파장 ( 13 . 5 nm ) 의 극단 자외선 ( EUV ) 은 , 파장 ( 193 nm ) 의 ArF 엑 시머 레이저 와 비교 하 여 파장 이 1 / 10 이하 로 짧 기 때문 에 , EUV 리소그래피 는 높 은 빛 의 콘트 라스트 를 달성 하 고 , 이 로부터 고해 상 이 기대 된다 . EUV 는 단파장 및 고 에너지 밀도 로 인하 여 , 소량 의 포톤 에 산 발생 제 가 감광 해 버린다 . EUV 노광 에 이용 가능 한 포톤 의 수 는 ArF 노광 의 1 / 14 라고 여겨 지 고 있 다 . EUV 리소그래피 에서 는 , 포톤 수 의 변동 에 의해서 라인 패턴 의 에지 러프 니스 ( LER , LWR ) 나 홀 패턴 의 임계 치수 균일성 ( CDU ) 이 열화 되 어 버리 는 현상 이 문제 시 되 고 있 다 .