상부 전극 ( 4 ) 에 는 , 동축 케이블 ( 91 ) 을 통해 이것 과 전기 적 으로 접속 된 방전 용 고주파 전원 ( 8 ) ( 이하 , 고주파 전원 ( 8 ) 이 라고 기재 함 ) 으로부터 플라스마 형성 용 고주파 전력 이 방전 용 고주파 전력 정합 기 ( 9 ) 를 통해 공급 되 고 , 상부 전극 ( 4 ) 의 표면 으로부터 샤워 플레이트 ( 5 ) 를 투과 하 여 처리 실 ( 40 ) 의 내부 에 전계 가 방출 된다 . 본 실시 예 에서 는 , 고주파 전원 ( 8 ) 으로부터 상부 전극 ( 4 ) 에 인가 되 는 플라스마 형성 용 고주파 전력 으로서 , 초고주파 대 ( VHF 대 ) 역 의 주파수 인 200 ㎒ 의 전력 을 이용 했 다 .