기판 처리 장치 ( 1 ) 는 , 예 를 들 어 , 알루미늄 등 의 도전 성 재료 로 이루어지 는 처리 용기 ( 2 ) 와 , 처리 용기 ( 2 ) 내부 로 가스 를 공급 하 는 가스 공급원 ( 11 ) 을 포함 한다 . 처리 용기 ( 2 ) 는 전기 적 으로 접지 되 어 있 다 . 처리 용기 ( 2 ) 내부 에 , 하부 전극 ( 21 ) 과 , 이 에 대향 하 여 평행 하 게 배치 된 상부 전극 ( 22 ) 을 가진다 . 하부 전극 ( 21 ) 은 기판 ( W ) 을 거치 하 는 거치대 로서 기능 한다 .