한편 , 포토 리소그래피 용 조성물 인 포토레지스트 및 반사 방지 막 등 의 고분자 화합물 을 제조 할 때 에 는 , 고분자 화합물 및 / 또는 고분자 화합물 용액 중 에 유리 산 이나 겔 입자 가 잔존 또는 발생 하 는 경우 가 있 다 . 이 들 의 인자 는 , 포토레지스트 나 반사 방지 막 , 그 밖 의 전자 재료 , 예 를 들 면 하드 마스크 코팅 , 층간 코팅 및 필 레이어 코팅 의 불량 요인 이 될 수 있 다 .