원통 ( 11 ) 의 표면 에 노광 되 는 에너지 분포 및 패턴 형상 을 살펴보 면 도 1 의 본 실시 예 를 사용 할 경우 도 6 에 도시 된 바 와 같이 에너지 분포 및 패턴 의 형상 은 일정 하 다 . 그러나 평면 페이즈 마스크 장치 를 사용 한 경우 도 7 과 같이 에너지 분포 및 패턴 의 형상 은 원통 의 표면 에 따라 그 패턴 의 형상 이 달라진다 . 또한 , 도 1 의 실시 예 를 통과 하 여 형성 되 는 빔 의 패턴 은 도 4 와 같 다 . 그래서 노광 면 에 형성 되 는 패턴 은 일정 하 다 . 그러나 평면 페이즈 마스크 장치 를 통과 하 여 형성 되 는 원통 의 표면 에 형성 되 는 패턴 은 도 5 와 같 다 . 즉 도 4 의 경우 원통 면 에 는 일정 한 패턴 이 형성 되 지만 도 5 의 경우 원통 면 에 는 그 패턴 이 일정 하 게 형성 되 지 가 아니한다 .