본 발명 에 의하 면 , 2 이상 의 영역 을 포함 하 는 표면 으로서 , 2 이상 의 상기 영역 중 인접 하 는 영역 에 관하 여 , 서로 재질 이 상이 한 표면 을 처리 하 는 방법 에 있 어서 , 적어도 1 개 의 영역 을 선택 적 으로 양호 한 반응 속도 로 개질 시킬 수 있 고 , 상이 한 재질 의 영역 사이 의 콘트 라스트 가 양호 해 지 는 표면 개질 제 , 표면 개질 방법 , 및 기판 표면 의 영역 선택 적 제막 방법 을 제공 할 수 있 다 .