할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 를 공업 적 으로 사용 하 는 경우 에 는 , 효소 촉매 로서 추가 적 인 고도화 가 요망 된다 . 예컨대 , 상술 한 바 와 같이 , 형질전환 체 내 에서 의 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 유전자 의 고 복제 화 ( multicopying ) 에 의해 , 형질전환 체당 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 활성 을 어느 정도 까지 높일 수 있 지만 , 경제 성 ? 실용 성 의 견지 에서 추가 적 인 활성 향상 이 요망 된다 . 따라서 , 형질전환 체당 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 활성 의 향상 을 가져오 는 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 가 요망 된다 . 또한 , 광학 활성 인 4 - 할로 - 3 - 하이드 록 시 뷰티 로 나이트릴 의 제조 를 목적 으로 하 는 경우 , 공지 된 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 에 의해 제조 되 는 4 - 할로 - 3 - 하이드 록 시 뷰티 로 나이트릴 의 광학 순도 는 반드시 충분히 높 은 것 은 아니 다 . 따라서 , 보다 광학 순도 가 높 은 4 - 할로 - 3 - 하이드 록 시 뷰티 로 나이트릴 을 생성 하 도록 , 입체 선택 성 이 향상 된 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 가 요망 된다 . 또한 , 1 , 3 - 다 이 할로 - 2 - 프로판올 을 출발 원료 로 하 여 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 에 의해 4 - 할로 - 3 - 하이드 록 시 뷰티 로 나이트릴 을 제조 하 는 경우 , 생성물 ( 염화물 이온 및 4 - 할로 - 3 - 하이드 록 시 뷰티 로 나이트릴 ) 의 저해 에 의한 반응 속도 의 저하 가 생길 수 있 다 . 따라서 , 생성물 저해 를 받 기 어려운 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 가 요망 된다 . 또한 , 4 - 할로 - 3 - 하이드 록 시 뷰티 로 나이트릴 을 저렴 하 게 제조 하 기 위해서 는 , 보통 , 반응계 내 의 기질 및 / 또는 생성물 ( 4 - 할로 - 3 - 하이드 록 시 뷰티 로 나이트릴 ) 농도 를 높 게 하 여 장치 당 생산 성 을 향상 시키 는 것 이 바람직 하 지만 , 공지 된 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 에 의한 생성물 축적 농도 는 반드시 충분히 높 은 것 은 아니 다 . 따라서 , 고농도 의 생성물 을 축적 할 수 있 는 할로 하 이 드린 에폭시 데이즈 가 요망 된다 .