결과 적 으로 생긴 라인 ( 124 ) 의 피치 는 라인 ( 124 ) 의 폭 과 이웃 공간 ( 122 ) 의 폭 의 합 과 동일 하 다 . 라인 ( 124 ) 및 공간 ( 122 ) 의 이러 한 패턴 을 사용 하 여 형성 된 피처 의 임계 치수 를 최소 화 하 기 위해 , 피치 는 광 정의 가능 층 ( 120 ) 을 패 터닝 하 기 위해 사용 된 포 토리 소 그래픽 기술 의 한계 치 이거 나 또는 그 값 에 가까울 수 있 다 . 예 를 들 어 , 248 nm 광 을 이용 하 는 포토 리소그래피 의 경우 에 , 라인 ( 124 ) 의 피치 는 약 100 nm 일 수 있 다 . 그러므로 , 피치 는 포 토리 소 그래픽 기술 의 최소 피치 일 수 있 고 , 아래 에 설명 된 스 페이서 패턴 은 바람직 하 게 는 , 포 토리 소 그래픽 기술 의 최소 피치 이하 의 피치 를 가질 수 있 다 . 대안 적 으로 , 위치 및 피처 크기 에 대한 오차 범위 는 통상 적 으로 포 토리 소 그래픽 기술 의 한계 치 에 가까워짐 에 따라 증가 하 기 때문 에 , 라인 ( 124 ) 은 라인 ( 124 ) 의 위치 및 크기 의 오차 를 최소 화 하 기 위해 더 큰 피처 크기 , 예 를 들 어 200 nm 이상 을 갖 고 형성 될 수 있 다 .