예컨대 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 폴리 실리콘 층 을 갖 는 기판 제조 방법 은 , 기판 ( 1 ) 상 에 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 을 형성 하 는 단계 이후 , 도 1 에 도시 된 것 과 같이 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 에 레이저 빔 을 조사 하 는 단계 를 거치 게 된다 . 이때 선편광 된 레이저 빔 을 제 1 커셀 ( 21 ) 을 통과 시키 고 회전축 ( 30 a ) 을 중심 으로 회전 하 는 폴리곤 미러 상 ( 30 ) 에 반사 시킨 후 , 제 1 광학 소자 ( 41 ) 를 통과 시켜 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 상 에 조사 한다 . 이 에 따라 폴리곤 미러 ( 30 ) 에서 발생 할 수 있 는 레이저 빔 경로 오차 등 을 제 1 커셀 ( 21 ) 을 이용 하 여 효과 적 으로 방지 하 거나 최소 화 할 수 있 다 .