레이저 빔 이 조사 되 는 모재 의 중심 부분 과 에지 부분 의 온도 편차 가 감소 되 도록 레이저 빔 의 빔 분포 를 조절 할 수 있 는 본 발명 의 일 측면 에 따른 레이저 빔 의 빔 분포 를 조절 시키 는 광학 시스템 은 , 레이저 소스 에서 출력 된 레이저 빔 을 평행 빔 으로 변환 시키 는 빔 시준 부 ; 상기 빔 시준 부 에 의해 평행 빔 으로 변환 된 레이저 빔 의 에너지 강도 가 기준 값 에서 제 1 타 겟 값 까지 증가 하 는 제 1 구간 , 상기 에너지 강도 가 상기 제 1 타 겟 값 으로 유지 되 는 제 2 구간 , 및 상기 에너지 강도 가 상기 제 1 타 겟 값 에서 상기 기준 값 까지 감소 하 는 제 3 구간 을 포함 하 는 빔 분포 가 되 도록 상기 시준 된 레이저 빔 을 균질 화 시키 는 빔 균질 화부 ; 및 상기 빔 분포 의 상기 제 2 구간 에 포함 된 제 1 서브 구간 동안 상기 에너지 강도 를 상기 제 1 타 겟 값 에서 제 2 타 겟 값 까지 감소 시켜 상기 레이저 빔 의 빔 분포 를 변경 시키 는 빔 분포 조정 부를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .