광 변조 소자 ( 1 ) 의 구조 및 기능 은 추후 설명 하 기 로 한다 . 조사 시스템 ( 2 ) 은 예 를 들 어 , 308 nm 의 파장 을 갖 는 레이저 빔 을 제공 하 는 XeCl 엑 시머 레이저 소스 ( 2 a ) 를 포함 한다 . 빔 소스 ( 2 a ) 로서 는 , KrF 엑 시머 레이저 소스 또는 YAG 레이저 소스 와 같이 , 프로세싱 대상 기판 ( 4 ) ( 예 를 들 면 , 유리 기판 또는 비 단결정 반도체 기판 과 같 은 기판 에 형성 되 는 비 단결정 반도체 막 ) 을 용융 시킬 만 한 에너지 를 갖 는 광 빔 을 방출 할 수 있 는 성능 을 갖 는 임의 의 다른 빔 소스 가 사용 될 수 있 다 . 레이저 소스 ( 2 a ) 로부터 제공 되 는 레이저 빔 은 빔 익스팬더 ( 2 b ) 를 통해 확장 되 어 제 1 플라이 아이 렌즈 ( 2 c ) 로 입사 된다 .