4 ) 플라 즈 마 내성 에 약한 ArF PR 의 사용 으로 인해 폴리 실리콘 을 식각 할 때 마스크 의 역할 을 할 수 있 는 PR 마진 은 축소 기술 적 용시 과다 식각 타 겟 을 적정 화 하 여 남 아 있 는 PR 을 1000 Å 이상 으로 확보 할 수 있 었 으며 , 액티브 피팅 마진 은 폴리 실리콘 식각 시 공정 단계 를 2 단계 로 나누 어 첫 번 째 단계 에서 잔류 폴리 실리콘 의 양 을 조절 하 는 방법 으로 확보 할 수 있 다 .