본 발명 의 기술 적 과제 는 상기 한 종래 의 문제점 을 해결 하 기 위한 것 으로 , 반도체 소자 의 제조 를 위한 원자 층 증착 장치 를 제공 하 는 것 이 다 . 특히 , 이 물질 의 발생 을 방지 하 면서 2 종 의 가스 를 복수 의 반도체 기판 에 안정 적 으로 주입 할 수 있 는 개선 된 노즐 구조 를 가지 는 배치 타입 의 원자 층 증착 장치 를 제공 함 에 있 다 .