04 / 19 포항 2 사 포스 텍 이진원 교수 팀 , 10 ㎚ 급 오염 물질 제거 하 
 반도체 나 나노 기술 의 성패 를 좌우 할 미세 오염 물질 을 제거 할 수 있 는 기술 을 포스 텍 연구 진이 세계 최초 로 개발 했 다 . 
 포스 텍 은 19 일 기계 공학 과 이진원 교수 연구 팀 은 나노 탄환 입자 를 초고 속 으로 오염 입자 에 충돌 시키 는 획기 적 인 방법 으로 10 나노미터 ( ㎚) 크기 오염 물질 을 완벽 하 게 제거 하 는 기술 을 개발 했 다고 밝혔 다 . 
 교육 과 학기 술부 와 한국연구재단 이 추진 하 는 ‘ 중견 연구자 지원 사업 ’ 의 지원 을 받 아 수행 된 이번 연구 결과 는 나노 기술 분야 권위지 ‘ 나노 스케일 연구 ( Nanoscale Research Letters ) ’ 최신 온라인 판 에 게재 됐 다 . 
 세계 적 으로 나노 오염 물질 제거 에 성공 한 입자 는 30 ㎚ 에 불과 하 다 . 이 에 따라 선진국 들 이 치열 한 경쟁 을 벌이 고 있 는 10 ㎚ 급 반도체 생산 에 필수 적 인 기술 이 될 것 으로 기대 되 고 있 다 . 
 반도체 의 크기 는 그대로 유지 하 며 저장 용량 을 늘리 기 위해 내부 회로 선폭 이 가늘 어 지 면 오염 입자 의 크기 도 동시 에 작아지 게 된다 . 입자 크기 가 작 아 질수록 제거 하 기 가 어려워져 반도체 성능 에 도 영향 을 미치 게 된다 . 
 특히 우표 만 한 크기 에 최신 반도체 의 3 배 의 기억 용량 을 가지 고 고화질 영화 를 100 편 가량 담 을 수 있 을 것 으로 기대 를 모으 는 10 나노 급 반도체 의 경우 , 아직 까지 10 nm 수준 의 오염 입자 를 제거 할 수 있 는 기술 이 개발 되 지 않 아 양산 에 걸림돌 이 되 고 있 었 다 . 
 연구 팀 은 지난 2010 년 저온 입자 빔 기술 을 이용 해 20 ㎚ 급 오염 제거 기술 을 개발 한 바 있 다 . 하지만 이번 기술 은 상온 에서 도 사용 할 수 있 는 입자 빔 기술 로 , 실용 성 과 산업 화 가능 성 을 높였 다 . 
 또 이 기술 을 이용 해 오염 제거 설비 를 제품 화 해 새로운 산업 을 창출 하 는 효과 도 기대 할 수 있 으며 , 생체 재료 의 제거 와 조직 처리 를 위한 기술 로 도 응용 이 가능 해 , 나노 기술 뿐 아니 라 다양 한 생체 조직 이용 기술 분야 로 도 활용 할 수 있 다 . 
 이진원 교수 는 “ 나노 급 반도체 는 물론 이 고 나노 크기 장치 의 생산 성 을 좌우 하 는 나노 오염 제 어 기술 이 완성 돼 나노 기술 응용 제품 생산 성 이 획기적으로 향상 될 것 ” 이 라며 “ 향후 생체 공학 , 재료 가공 등 다양 한 나노 가공 공정 에 응용 할 수 있 다 ” 고 말 했 다 .