처리 액 공급 용 샤워 파이프 로부터 공급 된 처리 액 은 기판 W 의 외주 면 을 따라 흐르 고 , 이 외주 면 의 하단 에지 로부터 기판 W 의 하면 에 들어가 려고 한다 . 그러나 , 기판 W 의 하 면 주변 부 와 상부 측 벽부 ( 5 ) 의 비 접촉면 ( 25 ) 사이 에 형성 된 간극 G 에 는 가압 기체 가 공급 되 고 , 이 가압 기체 는 상기 간극 G 가 개방 된 외주 에지 로부터 외부 를 향해 유출 되 므로 , 그 가압 기체 의 흐름 에 의해 기판 W 의 외주 면 을 따라 흘러 온 처리 액 이 기판 W 의 하 면 측 으로 들어가 는 것 이 저지 된다 .