하나 이상 의 애노드 및 하나 이상 의 캐 쏘 드 를 가진 단일 전해 셀 에서 수성 전해질 욕조 로부터 금속 성 물질 을 , 전착 변수 를 5 내지 10 , 000 mA / ㎠ 범위 의 평균 전류 밀도 , 0 . 1 내지 500 ms 범위 또는 DC 전착 공정 에 의해 제공 되 는 전방 펄스 온 타임 , 0 내지 10 , 000 ms 범위 의 펄스 오프 타임 , 0 내지 500 ms 범위 의 리버스 펄스 온 타임 , 5 내지 10 , 000 mA / ㎠ 범위 의 피크 전방 전류 밀도 , 5 내지 20 , 000 mA / ㎠ 범위 의 피크 리버스 전류 밀도 ( 단 , 리버스 펄스 온 타임 이 0 인 경우 , 피크 리버스 전류 밀도 는 적용 가능 하 지 않 음 ) , 0 내지 1000 Hz 범위 의 진동수 , 5 내지 100 % 범위 의 듀티 사이클 , 0 내지 1 , 000 rpm 범위 의 작업 전극 회전 속도 , 0 내지 100 ℃ 범위 의 욕조 온도 , 서로 다른 화학 적 조성 의 둘 이상 의 가용성 애노드 를 사용 하 는 경우 5 % 내지 95 % 범위 의 각각 의 애노드 에서 의 평균 전류 분 율 , 1 내지 6 , 000 ml / ( 분 · 애노드 또는 캐 쏘 드 면적 ㎠) 범위 의 욕조 교반 속도 , 접선 방향 내지 입사 ( 즉 , 수직 ) 방향 범위 의 캐 쏘 드 에서 의 욕조 흐름 방향 , 기하학 적 애노드 표면 적 ( 들 ) 의 0 내지 95 % 범위 를 물리 적 으로 덮 는 애노드 차폐율 , 및 0 내지 70 부피 % 의 욕조 중 의 전기 적 불활성 물질 의 농도 로 하 여 전착 시키 는 단계 ; 및