예 를 들 어 , 약 225 ㎛ 까지 또는 그 초과 의 범위 의 평균 두께 를 지니 는 두꺼운 이트륨 옥사이드 코팅 을 형성 시킬 수 있 는 놀라운 능력 은 , 형성 되 는 이트륨 옥사이드 결정 의 특정 화 된 결정립 경계 구조 에 기인 될 수 있 는데 , 이 는 이러 한 구조 가 산화 공정 이 계속 됨 에 따라서 산소 투과 를 위한 채널 을 제공 하 기 때문 이 다 . 표면 으로부터 옥사이드 와 금속 사이 의 계면 으로 의 산소 의 두 종류 의 확산 방법 이 있 다 . 하나 는 결정립 경계 확산 이 며 , 다른 하나 는 결정립 확산 ( 격자 / 공극 ) 이 다 . 미량 원소 를 이트륨 금속 내 로 도핑 시킴 으로써 , 또는 열 적 산화 공정 대기 중 의 산소 분압 을 조절 함 으로써 , 우선 적 인 확산 방법 이 제어 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 고순 도 이트륨 금속 내로 의 미량 원소 의 도핑 을 통해 , 결정립 경계 확산 은 더 신속 한 산소 확산 경로 로 조절 될 수 있 으며 , 이트륨 금속 기판 상 에 소정 의 바람직 한 이트륨 옥사이드 ( 이트리아 ) 층 두께 가 얻 어 질 수 있 으며 , 여기 서 , 그러 한 두께 는 기본 적 으로 는 열 적 산화 시간 에 좌우 된다 . 결정립 경계 확산 에 비해서 , 결정립 확산 ( 격자 / 공극 ) 이트륨 옥사이드 성장 속도 는 느리 다 . 그러나 , 결정립 확산 속도 ( 공극 확산 ) 는 , 이트리아 층 에서 의 더 많 은 산소 공간 의 형성 을 유도 하 는 , 열 적 산화 대기 중 의 산소 분압 을 최적 화 시킴 으로써 개선 될 수 있 다 .