한편 , 도 2 에 는 모재 ( 11 ) 의 표면 ( 12 ) 중 에서 상 측면 에 만 알루미늄 증착 층 ( 20 ) 이 적층 된 것 으로 도시 되 어 있 으나 , 필요 하 다면 상기 모재 ( 11 ) 의 위아래 를 뒤집 어서 상기 증착 챔버 내 에서 순수 알루미늄 의 물리 적 기상 증착 ( PVD ) 작업 을 추가 로 진행 함 으로써 상기 모재 ( 11 ) 의 하 측면 에 도 알루미늄 증착 층 ( 20 ) 을 적층 할 수 있 다 . 상기 알루미늄 증착 층 ( 20 ) 은 물리 적 기상 증착 ( PVD ) 에 의해 적층 되 어 조직 이 치밀 하 며 , 순수 알루미늄 으로 이루어져서 이후 의 단계 ( S 30 ) 에서 질 좋 은 무공 질 양극 산화층 ( 25 ) ( 도 3 참조 ) 의 형성 을 촉진 한다 .