반도체 장치 ( 디바이스 ) 의 제조 공정 에서 는 기판 처리 프로세스 의 효율 화 를 도모 하 기 위해 , 복수 의 기판 을 하나 의 단위 ( 로트 ) 로서 취급 할 것 이 있 다 . 기판 처리 프로세스 를 실행 하 는 기판 처리 장치 에 대해서 는 그 기판 처리 프로세스 를 수행 하 는 처리 공간 ( 처리 실 ) 에 대하 여 스루풋 을 손상 하 지 않 으면서 메인 터 넌 스 처리 를 수행 하 는 기술 이 알려져 있 다 ( 예컨대 특허 문헌 1 참조 ) .