현대식 UV - 리소그래피 는 새로운 평행 기록 개념 ( parallel writing concept ) 을 찾 고 있 다 . 광학 MEMS 장치 를 포함 하 는 공간 광 변조기 는 이러 한 가능 성 을 제공 한다 . SLM 칩 은 상부 에 수백만 개 의 개별 적 으로 어드레스 설정 가능 한 픽셀 을 포함 하 는 , DRAM - 형 CMOS 회로 를 포함 할 수 있 다 . 거울 소자 및 어 드레스 전극 사이 의 정전기 적 힘 의 차이 에 기인 하 여 , 픽셀 이 편향 된다 . SLM 을 사용 하 는 패턴 발생기 가 미국 특허 ( US 6 373 619 ) 에 설명 되 며 , 이 는 이 발명 과 동일 한 양수인 에게 양도 되 었 다 . 미국 특허 ( US 6 373 619 ) 는 요약 하 면 , SLM 의 일련 의 이미지 를 노출 하 는 소형 필드 스 테퍼 ( a small field stepper ) 를 게시 한다 . 워크 피스 ( workpiece ) 가 스테이지 상 에 배열 되 고 , 이 는 지속 적 으로 움직이 며 , 펄스 화 된 전자기 방사 소스 ( 이 는 펄스 화 된 레이저 , 플래시 램프 , 싱크로트론 광원 으로부터 발생 한 동기 화 플래시 등 이 다 ) 가 워크 피스 상의 SLM 의 이미지 를 번쩍이 게 ( flash ) 하 거나 고정 되 게 한다 . SLM 은 , 각각 의 번쩍이 는 , 지속 적 인 이미지 가 워크 피스 상 에 구성 되 기 전 에 , 새로운 패 턴 으로 재 프로그램 된다 .