비 교예 8 ∼ 11 포지티브 형 감광성 수지 조성물 은 γ - 부티 로 락톤 으로 제조 할 수 없 고 , NMP 를 사용 하 여 조정 하 였 다 . 비 교예 8 ∼ 11 의 포지티브 형 감광성 수지 조성물 에서 는 , 현상기 의 최소 현상 시간 인 9 초 에 현상 을 실시 했 는데 , 미노 광부 의 용해 속도 가 매우 빨라 , 현상 후 의 막 두께 를 6 . 75 ㎛ 가 되 도록 조절 할 수 없 어 , 결과 적 으로 원 하 는 릴리프 패턴 을 얻 을 수 없 었 다 . 이것 은 미노 광부 에 있 어서 , PAC - 1 에 함유 되 는 나프 토 퀴논 디 아지드 에 의한 알칼리 가용성 수지 의 용해 억지 가 효과 가 없 어 , 결과 적 으로 미노 광부 와 노 광부 의 용해 속도 의 차이 가 얻 어 지 지 않 는다는 것 이 원인 이 다 . 비 교예 12 , 14 에서 는 , 원 하 는 3 . 5 ㎛ 의 패턴 을 얻 을 수 있 었 으나 , 패턴 을 얻 을 때 에 필요 로 하 는 감도 는 낮 은 결과 가 되 었 다 . 비 교예 13 에서 는 , 현상 시간 을 조정 함 으로써 , 6 . 75 ㎛ 가 되 도록 막 두께 를 조정 할 수 있 지만 , 800 mJ / ㎠ 이하 의 노광량 으로 원 하 는 패턴 을 얻 을 수 없 었 다 . 비 교예 14 에서 는 , 현상 시간 을 조정 함 으로써 , 6 . 75 ㎛ 가 되 도록 막 두께 를 조정 할 수 있 어 , 비교 적 고감도 였 지만 , 할로겐 원자 인 F 원자 를 함유 한다 .