그러나 , 도 2 에 도시 한 , 본 발명 의 바람직 한 변형 예 에서 , 바이패스 라인 Lk 의 적어도 하나 또는 바람직 하 게 는 각각 은 Lk 에서 순환 하 는 흐름 을 제한 하 는 제어 수단 을 포함 하 고 , 제 어 수단 은 Lk 에 직접 설치 되 지 않 지만 , Sk 의 플레이트 의 플레이트 밸브 주위 에 , 예컨대 하부 플레이트 Pi + 1 의 플레이트 밸브 Vi + 1 주위 에 바이패스 로서 설치 된다 . 일반 적 으로 , 작 은 2 차 바이패스 lk 에 배치 되 는 이러 한 유량 제한 수단 은 또한 Vi + 1 의 구경 보다 작 은 구경 을 갖 는 , 예컨대 Vi + 1 의 구경 의 10 % 내지 50 % 범위 에서 , 예컨대 Vi + 1 의 구경 의 최대 60 % 또는 50 % 의 구경 을 갖 는 제 어식 밸브 vi + 1 을 포함 한다 .