상기 실란 작용기 ( Si - H ) 를 1 이상 포함 하 는 실록 산계 고분자 의 수 평균 분자량 이 너무 낮 으면 , 폴리 올 과 의 가교 과정 ( 40 ℃) 에서 휘발 되 어 매트릭스 가 교도 가 낮 아 져 기록 특성 의 감소 가 발생 한다 . 또한 , 상기 실란 작용기 ( Si - H ) 를 1 이상 포함 하 는 실록 산계 고분자 의 중량 평균 분자량 이 너무 높 으면 , 포토 폴리머 성분 들 과 의 비상용 성 으로 인해 성분 들 의 상 분리 가 발생 하 여 기록 특성 저하 를 유발 한다 .