또한 , 상기 의 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 은 , 상기 의 하드 마스크 막 ( 4 ) 의 표면 이 포토 마스크 노광 파장 에서 5 내지 30 % 의 반사 율 이 되 도록 적층 되 는 것 이 바람직 하 다 . 상기 하드 마스크 용 블랭크 마스크 에서 는 반사 방지 막 ( 3 ) 위 에 하드 마스크 막 ( 4 ) 이 적층 되 고 그 위 에 포토레지스트 ( 5 ) 가 코팅 되 기 때문 에 하드 마스크 막 ( 4 ) 의 반사 율 이 높 으면 포토 마스크 노광 시 스탠딩 웨이브 ( Standing Wave ) 현상 이 발생 하 는 등 포토 마스크 제조 시 CD 제어 가 어려운 문제점 이 발생 하 게 된다 .