이어서 , 본 발명 에 따른 장치 검증 방법 의 제 3 실시 형태 를 도시 한 도 4 를 참조 하 면 , 제 1 및 제 2 실시 형태 와 도 5 a , 도 5 b , 도 5 c , 도 5 d , 도 5 e , 도 6 a , 도 6 b , 도 6 c , 도 6 d 에서 이미 설명 한 특징 은 도 4 와 동일 한 것 으로 , 도 4 의 부호 에 대한 표시 나 생략 에 대해서 는 더 이상 설명 하 지 않 기 로 한다 . 제 3 실시 형태 와 제 1 실시 형태 에 따른 주요 방법 에 있 어서 , 그 차이점 은 본 실시 형태 에서 , 제 1 실시 형태 에 따른 b 단계 ( b ) 는 동시 에 b 0 단계 ( b 0 ) 를 추가 하 며 , 제 1 실시 형태 에 따른 d 단계 ( d ) 는 동시 에 d 0 단계 ( d 0 ) 를 추가 하 고 제 1 실시 형태 에 따른 e 단계 ( e ) 이후 에 는 e 2 단계 ( e 2 ) 를 추가 하 는 것 에 있 다 .