이 처럼 , 입 광 얼룩 을 개선 하 기 위해서 는 , 도 28 및 도 29 에 나타내 는 바 와 같이 , 도광 판 ( 2 ) 의 입 광부 근방 의 출사 광 의 광도 각도 분포 는 , Θ max 가 45 °± 15 °, Φ max 이 대략 90 °、△ Θ 이 70 °± 10 °、△ Φ 이 130 °± 20 ° 정도 이 면 좋 다 . 여기 에서 , Θ max 가 상기 의 광도 각도 분포 의 범위 외인 경우 , 입 광 얼룩 의 개선 효과 는 작 다 . 또한 , △ Θ 이 60 ° 미만 , 또는 △ Φ 이 110 ° 미만 인 경우 , 출사 광 의 퍼짐 이 작 고 , 입 광 얼룩 개선 효과 는 작 다 . △ Θ 이 80 ° 을 넘 거나 , 또는 △ Φ 이 150 ° 를 넘 을 경우 , 출사 광 의 각도 분포 는 지나치 게 퍼지 기 때문 에 , 휘도 가 낮 아 진다 . 그 때문 에 , 표시 영역 부 의 휘도 와 같 은 정도 의 휘도 로 하 기 위해서 는 , 결과 적 으로 입 광부 근방 에서 광 을 많이 출사 하 게 할 필요 가 있 다 . 그 결과 , 표시 영역 에서 사용 되 는 광량 이 줄 고 , 저 휘도 가 되 기 위해서 바람직 하 지 않 다 . 또한 , Φ max 가 대략 90 ° 인 것 에 대해서 는 , 도광 판 의 일반 적 인 특성 이 다 .