이 와 같이 획득 된 평가 샘플 들 은 5 % HF 수용액 으로 10 분 동안 세정 되 어 그 표면 으로부터 자연 산화 막 을 제거 한 후 , 액티브 층 의 표면 에서 8 % 테트라메틸 암모늄 히 드 록 사이드 ( TMAH ) 수용액 으로 식각 처리 가 수행 된다 . 실시 예 1 의 샘플 에 있 어서 , 식각 은 액티브 층 의 표면 으로부터 50 ㎚ 깊이 마다 수행 되 어 광학 현미경 ( 20 내지 1000 배율 ) 으로 섬 형상 의 산화물 의 개수 및 크기 를 측정 한다 . 실시 예 2 에 있 어서 , 식각 은 액티브 층 의 표면 으로부터 이전 에 식각 제거 된 깊이 에 대응 하 는 800 ㎚ 의 위치 로부터 100 ㎚ 의 깊이 마다 수행 되 어 광학 현미경 ( 20 내지 1000 배율 ) 으로 섬 형상 의 산화물 의 개수 및 크기 를 측정 한다 . 실시 예 1 및 실시 예 2 의 샘플 에 대한 식각 깊이 와 섬 형상 의 산화물 의 개수 및 크기 의 측정 결과 는 [ 표 1 ] 및 [ 표 2 ] 에 각각 나타내 며 , 이러 한 결과 의 그래프 는 도 5 및 도 6 에 나타낸다 .