간섭계 리소그래피 시스템 ( 200 ) 에서 경로 길이 들 을 동일 하 게 하 기 위해서 , 경로 a 및 b 에 빔 폭 조정 시스템 들 ( 218 A 및 218 B ) 이 각각 삽입 될 수 있 다 . 빔 들 ( 206 A 및 206 B ) 이 노광 필드 ( 214 ) 의 전체 폭 을 가로질러 상호 간 에 공간 적 · 일시 적 간섭 성 을 보장 하 기 위해 , 이 들 이 노광 필드 ( 214 ) 에 도달 할 때 , 빔 들 ( 206 A 및 206 B ) 의 경로 길이 들 이 실질 적 으로 일치 하 도록 , 빔 폭 조정 시스템 들 ( 218 A 및 218 B ) 은 각각 빔 들 ( 206 A 및 206 B ) 의 빔 폭 들 을 조정 하 도록 구성 된다 . 빔 폭 조정 시스템 들 ( 218 A 및 218 B ) 에 관한 더 많 은 정보 는 , 전문 이 본 명세서 에서 인용 참조 되 는 , " 예 를 들 어 "" Interferometric Lithography System and Method Used To Generate Equal Path Lengths Of Interfering Beams "" 이 라는 제목 으로 2005 년 12 월 29 일 에 출원 된 미국 공개 특허 출원 2007 / 0153250 호 를 참조 한다 . "