종래 실란 조성물 을 이용 하 여 실리콘 막 을 얻 는 기술 에서 는 용매 제거 후 형성 된 실리콘 박막 이 비정질 상 으로서 결정상 을 얻 기 위해서 는 고온 의 열처리 나 레이저 어닐링 의 공정 을 실시 해야 하 는 단점 이 있 었 으나 , 본 발명 에서 는 실리사이드 가 시드 로 작용 하 여 본래 부터 결정질 의 실리콘 박막 의 형성 을 기대 할 수 있 는 것 이 다 .