다음 에 , 도 4 d 에 도시 된 바 와 같이 , 감광 필름 ( PR ) 에 대해 기판 패턴 을 인식 시키 는 노광 - 현상 공정 이 진행 된다 ( P 40 ) . 목적 패턴 이 전사 된 광 마스크 ( 미 도시 ) 를 통하 여 감광 필름 ( PR ) 을 노광 시킴 에 따라 , 경화 되 지 않 은 감광 필름 ( PR ) 의 일부 는 현상 을 통하 여 선택 적 으로 제거 되 며 , 경화 된 일부 는 현상 이후 에 도 잔존 하 게 된다 . 도시 된 예 에서 , 현상 이후 의 감광 필름 ( PR ) 은 리드 영역 ( W 1 ) 및 다 이 패드 영역 ( W 2 ) 위 에 잔존 하 여 해당 영역 을 덮 는다 .