인 젝 터 ( 110 ) 는 , 후술 하 는 회전 기구 에 의해 , 좌회전 및 우회전 으로 회전 가능 하 게 되 어 있 다 . 구체 적 으로 는 , 인 젝 터 ( 110 ) 는 도 2 의 ( a ) 에 도시 된 바 와 같이 , 가스 구멍 ( 111 ) 이 처리 용기 ( 10 ) 의 중심 을 향하 고 있 는 위치 로부터 , 도 2 의 ( b ) 에 도시 된 바 와 같이 , 좌회전 으로 각도 ( θ 1 ) 의 위치 까지 회전 가능 하 면 된다 . 또한 , 인 젝 터 ( 110 ) 는 , 도 2 의 ( c ) 에 도시 된 바 와 같이 , 우회전 으로 각도 ( θ 2 ) 의 위치 까지 회전 가능 하 여도 된다 . 그리고 , 인 젝 터 ( 110 ) 의 가스 구멍 ( 111 ) 으로부터 수평 방향 을 향해서 가스 를 토출 한 상태 에서 인 젝 터 ( 110 ) 를 회전 시킴 으로써 , 웨이퍼 ( W ) 에 실시 되 는 처리 의 면내 분포 를 제어 할 수 있 다 . 각도 ( θ 1 ) 와 각도 ( θ 2 ) 의 합 은 , 예 를 들 어 90 ° 이 다 .