도 8 을 참조 하 면 , 각각 1 : 3 희석 ( 도 8 의 ( a ) ) , 1 : 2 희석 ( 도 8 의 ( b ) ) 된 용액 을 약 5 , 000 rpm 으로 약 20 초 동안 회전 도포 하 고 , 질소 분위기 에서 약 150 ℃ 로 약 3 분 간 열처리 하 여 물 ( H 2 O ) 200 ml , 질산 ( HNO 3 ) 10 ml , 플루오르화 수소 ( HF ) 40 ml 의 혼합액 에서 화학 적 식각 한 결과 이 며 , 상대 적 으로 더 조밀 하 고 작 은 크기 의 은 입자 가 형성 되 었 던 1 : 3 희석 의 경우 가 더 미세 하 고 짧 은 주기 의 실리콘 무 반사 나노 구조 를 형성 한다는 것 을 알 수 있 다 .