실시 예 2 와 동일 하 게 하 되 박막 형성 물질 을 상기 PMMA 대신 폴리스티렌 ( Polystyrene ) 을 사용 하 여 홀 을 가지 는 폴리스티렌 ( Polystyrene ) 박막 을 제조 하 였으며 , 상기 홀 을 가지 는 폴리스티렌 ( Polystyrene ) 박막 을 홀 ( hole ) 을 가지 는 실리콘 웨이퍼 상 으로 전사 하 고 주사 전자 현미경 ( SEM , Scannig Electron Microscope ) 으로 관찰 하 였 다 ( 도 9 ) . 도 9 a 의 밝 은 부분 은 실리콘 웨이퍼 이 고 , 어두운 부분 은 실리콘 웨이퍼 상 의 홀 을 나타내 며 도 9 b 는 상기 실리콘 웨이퍼 상 의 홀 을 확대 한 모습 이 고 , 상기 실리콘 웨이퍼 의 홀 상 에 본원 의 제조 방법 에 의해 형성 된 홀 을 가지 는 박막 이 형성 되 어 있 는 모습 을 관찰 할 수 있 다 . 도 9 c 는 상기 실리콘 웨이퍼 의 홀 영역 을 더욱 확대 한 사진 으로 , 상기 사진 에서 는 규칙 적 으로 정렬 된 , 홀 을 가지 는 박막 을 관찰 할 수 있 다 .