제 1 위 치설 정기 ( PM ) 및 / 또는 다른 위치 센서 ( IF 1 ) 는 리소그래피 장치 내 의 광학 측정 시스템 , 및 기판 ( W ) 및 / 또는 패 터닝 디바이스 ( M ) 상 의 정렬 마크 를 이용 한다 . 도 2 는 광 소스 ( 20 ) 및 위상 동기 검출기 ( phase coherent detector : 22 ) 을 포함 한 광학 측정 시스템 을 나타낸다 . 작 동시 , 광 소스 ( 20 ) 는 제품 ( 26 ) [ 기판 ( W ) 또는 패 터닝 디바이스 ( M ) ] 상 의 정렬 마크 ( 24 ) 에 광 ( 또는 더 일반 적 으로 는 전자기 방사선 ) 을 공급 한다 . 정렬 마크 ( 24 ) 의 정반사 ( specular reflection ) 효율 성 은 정렬 마크 ( 24 ) 의 표면 상 의 위치 의 함수 로서 변한다 . 결과 로서 , 정렬 마크 ( 24 ) 로부터 광이 회절 된다 . 회절 된 광 은 위상 동기 검출기 ( 22 ) 에 의해 수집 된다 . 위상 동기 검출기 ( 22 ) 는 2 개 의 각각 의 회절 차수 로부터 의 광 을 선택 하 고 , 선택 된 회절 차수 들 을 이용 하 여 정렬 마크 의 이미지 를 형성 한다 . 따라서 , 이미지 의 세기 변동 은 선택 된 회절 차수 들 로부터 의 광 간 의 위상 관계 에 의존 한다 . 이러 한 위상 동기 위치 결정 들 에 대한 기술 들 은 , 예 를 들 어 Ramon Navarro , Stefan Keij , Arne den Boef , Sicco Schets , Frank van Bilsen , Geert Simons , Ron Schuurhuis , " Jaap Burghoom 에 의한 "" Extended ATHENATM alignment performance and application for the 100 nm technology node ""( the Proceedings of SPIE Vol . 4344 ( 2001 ) 에 실 림 ) 로부터 알려져 있 다 . 본 발명 은 이러 한 기술 들 의 상세 한 정보 없이 도 이해 될 수 있 기 때문 에 ", 그것 들 은 본 명세서 에서 상세히 설명 되 지 않 을 것 이 다 .