도 21 을 참조 하 여 , 본 실시 예의 기판 처리 장치 ( 1 ) 의 동작 에 대해 설명 한다 . 본 실시 예의 기판 처리 장치 ( 1 ) 는 , 예 를 들 면 3 층 의 막 을 형성 한다 . 2 개 의 처리 층 ( C 1 , C 2 ) 은 , 하 층막 ( 예 를 들 면 SOC ( Spin On Carbon ) 막 ) 을 형성 한다 . 2 개 의 처리 층 ( A 1 , A 2 ) 은 , 중간막 ( 예 를 들 면 SOG ( Spin On Glass ) 막 ) 을 형성 한다 . 그리고 , 2 개 의 처리 층 ( B 1 , B 2 ) 은 , 포토레지스트 막 을 형성 한다 . 또한 , 도 22 는 , 실시 예 5 에 따른 기판 처리 장치 ( 1 ) 의 동작 을 설명 하 기 위한 플로 차트 이 다 .