상기 방사선 빔 ( B ) 은 패 터닝 디바이스 지 지체 ( 예 를 들 어 , 마스크 테이블 ) ( MT ) 상 에 유지 되 어 있 는 패 터닝 디바이스 ( 예 를 들 어 , 마스크 ) ( MA ) 상 에 입사 되 며 , 패 터닝 디바이스 에 의해 패 터닝 된다 . 상기 패 터닝 디바이스 ( 예 를 들 어 , 마스크 ) ( MA ) 를 가로질렀 으면 , 상기 방사선 빔 ( B ) 은 투영 시스템 ( 4 ) 을 통과 하 며 , 이 는 기판 ( W ) 의 타 겟 부 ( C ) 상 에 상기 빔 을 포커스 한다 . 제 2 위치 설정 디바이스 ( PW ) 및 측정 시스템 ( MS ) ( 예 를 들 어 , 인코더 타입 측정 시스템 ) 의 도움 으로 , 기판 테이블 ( WT ) 은 예 를 들 어 방사선 빔 ( B ) 의 경로 내 에 상이 한 타 겟 부 ( C ) 들 을 위치 시키 도록 정확 하 게 이동 될 수 있 다 . 본 발명 의 일 실시 예 에 따르 면 , 측정 시스템 ( MS ) 은 기판 테이블 ( WT ) [ 또는 유사 한 방식 으로 , 마스크 지지 구 조체 ( MT ) ] 의 위치 를 결정 하 는 데 사용 된다 . 이 를 위해 , 측정 시스템 은 기판 테이블 ( WT ) ( 일반 적 으로 , 대상물 테이블 ) 에 장착 된 제 1 측정 시스템 부분 ( MS 1 ) , 및 메트 롤 로지 프레임 ( 3 ) 과 같 은 실질 적 으로 정지 상태 인 프레임 에 장착 된 제 2 측정 시스템 부분 ( MS 2 ) 을 포함 한다 . 일 실시 예 에 따르 면 , " 실질 적 으로 정지 상태 인 프레임 에 대한 시스템 부분 ( MS 2 ) 의 "" 장착 "" 은 직접 장착 ", 즉 두 부분 들 의 연결 , 또는 두 부분 들 을 함께 연결 하 는데 중간 디바이스 [ 즉 , 예 를 들 어 리프 - 스프링 ( leaf - spring ) 들 의 프레임 을 포함 할 수 있 는 장착 디바이스 ] 가 사용 되 는 간접 장착 을 포함 하 는 것 으로 간주 된다 . 또한 , 측정 시스템 ( MS ) 은 위치 설정 디바이스 ( PW ) 를 제어 하 도록 구성 된 제어기 ( CU ) 에 , 제 2 측정 시스템 부분 ( MS 2 ) 에 대한 제 1 측정 시스템 부분 ( MS 1 ) 의 위치 를 나타내 는 제 1 위치 의존 적 신호 를 제공 하 도록 배치 된다 . 또한 , 리소그래피 장치 는 실질 적 으로 정지상 태인 프레임 ( 3 ) 에 대한 제 2 측정 시스템 부분 ( MS 2 ) 의 위치 를 나타내 는 제 2 위치 의존 적 신호 를 제어기 ( CU ) 에 제공 하 도록 구성 된 위치 센서 ( 도시 되 지 않 음 ) 를 포함 한다 . 본 발명 의 일 실시 예 에 따르 면 , 제어기 ( CU ) 는 위치 설정 디바이스 ( PW ) 를 제어 하 는 제어 신호 를 제공 하 도록 구성 되 며 , 제 어 신호 는 제 1 및 제 2 위치 의존 적 신호 모두 에 기초 한다 . 이러 한 것 으로서 , 메트 롤 로지 프레임 ( 3 ) 에 대한 제 2 측정 시스템 부분 ( MS 2 ) 의 어떠 한 변위 또는 변형 이 적어도 부분 적 으로 보상 되 거나 보정 될 수 있 다 . 결과 로서 , 투영 시스템 ( 4 ) 에 대한 대상물 테이블 ( WT ) 의 더 정확 한 위치 설정 이 얻 어 질 수 있 으므로 , 기판 ( W ) 의 타 겟 부 ( C ) 상 으로 패 터닝 된 빔 의 더 정확 한 투영 이 유도 된다 .