코팅 은 유리 또는 코팅 플라스틱 에 당해 분야 숙련자 에게 공지 된 임의 의 수단 에 의해 도포 될 수 있 다 . 이 는 브러시 , 롤러 , 기판 상 에 의 분무 , 잉크젯 인쇄 , 스크린 인쇄 등 을 사용 하 는 것 과 같이 통상 적 인 수단 에 의해 도포 될 수 있 다 . 바람직 하 게 는 , 로봇 도포 장치 를 사용 하 여 조성물 을 도포 할 수 있 다 . 이 같 은 장치 는 당해 분야 숙련자 에게 주지 되 어 있 다 . 코팅 을 기판 의 표면 상 에 도포 한 후 , 중합 조건 , 즉 조성물 에 중합 이 진행 되 도록 하 는 조건 에 코팅 을 노출 시킨다 . 필름 형성 수지 및 기타 반응 성 성분 들 의 작용기 가 자유 라디칼 에 노출 되 었 을 때 반응 하 는 것 들 인 경우 , 이 는 촉매 또는 개시제 가 자유 라디칼 의 형성 및 자유 라디칼 중합 을 개시 시키 도록 하 는 일부 공정 을 수행 하 는 것 을 의미 한다 . 바람직 한 실시 양태 에서 , 촉매 또는 개시제 는 광 개시제 이 고 , 중합 은 조성물 을 조사 , 예컨대 자외선 또는 전자 빔 에 노출 시킴 으로써 개시 된다 . 복사 작용기 의 가교 를 달성 하 는 데 사용 된 에너지원 은 화학선 ( 예컨대 , 파장 이 자외선 또는 가시 영역 스펙트럼 내인 복사 ) , 가속 입자 ( 예컨대 , 전자 빔 복사 ) , 열 ( 예컨대 , 가열 또는 적외선 복사 ) 등 일 수 있 다 . 바람직 하 게 는 , 에너지원 은 화학선 또는 가속 입자 인데 , 이 같 은 에너지원 이 조사 및 가교 속도 에 관하 여 우수 한 제어 를 제공 하 기 때문 이 다 . 또한 , 화학선 및 가속 입자 는 비교 적 낮 은 온도 에서 의 경화 에 사용 될 수 있 다 . 이 는 열 경화 기술 을 사용 할 때 복사 경화 성 기 의 가교 를 개시 시키 는 데 필요 할 수 있 는 비교 적 높 은 온도 에 민감 할 수 있 는 성분 들 의 분해 를 방지 한다 . 화학선 의 적절 한 공급원 에 는 수은 램프 , 무전극 램프 , 제논 램프 , 탄소 아크 ( arc ) 램프 , 텅스텐 필라멘트 램프 , 레이저 , 전자 빔 에너지 , 일광 등 이 포함 된다 . 자외선 복사 , 특히 제논 램프 , 중압 ( medium pressure ) 수은 램프 또는 무전극 램프 로부터 의 복사 가 가장 바람직 하 다 . 바람직 하 게 는 , 개시제 는 광 개시제 이 고 , 이러 한 실시 양태 에서 중합 은 자외선 복사 에 의 노출 에 의해 개시 된다 . 조성물 이 노출 되 는 복사 량 은 광 개시제 의 존재 하 에 자유 라디칼 중합 의 개시 가 초래 되 고 코팅 의 원 하 는 최종 성질 을 제공 하 는 양 이 다 . 코팅 은 스크린 인쇄 , 분무 수단 , 펠트 ( felt ) 또는 롤러 의 사용 등 을 통해 도포 될 수 있 다 . 바람직 하 게 는 , 일단 경화 된 코팅 의 두께 는 약 5 미크론 이상 , 더욱 바람직 하 게 는 약 10 미크론 이상 이 다 . 바람직 하 게 는 , 일단 경화 된 코팅 의 두께 는 약 100 미크론 이하 , 더욱 바람직 하 게 는 약 75 미크론 이하 , 가장 바람직 하 게 는 약 50 미크론 이하 이 다 . 한 실시 양태 에서 , 본 발명 의 코팅 은 추가 의 코팅 조건 에 적용 될 수 있 다 . 필름 은 자유 라디칼 중합 완료 후 에 열 경화 조건 에 노출 될 수 있 다 . 바람직 하 게 는 , 필름 은 110 ℃ 내지 약 200 ℃ 의 온도 에서 후 경화 될 수 있 다 . 바람직 한 열 경화 시간 은 약 5 내지 약 60 분 이 다 . 제형 이 유리 전이 온도 가 낮 은 성분 들 을 함유 하 는 경우 에 , 이 같 은 물질 들 의 용융 을 야기 시키 는 열 경화 조건 들 을 방지 하 는 데 주의 할 필요 가 있 다 .