이 들 특징 은 , 추가 간섭계 MZI 2 는 기준 아암 에 있 는 열 광학 적 위상 변 이 기 를 갖 는 제 1 센서 에 내포 되 고 MZI 2 는 열 광학 적 위상 변 이 기 의 구동 신호 로 제어 되 는 가변 광학 감쇠기 ( VOA ) 로서 작용 한다는 기술 적 효과 를 포함 한다 . 이 VOA 는 제 1 간섭 측정 센서 의 기준 아암 에서 신호 세기 를 제어 한다 . 제 1 간섭 측정 센서 의 기준 아암 에 있 는 추가 의 열 광학 적 변 이 기 는 그 기준 아암 에서 빔 의 위상 을 제어 할 수 있 다 . 그러므로 , 간섭계 MZI 1 의 기준 아암 에서 장 의 위상 과 진폭 을 제어 하 는 것 이 가능 하 고 , 그래서 MZI 1 는 원 하 는 작업 지점 에서 전기 신호 에 의해 균형 잡히 고 바이어스 될 수 있 다 . 그러므로 , 가장 근접 한 종래 기술 인 XP 01 1552586 에 대해 해결 되 어야 할 문제 는 , 간섭 측정 센서 의 균형 과 바이어스 를 제어 하 는 것 이 다 . 본 발명 에 따라 제안 된 장치 덕분 에 제공 되 는 해결책 은 , " 간섭 측정 센서 의 바이어스 점 을 제어 하 기 위한 기준 아암 에 있 는 VOA 및 위상 변 이 기 는 여기 서 참조 되 는 JIANGHAI WO 등 의 XP 001572448 "" 조정 가능 한 ODL "" 및 도 1 의 감소기 및 관련 텍스트 에 그래도 개시 되 어 있 다는 점 에서 주목 할 만 하 다 . 그러나 후자 의 문헌 은 열 광학 적 위상 변 이 기 를 포함 하 는 조정 가능 한 ODL 및 추가 의 열 광학 적 요소 를 포함 하 는 Mach - Zehnder 간섭계 로 만들 어 진 감쇠기 를 개시 하 고 있 지 않 다 . 따라서 이 문헌 은 기술 적 문제 에 대한 해결책 을 그래도 개시 하 지만 ", 위 에서 언급 된 본 발명 의 주요 실시 형태 의 부족 한 특징 적 요소 는 없 다 . 사실 , 참조 되 는 가장 근접 한 종래 기술 인 XP 01 1552586 의 평면형 기술 과 는 달리 , XP 001572448 의 간섭계 는 광섬유 에 기반 한다 . 따라서 , 이 추가 문헌 의 조정 가능 한 지연 및 감쇠기 를 참조 되 는 상기 가장 근접 한 종래 기술 의 평평 한 도파 로 센서 에 어떻게 구현 할지 에 대해서 는 제시 되 어 있 지 않 다 . 열 광학 적 요소 를 포함 하 는 평면형 도파 로 기술 에서 위상 변 이 기 를 구현 하 는 것 은 , 열 광학 적 요소 를 포함 하 는 Mach - Zehnder 구성 으로 있 는 가변 광학 감쇠기 와 함께 , XP 55414114 에 의해 개시 되 어 있 고 , 이 는 그 의 인용 된 통로 이 다 . 결론 적 으로 , 본 발명 에 도달 하 기 위해서 는 , 상기 가장 근접 한 종래 기술 인 XP 01 1552586 에서 , XP 55414114 의 평면형 도파 로 기술 로 얻 어 지 는 이 추가 문헌 의 광섬유 요소 의 기능 을 구현 해야 한다 .