상기 제 1 예비 분리 구조물 ( 162 ) 이 제거 된 후 , 상기 제 2 수평 절연 층 ( 26 ) , 상기 제 1 예비 수평 연결 패턴 ( 24 ) , 상기 제 1 수평 절연 층 ( 24 ) 이 제거 되 어 , 수평 영역 ( HR ) 을 형성 할 수 있 다 . 상기 수평 영역 ( HR ) 이 형성 되 는 공정 단계 에서 , 상기 수직 구조물 들 ( 80 a 1 , 80 a 2 ) 의 상기 블로킹 절 연막 ( 85 ) , 상기 전하 저 장막 ( 84 ) , 상기 터널 절 연막 ( 83 ) 의 일부 가 제거 되 어 , 상기 제 2 수평 연결 패턴 ( 34 ) 과 상기 수직 채널 패턴 ( 82 ) 사이 로 연장 되 는 부분 과 , 상기 기판 ( 10 ) 과 상기 수직 채널 패턴 ( 82 ) 사이 로 연장 되 는 부분 을 포함 하 는 수직 영역 ( VR ) 을 형성 할 수 있 다 .