본 발명 의 실시 예 에 따른 반도체 소자 의 세정 장치 는 세정 탱크 ( 10 ) , 보트 ( 20 ) , 제 1 순환 라인 ( 40 ) , 펌프 ( 70 ) , 필터 ( 80 ) , 제 1 밸브 ( 90 ) , 제 2 순환 라인 ( 50 ) , 제 2 밸브 ( 60 ) , 노즐 ( 95 ) , 양극 성 금속 ( 15 ) 을 포함 하 여 구성 되 고 , 상기 보트 ( 20 ) 에 는 웨이퍼 상태 의 반도체 소자 ( 30 ) 가 수납 된다 .