본 출원 은 모델 - 기반 세선 접근 법 에 의한 레티 클 결함 검사 에 관한 것 으로 , 2007 년 11 월 1 일 에 출원 된 , " "" 레티 클 상 의 리소그래피 적 으로 중대 한 결함 검출 을 위한 방법 ( METHOD FOR DETECTING LITHOGRAPHICALLY SIGNIFICANT DEFECTS ON RETICLES ) "" 이 라는 제목 의 ", 미국 특허 출원 제 11 / 622 , 432 호 에 대한 일부 계속 출원 이 며 , 이 는 모든 목적 을 위해 전부 본 명세서 에 참조 로서 통합 된다 .