선택 적 인 프로세스 ( 808 ) 에서 , 세장형 장치 에 가해 지 는 외부 힘 이 최소 화 된다 . 세장형 장치 가 프로세스 ( 802 ) 중 에 통로 를 따라 이동 될 때 , 세장형 장치 는 통로 의 하나 이상 의 벽 과 접촉 될 수 있 다 . 환자 의 해부 조직 내 의 통로 에서 일반 적 인 바 와 같이 , 통로 의 하나 이상 의 벽 이 가요 성 을 가질 때 , 세장형 장치 는 하나 이상 의 벽 의 위치 를 변경 할 수 있 고 , 이 는 수집 되 는 위치 데이터 내 에 원치 않 는 노이즈 를 도입 할 수 있 다 . 일부 예 에서 , 하나 이상 의 벽 에 의해서 세장형 장치 의 외부 에 인가 되 는 외부 힘 을 모니터링 하 는 것 그리고 이러 한 외부 힘 을 줄이 기 위해서 세장형 장치 의 위치 를 조정 하 는 것 에 의해서 , 세장형 장치 가 하나 이상 의 벽 의 위치 를 변경 할 수 있 는 범위 가 선택 적 으로 감소 될 수 있 다 . 일부 예 에서 , 세장형 장치 의 외부 를 따라서 여러 위치 에 위치 된 , 스트레인 게이지 와 같 은 , 힘 및 / 또는 압력 센서 를 이용 하 여 , 외부 힘 이 선택 적 으로 모니터링 될 수 있 다 . 일부 예 에서 , 세장형 장치 의 상응 영역 을 외부 힘 으로부터 멀리 휘어지 게 함 으로써 , 힘 및 / 또는 압력 센서 에 의해서 검출 되 는 외부 힘 이 선택 적 으로 보상 될 수 있 다 . 일부 예 에서 , 세장형 장치 의 삽입 깊이 를 조정 하 는 것 , 원위 단부 의 조향 을 조정 하 는 것 , 및 / 또는 기타 에 의해서 및 / 또는 이러 한 접근 방식 의 임의 의 조합 에 의해서 , 힘 및 / 또는 압력 센서 에 의해서 검출 된 전체 적 인 외부 힘 이 선택 적 으로 보상 될 수 있 다 .