본 발명 을 적용 하 는 포토 마스크 의 용도 에 특별히 제한 은 없 다 . 본 발명 의 포토 마스크 는 , 액정 표시 장치 나 EL 표시 장치 등 을 포함 하 는 표시 장치 의 제조 시 에 , 바람직 하 게 사용 할 수 있 는 , 투과 형 포토 마스크 로 할 수 있 다 . 그리고 , TFT 의 S / D 레이어 와 채널 을 , 1 회 의 포토 리소그래피 공정 으로 가공 하 는 공정 에 사용 되 는 , 다 계조 포토 마스크 로서 유용 하 다 .