삼성전자 는 최근 경기도 화성 에서 노광 공정 에 극자외선 ( EUV ) 스캐너 를 적용 한 새로운 반도체 생산 라인 건설 에 착수 했 다 . 올 하반기 부터 7 ㎚ 공정 생산 을 목표 로 한다 . 반도체 미세 공정 이 10 ㎚ 미만 으로 내려감 에 따라 공정 난이도 가 올라갔 고 , 업계 는 노광 장비 와 관련 부품 · 소재 의 한계 로 생산 성 이 둔화 하 는 한계 에 봉착 했 다 .