더 나아가 도 8 에 도시 된 것 과 같이 , 미러 ( 111 ) 가 형성 된 구 동체 ( 110 ) 의 끝단 ( 특히 , 회동 중심 에서 가장 멀리 떨어져 있 는 부분 ) 에 인접 한 고 정체 ( 120 ) 의 부분 에 플랩 부 ( 170 ) 를 형성 함 으로써 수직 적 간접 유동 ( Qvr , Qvl ) 을 원활 하 게 할 수 있 다 . 구체 적 으로 는 플랩 부 ( 170 ) 는 플랩 지지 점 ( 172 ) 을 중심 으로 회동 할 수 있 게 형성 된 플랩 ( 171 ) 및 상기 플랩 ( 171 ) 을 구동 시키 는 플랩 구동 부 ( 173 ) 를 포함 한다 . 플랩 구동 부 ( 173 ) 는 고정 전극 과 구동 전극 에 의하 여 발생 하 는 정전기력 으로 작동 하 는 것 이 바람직 한데 , 구동 방식 자체 는 미러 구동 부 ( 140 ) 와 동일 하 게 만들 수 있 으므로 자세 한 설명 은 생략 하 도록 한다 . 플랩 부 ( 170 ) 는 별도 로 제작 하 여 부착 할 수 도 있 지만 , SOI 웨이퍼 의 미세 공정 ( microfabrication ) 을 이용 하 여 광 스캐너 소자 ( 100 ) 의 구 동체 ( 110 ) 와 고 정체 ( 120 ) 를 제작 하 는 과정 에서 일체 로 제작 함 으로써 비용 을 낮출 수 있 다 . 플랩 부 ( 170 ) 는 도 8 ( b ) 에 도시 된 바 와 같이 좌우 각각 2 개 이상 씩 으로 분할 하 여 실시 할 수 있 다 .