이 문제 에 대한 개선책 으로 는 , 예 를 들 어 , 특허 문헌 1 에 는 , 열 연시 에 슬래브 를 1200 ℃ 이상 의 온도 에서 가열 하 고 , 고압 으로 디 스케일링 하 고 , 산세 전 에 열연 강판 의 표면 을 연마 입자 가 들 어 있 는 나일론 브러시 로 연삭 하 고 , 9 ％ 염산 조 에 2 회 침지 하 여 산세 를 실시 하 여 , 강판 표면 의 Si 농도 를 저하 시킨 고강 도 냉연 강판 이 제안 되 어 있 다 . 또 , 특허 문헌 2 에 는 , 강판 표면 으로부터 1 ∼ 10 ㎛ 에 관찰 되 는 Si 를 함유 하 는 선상 산화물 의 선폭 을 300 ㎚ 이하 로 함 으로써 내식 성 을 향상 시킨 고강 도 냉연 강판 이 제안 되 어 있 다 .