이 표면 생성물 은 불소 ( F ) , 티탄 , 산소 ( O ) 등 의 성분 을 포함 하 는 막 이 며 , 그 두께 는 , 예 를 들 면 약 10 ㎚ 내지 약 30 ㎚ 이 다 . 티탄 의 표면 에서 의 이 표면 생성물 ( 202 ) 은 , 적어도 수 세정 으로 는 티탄 표면 으로부터 제거 할 수 없 는 것 을 알 고 있 다 . 예 를 들 면 , HF ( 불 수소 ) 계 의 에칭 액 을 이용 하 면 , 이 표면 생성물 을 제거 할 수 있 지만 , 그 경우 에 는 최상층 의 티탄 도 상당히 제거 되 게 된다 . 이 와 같이 , 이 표면 생성물 을 제거 하 는 것 은 간단 하 지 않 다 .