본 발명 에 의하 면 방사성 불소 표지 반응 의 표지 전구체 화합물 로서 상기 일반식 ( 2 ) 로 나타내 어 지 는 화합물 , 즉 탈리 기인 벤젠 술포닐 옥 시기 의 벤젠환 에 소수성 의 아미드 치환기 를 도입 한 화합물 을 사용 하 는 것 으로 했으므로 방사성 불소 화 율 을 종래 법 과 동 정도 로 유지 하 면서 방사성 불소화 반응 후 에 방사성 불소 표지 화합물 을 간편 한 정제 방법 으로 미 반응 의 전구체 화합물 과 분리 정제 할 수 있 다 .