상술 한 바 와 같이 본 발명 의 제 2 실시 예 에 따른 표시 장치 는 화소 어레이 영역 에 만 형성 된 제 1 절 연막 ( 32 b ) , 및 화소 어레이 영역 밖 의 금속 기판 ( 31 ) 상 에 직접 형성 된 공급 라인 ( KL ) 을 포함 한다 . 이 에 따라 공급 라인 ( KL ) 은 금속 기판 ( 31 ) 과 접속 된다 . 이러 한 공급 라인 ( KL ) 은 금속 기판 ( 31 ) 에 의해 기생 정전 용량 이 형성 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 . 또한 본 발명 의 제 2 실시 예 에 따른 제 1 절 연막 ( 32 b ) 은 공급 라인 ( KL ) 이 형성 되 는 금속 기판 ( 31 ) 의 가장자리 를 제외 한 화소 어레이 영역 ( A ) 에 형성 됨 으로써 금속 기판 ( 31 ) 이 공급 라인 ( KL ) 과 직접 접촉 할 수 있 으므로 별도 의 마스크 공정 으로 제 1 절 연막 ( 32 b ) 을 관통 하 는 접촉 홀 을 형성 할 필요 가 없 다 . 이 에 따라 본 발명 의 제 2 실시 예 에 따른 TFT 어레이 기판 은 더욱 단순 화 된 공정 으로 제조 될 수 있 다 .