또한 , 예 를 들 어 미국 특허 제 6 , 262 , 796 호 명세서 등 에 개시 되 어 있 는 바 와 같이 , 2 개 의 웨이퍼 스테이지 를 사용 하 여 노광 동작 과 계측 동작 ( 예 를 들 어 얼라이먼트 계 에 의한 마크 검출 등 ) 을 대략 병행 하 여 실행 가능 한 트윈 웨이퍼 스테이지 방식 의 노광 장치 에서 도 , 상기 각 실시 형태 와 동일 하 게 헤드 가 각 웨이퍼 스테이지 에 형성 되 는 전술 한 인코더 시스템 ( 도 3 , 도 8 및 도 9 ) 을 사용 하 여 , 각 웨이퍼 스테이지 의 위치 제어 를 실시 할 수 있 다 . 여기 서 , 노광 동작 시 뿐 만 아니 라 다른 동작 , 예 를 들 어 계측 동작 시 에 도 , 전술 과 동일 하 게 헤드 및 / 또는 스케일 부재 의 배치 를 적절히 설정 함 으로써 , 전술 한 인코더 시스템 에 의해 각 웨이퍼 스테이지 의 위치 계측 을 실시 할 수 있 다 . 예 를 들 어 헤드 의 배치 를 적절히 설정 함 으로써 , 상기 각 실시 형태 의 스케일 부재 를 그대로 사용 하 여 각 웨이퍼 스테이지 의 위치 제어 를 실시 할 수 있 지만 , 전술 한 스케일 부재 와 는 별도 로 , 그 계측 동작 중 에 사용 가능 한 스케일 부재 를 형성 해도 된다 . 이 경우 , 일례 로서 , 상기 각 실시 형태 의 스케일 부재 와 동일 한 배치 , 예 를 들 어 얼라이먼트 계 ( ALG ) 를 중심 으로 하 여 십자 형상 으로 배치 되 는 4 개 의 스케일 부재 를 형성 하 고 , 상기 계측 동작 시 에 는 이 들 스케일 부재 와 대응 하 는 헤드 에 의해 각 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 위치 정보 를 계측 하 도록 해도 된다 . 트윈 웨이퍼 스테이지 방식 의 노광 장치 에서 는 , 예 를 들 어 각각 전술 과 동일 한 배치 로 헤드 ( 도 3 , 도 8 및 도 9 ) 가 형성 됨 과 함께 , 일방 의 웨이퍼 스테이지 에 탑재 된 웨이퍼 의 노광 동작 이 종료 되 면 , 그 일방 의 웨이퍼 스테이지 와 의 교환 에 의해 , 계측 위치 에서 마크 검출 등 이 실시 된 다음 의 웨이퍼 를 탑재 하 는 타방 의 웨이퍼 스테이지 가 노광 위치 에 배치 된다 . 또한 , 노광 동작 과 병행 하 여 실시 되 는 계측 동작 은 , 얼라이먼트 계 에 의한 웨이퍼 등 의 마크 검출 에 한정 되 지 않 고 , 그 대신 에 , 혹은 그것 과 조합 하 여 , 웨이퍼 의 면 정보 ( 단차 ( 段 差 ) 정보 등 ) 의 검출 을 실시 해도 된다 .