기판 으로부터 오염물 입자 를 세정 하 기 위한 방법 및 장치 가 본 명세서 에 개시 된다 . 방법 은 세정 될 기판 의 표면 에 대한 세정 재료 의 도포 를 포함 한다 . 세정 재료 는 기판 상 의 오염물 입자 를 포집 하 도록 정의 된다 . 린스 유체 가 기판 표면 에 도포 되 어 , 세정 재료 내 에 트랩 된 오염물 입자 와 함께 세정 재료 를 제거 한다 . 린스 유체 의 유동 속도 는 , 린스 유체 로부터 세정 재료 로 의 운동량 전달 이 세정 재료 로 하여금 탄성 방식 으로 작용 하 게 하 도록 충분히 높 은 속도 로 제어 된다 . 탄성 방식 의 세정 재료 의 작용 은 세정 재료 내 에 포집 된 오염물 입자 로 하여금 린스 유체 에 의해 충격 을 받 는 동안 세정 재료 와 함께 기판 표면 으로부터 포집 및 제거 되 게 한다 .