앞서 언급 된 방법 은 , 윤곽 , CD 또는 에지 배치 오차 ( EPE ) 가 상이 한 디 포커스 조건 들 에서 의 에어리얼 이미지 로부터 추출 되 는 도 3 의 흐름 도 에 의해 예시 된다 . 도 3 을 참조 하 면 , 공정 의 제 1 단계 ( 단계 40 ) 는 시뮬레이션 될 타 겟 패턴 또는 마스크 패턴 및 이용 될 공정 조건 들 을 확인 하 는 것 이 다 . 제 2 단계 ( 단계 42 ) 는 앞선 수학식 3 에 따라 공칭 이미지 I 0 및 M 개 의 디 포커스 이미지 들 { Il } 을 생성 하 는 것 이 다 . 그 후 , " 수학식 9 를 이용 하 여 미분 이미지 들 "" a "" 및 "" b "" 이 생성 된다 ( 단계 43 ) . 다음 단계 ( 단계 44 ) 는 수학식 4 를 이용 하 여 디 포커스 이미지 ", 즉 I 0 , ( f 에 의해 스케일링 된 ) a 및 ( f 2 에 의해 스케일링 된 ) b 의 합성 ( synthesis ) 을 생성 하 는 단계 를 수반 한다 . 그 다음 , 윤곽 들 이 추출 되 며 , 시뮬레이션 된 이미지 로부터 CD 또는 피처 EPE 가 결정 된다 ( 단계 46 ) . 그 후 , 공정 은 충분 한 적용 범위 가 존재 하 는지 의 여부 ( 예 를 들 어 , 공정 윈도우 의 경계 를 결정 할 수 있 는지 ) 를 결정 하 기 위해 단계 48 로 진행 하 며 , 대답 이 아니 오 인 경우 에 공정 은 단계 44 로 되돌아가 고 앞선 공정 을 반복 한다 . 충분 한 적용 범위 가 존재 하 는 경우 , 공정 이 완료 된다 .