제 4 목적 은 마이크 로 리소그래피 용 투사 노광 장치 용 조명 광학 기기 의 다중 미러 어레이 ( MMA ) 의 동질 성 조명 을 위해 도입부 에 서술 된 광학 시스템 에 의해 이루어진다 . 이 경우 에 본 발명 에 따르 는 광학 시스템 은 광원 에서 다중 미러 어레이 ( MMA ) 로 의 조명 광 방향 및 분산 을 갖 는 조명 광선 다발 을 가지 며 , 광학 시스템 뒤 의 조명 광 방향 에서 조명 광선 다발 의 분산 은 광학 시스템 앞 의 조명 광선 다발 의 분산 의 5 배 보다 적 다 .