이렇게 , 본 발명 에 따른 라디칼 증착 장치 ( 100 ) 는 표준 신호 발생기 ( 51 ) 에서 발생 된 고정 주파수 전압 을 , 가변 신호 발생기 ( 52 ) 에서 발생 된 변조 용 주파수 전압 으로 변조 시켜 인가 하 는 것 으로 , 종래 라디칼 증착 장치 ( 예컨대 도 1 에 도시 한 장치 ) 처럼 고정 된 하나 의 고주파 전압 만 을 인가 하 는 경우 에 비하 여 막 증착 속도 를 현저 하 게 증가 시킬 수 있 다 . 종래 의 라디칼 증착 장치 에서 는 일부 조건 에서 높 은 RF 파워 를 인 가시 플라 즈 마 아 킹 으로 인해 불 균일 한 증착 이 이루어지 지만 변조 방식 을 이용 할 경우 플라 즈 마 아 킹 발생 이 안 되 어 증착 된 막 의 증착 속도 및 막 질 을 균일 하 게 증착 할 수 있 다 .