본 발명 은 전도체 로 이루어진 대형 박판 가공 시 공구 에 의하 여 가공물 에 발생 하 는 진동 을 감쇠 시킬 수 있 는 전자기 감쇠 장치 에 관한 것 으로 , 공작물 의 진동 에 의하 여 전도체 공작물 에 대한 자기 적 인 척력 으로 진동 의 감쇠 를 강제 할 수 있 도록 극성 의 발현 부위 가 상호 근접 하 여 대칭 적 으로 형성 되 고 , 상기 각 극성 발현 부위 의 사이 로 전도체 공작물 이 위치 하 도록 공작물 의 상부 하부 또는 상 하부 모두 에 설치 되 는 전자석 및 영구 자석 을 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .