이 와 같 은 다양 한 종류 의 화학 기상 증착 방법 에 사용 되 는 반도체 제조 설비 는 생산 성 을 높이 기 위해 챔버 내부 에서 유발 되 는 반응 부산물 을 진공 상태 에서 플라 즈 마 반응 으로 세정 하 는 인시 츄 세정 공정 이 주로 이루어지 고 있 다 . 따라서 , 상기 챔버 와 연결 되 는 가스 공급 라인 을 통해 복수 의 반응 가스 ( process gas ) 와 함께 세정 가스 ( cleaning gas ) 가 상기 챔버 내부 에 교번 하 여 공급 된다 . 이때 , 반도체 제조 설비 는 복수 개 의 밸브 에 의해 상기 반응 가스 와 상기 세정 가스 의 유동 이 단속 되 도록 형성 되 어 있 다 .