본 발명 은 감광성 내식 각막 의 잔사 제거 용 조성물 을 제공 한다 . 본 발명 에 따른 감광성 내식 각막 의 잔사 제거 용 조성물 은 테트라 히 드로퍼 퓨 릴 알코올 또는 테트라 히 드로퍼 퓨 릴 아민 에서 선택 된 부식 억제제 10 내지 80 중량 %; 수소 이온 농도 가 약염기 영역 인 pH 조절 제 10 내지 80 중량 %; 암모늄 플로라 이드 0 . 1 내지 2 중량 %; 및 잔량 물 을 포함 한다 . 이 와 같 은 조성 의 잔사 제거 용 조성물 은 반도체 제조 공정 에서 발생 되 는 불용성 잔사 를 하부 막 에 대한 어떠 한 손상 도 없이 완벽히 제거 할 수 있 으며 , 구성 성분 이 친환경 적 이 어서 안 전하 게 사용 될 수 있 다 .