상기 와 같 은 과제 를 해결 하 기 위해 본 발명 은 , 이온 빔 주입 을 통한 대전 방지 처리 방법 으로서 , 대상물 에 제 1 기체 로부터 발생 된 이온 빔 을 조사 하 여 이온 빔 을 주입 하 는 이온 빔 주입 단계 ; 및 이온 빔 을 주입 한 상기 대상물 에 제 2 기체 로부터 발생 된 이온 빔 을 조사 하 여 캡 핑 층 을 형성 하 는 캡 핑 층 형성 단계 ; 를 포함 하 는 , 대전 방지 처리 방법 을 제공 한다 .