실시 예 9 . 실시 예 8 에 있 어서 , 상기 배리 어 층 을 퇴적 하 는 단계 는 , 상기 트렌치 의 상부 부분 에서 의 상기 유전체 층 의 제 1 부분 바로 상 에 상기 배리 어 층 을 퇴적 하 는 단계 를 포함 하 며 , 상기 트렌치 의 하부 부분 에서 의 상기 유전체 층 의 제 2 부분 에 는 상기 배리어 층 이 없 는 것 인 , 반도체 디바이스 구조물 을 형성 하 는 방법 .