퍼징 하 며 가열 된 상기 ALD 반응 챔버 에 제 1 반응 가스 를 주입 할 수 있 다 . 상기 제 1 반응 가스 는 TiCl 4 가스 및 Ar 가스 로 이루어질 수 있 다 . 상기 반응 챔버 내부 에 고주파 발생기 ( RF generator ) 를 이용 한 고주파 방전 을 가하 여 , 제 1 플 라즈 마 를 발생 시킴 으로써 ALD 단위 반응 ( S 213 ) 의 제 1 단계 ( S 213 a ) 를 수행 할 수 있 다 . 상기 제 1 단계 ( S 213 a ) 는 0 . 1 초 내지 20 초 동안 실시 할 수 있 다 . 다른 방법 으로 , 상기 ALD 반응 챔버 에 TiCl 4 가스 , H 2 가스 , 및 Ar 가스 를 공급 하 며 고주파 방전 을 가함 으로써 상기 제 1 단계 ( S 213 a ) 를 수행 할 수 있 다 .