상기 와 같이 제조 한 감광성 수지 조성물 용액 을 유리 기판 에 스핀 코팅 한 후 , 약 90 ℃ 로 100 초 동안 전열 처리 하 여 약 3 . 0 ㎛ 두께 의 도막 을 형성 하 였 다 . 그 다음 , 실온 에서 냉각 한 후 , 포토 마스크 를 이용 하 여 고압 수은 램프 하 에서 100 mJ / ㎠ 의 에너지 로 노광 시켰 다 . 상기 노광 된 기판 을 25 ℃ 의 온도 로 0 . 04 % 의 KOH 수용액 에서 스프레이 방식 으로 현상 한 후 , 순수 로 세정 하 고 건조 시켜 100 ℃ 의 컨 벡 션 오븐 에서 30 분 간 포스트 베 이크 ( post - bake ) 하 였 다 . 기판 의 스트라이프 패턴 부 의 단면 을 주사 전자 현미경 으로 관찰 하 였 고 패턴 부 단면 끝단 의 테이퍼 ( Taper ) 각도 를 하 기 표 2 에 하 기 와 같 은 기준 으로 나타내 었 다 .