또한 본 제 4 실시 형태 의 노광 장치 ( 1000 ) 에서 는 , 도 45 에 도시 된 바 와 같이 , 전술 한 2 D 헤드 ( 1661 , 1662 ) 상호 간 에 , X 축 방향 으로 연장 되 는 주변 노광 용 액티브 마스크 ( 51 a ) 를 갖 는 주변 노광 유닛 ( 51 ) ( 도 8 참조 ) 이 배치 되 어 있 다 . 주변 노광 유닛 ( 51 ) 은 , 도시 가 생략 된 메인 프레임 의 하면 에 도시 가 생략 된 지지 부재 를 통해 매달린 상태 로 지지 되 어 있 다 . 이 주변 노광 유닛 ( 51 ) 에서 는 , 주변 노광 용 액티브 마스크 의 1 쌍 의 가변 성형 마스크 ( VM 1 , VM 2 ) 를 구성 하 는 각 마이크 로 미러 를 ON 상태 와 OFF 상태 로 전환 함 으로써 , 주변 노광 유닛 ( 51 ) 의 하방 에 위치 하 는 웨이퍼 ( W 1 ) ( 또는 W 2 ) 상 의 주변 쇼트 의 임의 의 영역 을 노광 할 수 있 다 . 또한 , 주변 노광 유닛 ( 51 ) 의 주변 노광 용 액티브 마스크 ( 51 a ) 를 X 방향 으로 연장 되 는 단일 가변 성형 마스크 에 의해 구성 해도 된다 . 또한 , 광원 으로부터 의 광 대신 에 , 예 를 들 어 광 파이버 를 사용 하 여 조명 광 ( IL ) 을 주변 노광 용 액티브 마스크 로 유도 해도 된다 .