본 발명 에서 는 정공 수송 층 ( 111 ) 을 형성 하 는 재료 로서 , TPD ( 트리 페닐 디아민 , triphenyl - diamine ) , NPD ( N , N '- dinaphthyl - N , N '- diphenyl benzidine ) 또는 정공 이 주입 되 었 을 때 생성 되 는 양이온 라디칼 을 안정 화 시킬 수 있 는 방향 족 아민 을 사용 함 이 바람직 하 다 .