액정 표시 장치 회로 또는 반도체 집적회로 와 같 은 미세 한 회로 패턴 을 형성 하 기 위해서 는 먼저 기판 상 의 절 연막 또는 도전 성 금속 막 에 포토레지스트 조성물 을 균일 하 게 코팅 또는 도포 한다 . 이어서 , 소정 형상 의 마스크 존재 하 에서 코팅 된 포토레지스트 조성물 을 노광 하 고 현상 하 여 목적 하 는 형상 의 패턴 을 만든 다 . 이후 마스크 를 사용 하 여 금속 막 또는 절 연막 을 에칭 하 고 , 잔존 하 는 포토레지스트 막 을 제거 하 여 기판 상 에 미세 회로 를 형성 시킨다 . 상기 코팅 또는 도포 과정 은 회전 도포 방식 또는 슬릿 도포 방식 이 이용 된다 .