먼저 , 공정 챔버 ( 100 ) 는 , 도 2 에 도시 된 바 와 같이 , 회전 구동 수단 ( 미 도시 ) 에 의하 여 일정 각도 만 큼씩 회전 하 는 회전 디스크 ( 110 ) 상 에 다 수개 의 웨이퍼 스테이지 ( 120 a ~ 120 d ) 가 구비 된다 . 이하 에서 는 이 들 웨이퍼 스테이지 ( 120 a ~ 120 d ) 중 웨이퍼 가 인입 되 는 위치 의 웨이퍼 스테이지 를 인입 스테이지 ( 도 2 에서 120 a 에 해당 ) 라 하 고 , 이 와 인접 하 여 웨이퍼 가 인출 되 는 위치 의 웨이퍼 스테이지 를 인출 스테이지 ( 도 2 에서 120 d 에 해당 ) 라 한다 . 만약 , 웨이퍼 의 회전 방향 을 반대 로 하 는 경우 인입 스테이지 ( 120 a ) 와 인출 스테이지 ( 120 d ) 의 위치 는 바뀌 게 된다 .