그러나 , 통상 적 인 광학 리소그래피 ( photolithography ) 방법 으로 는 100 nm 이하 의 주기 를 갖 는 선격 자 패턴 을 형성 하 는 것 은 매우 어려운 실정 이 다 . 예 를 들 어 , ArF 레이저 또는 F 2 레이저 등 의 광원 을 사용 한다고 하 더라도 70 nm 이하 의 선폭 을 갖 는 패턴 은 제조 하 기 가 사실 상 불 가능 하 다 ( 100 nm 격자 주기 를 가지 기 위해서 는 격자 의 선폭 이 50 nm 가 되 어야 한다 ) .