본 발명 의 에칭 액 조성물 은 , ( B ) 황산 ( 이하 , 「 ( B ) 성분 」 이 라고 도 기재 함 ) 을 함유 한다 . 에칭 액 조성물 중 의 ( B ) 성분 의 농도 는 , 1 내지 40 질량 ％ 의 범위 이 다 . ( B ) 성분 의 농도 가 1 질량 ％ 미만 이 면 , 에칭 속도 가 너무 느려져 버려 , 생산 성 이 저하 된다 . 한편 , ( B ) 성분 의 농도 가 40 질량 ％ 초과 이 면 , 에칭 속도 가 너무 빨라져 버려 , 에칭 속도 를 제어 하 는 것 이 곤란 해 지 거나 , 또는 피 에 칭 체 주변 의 부재 나 레지스 트 등 을 열화 시켜 버리 는 경우 가 있 다 . ( B ) 성분 의 농도 는 , 바람직 하 게 는 5 내지 30 질량 ％ 의 범위 이 며 , 보다 바람직 하 게 는 10 내지 25 질량 ％ 의 범위 이 다 .