예 를 들 면 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 패턴 마스크 및 인버스 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 시스템 은 특정 화소 에서 피사체 로 투사 되 는 단일 패턴 및 인버스 단일 패턴 의 화소 값 이 문턱 치 값 이상 의 차이 가 발생 하 는 경우 , 특정 화소 를 패턴 이 투사 된 위치 에 있 는 것 으로 결정 할 수 있 다 . 이후 에 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 패턴 마스크 및 인버스 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 시스템 은 특정 화소 에서 의 단일 패턴 영상 의 화소 값 이 문턱 치 영상 의 화소 값 이상 인 경우 , 단일 패턴 의 백 색부 로 판단 하 고 , 미만 인 경우 단일 패턴 의 흑 색부 로 판단 할 수 있 다 .