표 2 에 나타내 는 결과 로부터 , 실시 예 3 ∼ 4 의 표면 처리 제 는 , 비 교예 2 ∼ 3 의 표면 처리 제 에 비하 여 , Cu 기판 및 Co 기판 의 접촉각 이 향상 되 고 , SiO 2 막 기판 및 Al 2 O 3 막 기판 의 접촉각 이 저하 되 어 있 는 것 을 알 수 있 다 . 따라서 , 실시 예 3 ∼ 4 의 표면 처리 제 를 사용 한 편 이 , ALD 법 을 사용 한 기판 표면 의 영역 선택 적 인 제막 에 바람직 하 게 적용 할 수 있 다고 말 할 수 있 다 .