다음 으로 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 를 다시 + Y 방향 으로 이동 시키 면서 포커스 매핑 을 속행 한다 . 이 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 + Y 방향 의 이동 중 에 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , Y 리니어 인코더 ( 70 E 1 , 70 F 1 ) 에 의해 계측 되 는 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 Y 위치 에 따라 , 주변 노광 유닛 ( 51 ) 의 2 개 의 가변 성형 마스크 ( VM 1 , VM 2 ) 를 구성 하 는 각 마이크 로 미러 ( Mij ) 의 온 · 오프 를 개별 적 으로 제어 함 으로써 , 도 25 ( F ) 에 도시 된 바 와 같이 , 주변 노광 영역 ( S 1 a 및 S 7 a ) 을 순차 노광 한다 . 이 경우 에 도 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 주변 노광 유닛 ( 51 ) 을 사용 하 여 각 주변 노광 영역 을 전면 적 으로 노광 해도 되 고 , 소정 의 패턴 을 형성 해도 된다 . 이 로써 , 웨이퍼 ( W ) 의 주변 노광 이 종료 되 고 , 도 26 에 도시 된 바 와 같이 , 주변 노광 영역 ( S 1 a , S 7 a , S 8 a , S 16 a , S 17 a , S 27 a , S 50 a , S 60 a , S 61 a , S 69 a , S 70 a , S 76 a ) 은 각각 노광 이 완료 된 영역 이 된다 .