제 1 필터 스택 ( 206 ) 의 예시 적 인 어셈블리 는 제 1 선형 편광기 및 ( 도 3 과 관련 하 여 상세히 도시 되 는 ) 어셈블리 내 의 제 1 1 / 4 파장판 에 코팅 으로서 적용 된 빔 스플리터 층 을 포함 할 수 있 다 . 제 1 필터 스택 ( 206 ) 은 이미지 - 투영 디바이스 로부터 수신 된 광 을 필터링 ( 예 를 들 어 , 편광 에 기초 하 여 광 을 선택 적 으로 투과 ) 하 도록 동작 가능 할 수 있 다 . 일부 구현 들 에서 , 1 / 4 파장판 은 사용 되 는 광 의 파장 과 무관 하 게 일정 한 위상 시프트 를 제공 하 기 위해 광대 역 에서 잘 기능 하 도록 설계 될 수 있 다 . 이 파장 독립성 은 2 개 의 상이 한 복굴절 결정질 재료 들 을 사용 함 으로써 달성 될 수 있 다 . 파장 범위 ( 즉 , 분산 ) 에 걸친 위상차 의 상대 적 이동 은 사용 된 두 재료 들 사이 에서 균형 을 이룰 수 있 다 . 제 2 필터 스택 ( 208 ) 은 1 / 4 파장판 , 편광 빔 스플리터 ( 예 를 들 어 , 편광 민감 성 빔 스플리터 ) , 및 ( 도 3 과 관련 하 여 상세 하 게 도시 된 ) 어셈블리 내 의 선형 편광기 를 포함 할 수 있 다 . 제 2 필터 스택 ( 208 ) 은 적외선 필터 ( 316 ) 를 사용 하 여 광 경로 를 접 도록 동작 가능 할 수 있 다 .