일반 적 인 베 이크 챔버 는 기판 을 열처리 한다 . 예컨대 , 베 이크 챔버 는 포토 레지스 트 를 도포 하 기 전 에 기판 을 소정 의 온도 로 가열 하 여 기판 표면 의 유기물 이나 수분 을 제거 하 는 프리 베 이크 ( prebake ) 공정 이나 포토 레지스 트 를 기판 상 에 도포 한 후 에 행하 는 소프트 베 이크 ( soft bake ) 공정 등 을 수행 하 고 , 각각 의 가열 공정 이후 에 기판 을 냉각 하 는 냉각 공정 등 을 수행 할 수 있 다 . 이하 에서 는 설명 의 편의 를 위하 여 전술 한 챔버 부재 ( 110 ) 가 일반 적 인 기판 처리 장치 에 포함 된 베 이크 챔버 인 것 으로 한정 하 여 설명 하 기 로 한다 .