도 2 는 본 발명 의 실시 예 들 에 따른 프로세스 챔버 ( 102 ) 의 개략 적 인 횡단면 도 이 다 . 프로세스 챔버 ( 102 ) 는 챔버 본체 ( 202 ) , 전 구체 가스 들 , 캐리어 가스 들 , 세 척 가스 들 , 및 / 또는 퍼지 ( purge ) 가스 들 을 전달 하 기 위한 화학 물 ( chemical ) 전달 모듈 ( 203 ) , 플라 즈 마 소스 를 갖 는 원격 플 라즈 마 시스템 ( 226 ) , 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 를 지지 하 기 위한 기판 지 지체 구조물 ( 214 ) , 및 진공 시스템 을 포함 한다 . 프로세스 챔버 ( 102 ) 의 내외 로 의 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 의 이송 을 위해 챔버 본체 ( 202 ) 에 밀봉 가능 한 개구 ( 211 ) 가 제공 된다 . 챔버 본체 ( 202 ) 는 가스 분배 샤워 헤드 ( 204 ) , 챔버 본체 ( 202 ) 의 일부 및 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 에 의해 제한 되 는 ( bounded ) 프로세싱 체적 ( 208 ) 을 둘러싼다 . 일 실시 예 에 있 어서 , 가스 분배 샤워 헤드 ( 204 ) 의 표면 들 및 프로세싱 체적 ( 208 ) 과 마주 보 는 챔버 본체 ( 202 ) 의 부분 은 , 증착 부산물 들 로부터 베이스 물질 을 차폐 ( shield ) 하 는 코팅 들 ( 291 , 296 ) 을 각각 포함 한다 .