도 27 을 참조 하 면 , 일 실시 예 에 따른 광 조사 장치 ( 500 _ 2 ) 는 열처리 장치 ( 900 _ 2 ) 에 배치 되 고 , 전계 형성 유닛 ( 100 ) 은 광 조사 장치 ( 500 _ 2 ) 가 광 ( hv ) 을 조사 하 는 동안 대상 기판 ( SUB ) 상 에 전계 ( IEL ) 를 생성 할 수 있 다 . 또한 , 도면 에 도시 되 지 않 았 으나 , 광 조사 장치 ( 500 _ 2 ) 는 열처리 장치 ( 900 _ 2 ) 가 상기 대상 기판 ( SUB ) 상 에 열 을 조사 하 는 동안 상기 대상 기판 ( SUB ) 상 에 광 을 조사 할 수 있 다 .