엑 시머 레이저 어닐링 법 은 가장 널리 사용 되 는 방법 으로 , 엑 시머 레이저 ( excimer laser ) 라는 펄스 화 된 자외선 ( UV beam ) 을 사용 하 는 어닐링 방법 이 다 . 레이저 를 이용 한 어닐링 ( annealing ) 은 1976 년 Khaibullin 이 처음 개발 한 이후 로 대 규모 집적회로 ( Large Scale Integration ; LSI ) 공정 에서 불순물 이온 을 주입 한 실리콘 의 어닐링 을 목적 으로 개발 되 어 오 다가 , 대 면적 의 표시 소자 개발 에 적용 되 면서 비교 적 근래 에 와서 중소형 저온 다결정 실리콘 TFT - LCD 제품 의 제조 에 응용 되 기 시작 하 였 다 .