다층 오버레이 계측 타 겟 의 콘트 라스트 향상 에 적합 한 장치 가 개시 된다 . 하나 의 양태 에 있 어서 , 장치 는 , 비 제한 적 인 예 를 들 자면 , 조명원 과 ; 조명원 으로부터 방사 된 광의 적어도 일부 를 편광 시키 도록 구성 된 제 1 편광자 와 ; 제 1 편광자 에 의해 처리 된 광 의 제 1 부분 을 목표 경로 ( object path ) 를 따라 하나 이상 의 시료 ( specimen ) 의 표면 에 지향 시키 고 제 1 편광자 에 의해 처리 된 광 의 제 2 부분 을 기준 경로 를 따라 지향 시키 도록 구성 된 빔 스플리터 와 ; 1 차 ( primary ) 광축 을 따라 배치 되 고 하나 이상 의 시료 의 표면 으로부터 반사 된 광 의 일부 를 모으 도록 구성 된 검출기 와 ; 광이 검출기 의 촬상면에 도달 하 기 전 에 하나 이상 의 시료 의 표면 으로부터 반사 된 광의 적어도 일부 를 분석 하 도록 구성 된 제 2 편광자 를 포함 할 수 있 고 , 여기 에서 상기 제 1 편광자 와 제 2 편광자 는 하나 이상 의 시료 의 비 패턴 부분 으로부터 반사 되 어 검출기 에 도달 하 는 광 의 양 을 최소 화 하 도록 배열 된다 .