이 에 본 출원 의 발명자 들 은 종래 의 pH 를 산성 으로 유지 하 기 위해 산 또는 산 의 염 등 을 사용 하 거나 , 과산화물 을 적당 한 방법 으로 물리 적 또는 화학 적 으로 보호 하 는 다양 한 방법 , 과산화물 을 담지 하 기 위한 고분자 물질 을 이용 한 안정 화 방법 등 을 연구 하 던 중 , 수용성 고분자 물질 을 이용 한 과산화물 의 안정 화 를 발명 하 게 되 었 으나 ( 한국 공개 특허 출원 번호 2003 - 0077523 호 ) , 수용성 고분자 를 이용 하 는 결과 로 수용성 제형 에 첨 가시 안정 화 에 한계 가 있 었 다 .