멀티 빔 묘화 에서 는 , 광학계 의 특성 등 이 원인 으로 , 멀티 빔 의 각 빔 의 시료 면 에서 의 조사 위치 에 멀티 빔 의 어레이 의 면 내 에서 계통 적 인 이탈 이 생긴다 . 멀티 빔 묘화 장치 에서 빔 의 수 가 매우 많 은 경우 에 는 , 개별 빔 마다 독립 적 인 편향 기구 를 설치 하 여 개별 빔 마다 위치 이탈 을 보정 하 는 것 은 곤란 하 다 . 대신 에 , 멀티 빔 의 각 빔 의 위치 이탈 량 에 따라 조사량 변조 처리 를 행하 여 , 위치 이탈 한 빔 으로 노광 한 경우 에 도 , 레지스 트 에 주 는 도스 분포 에 빔 위치 이탈 의 영향 이 나타나 지 않 도록 할 수 있 다 . 즉 , 개별 빔 의 위치 이탈 량 으로부터 빔 마다 보정 조사량 을 계산 하 여 , 위치 이탈 을 가진 채 로 보정 조사량 으로 노광 함 으로써 , 멀티 빔 이 레지스 트 에 주 는 도스 분포 에 빔 위치 이탈 의 영향 이 나타나 는 것 을 막 을 수 있 다 . 이 처리 로서 , 등 피치 로 배열 한 화소 마다 정의 한 도스 량 을 , 화소 의 주변 의 빔 에 , 빔 의 위치 이탈 량 으로부터 산출 한 가중치 로 할당 하 는 방법 이 있 다 .