따라서 , 더미 하프톤 부 ( 32 ) 를 형성 하 지 않 은 마스크 를 이용 하 여 포토레지스트 막 에 사진 공정 을 수행 할 경우 , 상기 이격 부 의 제 2 방향 ( Y ) 단부 ( EG ) 에 대응 하 는 포토레지스트 막 은 상대 적 으로 현상액 에 의해 많이 용해 된다 . 이 에 따라 , 현상 공정 이후 에 상기 이격 부 에 대응 하 여 잔류 하 는 포토레지스트 막 의 두께 가 불 균일 해진다 .