플라 즈 마 증대 화학 기상 증착 방법 의 문제점 을 개선 하 기 위하 여 , 고밀 도 플 라즈 마 ( high density plasma ; HPD ) 를 이용 한 화학 기상 증착 방법 ( HDP - CVD ) 이 개발 되 었 다 . 고밀 도 플 라즈 마 화학 기상 증착 방법 에 따르 면 , 박막 의 증착 공정 중 에 스퍼터링 ( sputtering ) 에 의한 식각 이 동시 에 발생 하 기 때문 에 높 은 종횡비 를 가지 는 갭 ( gap ) 내 에 보이 드 없이 효과 적 으로 박막 을 형성 할 수 있 다 .