더욱 단파장 화 에 의한 고 해상력 을 실현 하 기 위해서 , 157 nm 의 파장 을 갖 는 F 2 엑 시머 레이저 를 광원 으로 사용 하 는 노광 장치 가 검토 되 고 있 다 . 그러나 , 노광 장치 에 사용 되 는 렌즈 재료 및 레지스 트 재료 는 극히 제한 되 기 때문 에 , 장치 또는 재료 의 제조 비용 을 안정 화 시키 거나 또는 그 품질 을 안정 화 시키 는 것 은 매우 곤란 하 다 . 따라서 , 소요 기간 내 에 충분 한 성능 과 안정 성 을 갖 는 노광 장치 및 레지스 트 를 제공 할 수 없 을 가능 성 이 있 다 .