공동 은 , 도파 로 공동 을 배기 하 지 않 고 프로세스 챔버 가 배기 될 수 있 고 도파 로 공동 내 의 전자기 방사선 이 프로세스 챔버 내 로 여전히 전파 될 수 있 도록 ( 예 를 들 어 , 유전체 플레이트 , 예컨대 , 유전체 플레이트 들 ( 169 , 469 , 520 ) 에 의해 ) 프로세스 챔버 로부터 분리 된다 . 위치 들 ( P 및 Q ) 은 도파 로 공동 ( 도 4 ) 의 둘레 주위 에 각각 의 각도 들 ( θ p 및 θ q ) 로 배치 되 고 , 전자기 방사선 은 도파 로 공동 내 에 회전 주파수 ( Ω ) 와 마이크로파 주파수 ( ω ) 로 제공 된다 ( 식 들 ( 1 - 32 ) ) . 제 3 단계 ( 616 ) 는 프로세스 가스 들 로부터 플 라즈 마 를 점 화 한다 . 제 4 단계 ( 618 ) 는 도파 로 로부터 프로세스 챔버 내 로 전파 된 전자기 방사선 에 의해 공급 된 전력 으로 플 라즈 마 를 유지 한다 .