본 발명 은 가스 처리 장치 에 관한 것 으로서 리플 로우 장치 ( 100 ) 은 기판 ( G ) 를 반송 하 는 반송 로 ( 2 ) 와 반송로 ( 2 ) 의 윗 쪽 에 설치 되 고 복수 의 처리 가스 토출구 ( 11 ) 및 흡 인구 ( 12 ) 가 형성 되 고 반송로 ( 2 ) 와 대향 하 는 기준면 ( 10 a ) 를 갖 고 , 반송로 ( 2 ) 를 반송 되 고 있 는 기판 ( G ) 에 처리 가스 를 공급 하 고 , 또한 반송로 ( 2 ) 를 반송 되 고 있 는 기판 ( G ) 를 처리 가스 의 토출 및 흡인 에 의해 부상 시키 는 부상 부재 ( 10 ) 과 반송 로 ( 2 ) 를 따라 기판 ( G ) 를 반송 시키 는 반송 기구 ( 5 ) 와 부상 부재 ( 10 ) 의 처리 가스 의 토출 및 흡인 을 조절 해 기준면 ( 10 a ) 와 기판 ( G ) 의 거리 를 제어 하 는 제 어부 ( 25 ) 를 구비 하 는 기술 을 제공 한다 .