또 , 상기 실시 형태 에 있 어서 는 , 할로겐 램프 ( HL ) 로부터 의 광 조사 에 의해 반도체 웨이퍼 ( W ) 의 예비 가열 을 행하 도록 하 고 있 었 지만 , 이 대신 에 반도체 웨이퍼 ( W ) 를 유지 하 는 서 셉 터 를 핫 플레이트 상 에 재치 하 고 , 그 핫 플레이트 로부터 의 열전도 에 의해 반도체 웨이퍼 ( W ) 를 예비 가열 하 도록 해도 된다 .