이 방법 에서 , 전하 들 의 첫 번 째 판독 은 판독 픽셀 의 열 - 감지 측정 소자 의 가열 페이즈 의 절반 이 넘 는 동안 에 이행 된다 . 대조 적 으로 , 전하 들 의 두 번 째 판독 은 상기 가열 페이즈 의 절반 미만 동안 에 , 그러므로 판독 픽셀 의 냉각 동안 에 적어도 부분 적 으로 이행 된다 . 냉각 동안 에 , 피부 와 접촉 한 픽셀 은 가열 반대편 인 피부 와 접촉 하 지 않 은 픽셀 보다 더 빠르 게 냉각 하 며 , 이 는 상기 픽셀 의 열 관성 에 종속 하 는 특정 시간 이후 이 다 . 계산 된 차이 는 상기 첫 번 째 판독 및 두 번 째 판독 동안 에 획득 된 양 의 전하 들 및 음 의 전하 들 을 축적 하 는 것 을 그 후 에 가능 하 게 만들 며 , 그래서 절차 의 끝 에서 획득 된 측정 신호 를 증가 시키 는 것 을 가능 하 게 한다 . 그러므로 , 소자 의 상 이 한 열 전도 성 의 일부 들 과 접촉 한 픽셀 들 - 예 를 들 면 , 지문 이 캡 처 된 손가락 의 리지 ( ridge ) 들 과 접촉 한 픽셀 들 사이 에 상기 소자 를 위해 열 패턴 이 캡 처 됨 - 그리고 상기 지문 이 캡 처 된 손가락 의 밸리 들 에 반대편 에 위치 한 픽셀 들 사이 에서 더 양호 한 대비 가 획득 된다 .