상기 화소 정의 막 을 형성 하 는 단계 는 , 상기 무기 막 상 에 상기 화소 전극 과 중첩 하 도록 제 1 포토 레지스 트 들 을 형성 하 는 단계 와 상기 무기 막 상 에 상기 제 1 포토 레지스 트 들 사이 에 제 2 포토 레지스 트 를 형성 하 는 단계 를 포함 하 고 , 상기 격벽 을 형성 하 는 단계 는 상기 무기 막 상 에 상기 보조 전극 과 중첩 하 도록 제 3 포토 레지스 트 를 형성 하 는 단계 를 포함 하 고 , 상기 제 3 포토 레지스 트 의 두께 는 상기 제 1 포토 레지스 트 의 두께 보다 얇 을 수 있 다 .