처리 실 ( 201 ) 은 , 기판 으로서 의 웨이퍼 ( 200 ) 를 후술 하 는 보트 ( 217 ) 에 의해 수평 자세 로 연직 방향 으로 다단 으로 배열 한 상태 에서 수용 가능 하 게 구성 되 어 있 다 . 처리 실 ( 201 ) 내 에 는 , 노즐 ( 410 ( 제 1 노즐 ) , 420 ( 제 2 노즐 ) ) 이 매니폴드 ( 209 ) 의 측벽 및 이너 튜브 ( 204 ) 를 관통 하 도록 마련 되 어 있 다 . 노즐 ( 410 , 420 ) 에 는 , 가스 공급 라인 으로서 의 가스 공급 관 ( 310 , 320 ) 이 각각 접속 되 어 있 다 . 이 와 같이 , 기판 처리 장치 ( 10 ) 에 는 2 개 의 노즐 ( 410 , 420 ) 과 , 2 개 의 가스 공급 관 ( 310 , 320 ) 이 마련 되 어 있 어 , 처리 실 ( 201 ) 내 에 복수 종류 의 가스 를 공급 할 수 있 도록 구성 되 어 있 다 . 단 , 본 실시 형태 의 처리 로 ( 202 ) 는 상술 한 형태 에 한정 되 지 않 는다 .