이 에 본 발명자 에 의해 대한민국 특허 등록 제 595529 호 에 용 존 산소 제거 용 촉매 첨 착 형 다공성 고분자 막 및 이 의 제조 방법 을 제시 한 바 있 다 . 이 특허 는 알루미나 를 함유 하 는 다공성 폴리 비닐리덴 플 루오 라이드 평 막 에 백금 또는 팔라듐 을 첨 착시 킨 고분자 막 과 이 를 이용 하 여 용 존 산소 를 제거 하 는 방법 에 관한 것 이 나 , 평 막 의 기계 적 강도 가 낮 아 수소 주입 시 촉매 첨 착 형 다공성 고분자 막 이 쉽 게 파손 될 우려 가 있 고 , 사용 되 는 백금 및 팔라듐 촉매 의 양 이 많 아 제조 단가 가 높 으며 사용 되 는 촉매 양 에 비하 여 용 존 산소 제거 능 이 낮 다는 점 에서 한계 가 있 었 다 .