전자기 복사 광원 ( 142 ) 으로부터 전자기 복사선 ( 130 , 132 , 134 ) 의 빔 이 , 실제 SLM ( 110 ) 과 렌즈 ( 120 ) 를 거쳐 이미지 평면 ( 150 ) 을 향한다 . 도시 된 실시 예 에서 , 실제 SLM ( 110 ) 는 세 개 의 다른 조명 방향 으로부터 조명 된다 . 전 자기 복사선 ( 130 ) 의 제 1 빔 이 제 1 조명 방향 으로부터 실제 SLM ( 110 ) 을 조명 한다 . 전 자기 복사선 ( 132 ) 의 제 2 빔 이 제 2 방향 으로부터 실제 SLM ( 110 ) 을 조명 한다 . 전 자기 복사선 ( 134 ) 의 제 3 빔 이 제 3 방향 으로부터 실제 SLM ( 110 ) 을 조명 한다 . 동일 한 시간 에서 의 조명 이 3 개 의 동일 한 이미지 를 워크 피스 상 에 나란히 생성 한다 . 제 2 실시 예 에서 , 전자기 복사선 의 제 1 , 제 2 및 제 3 빔 이 연속 적 으로 실제 SLM ( 110 ) 을 조명 한다 . 실제 SLM ( 110 ) 에 부딪히 기 전 에 , 제 1 미러 ( 116 ) 에 의해 제 1 빔 이 반사 될 수 있 으며 , 실제 SLM ( 110 ) 에 의해 반사 된 후 에 , 제 2 미러 ( 118 ) 에 의해 반사 될 수 있 다 . 실제 SLM ( 110 ) 에 부딪히 기 전 에 , 제 3 빔 이 제 2 미러 ( 118 ) 에 의해 반사 될 수 있 으며 , 실제 SLM ( 110 ) 에 의해 반사 된 후 에 , 제 1 미러 ( 116 ) 에 의해 반사 될 수 있 다 . 실제 SLM ( 110 ) 의 제 1 조명 방향 이 제 1 가상 SLM 위치 ( 112 ) 로부터 시작 되 기 쉽 다 . 실제 SLM ( 110 ) 의 제 3 조명 방향 이 제 2 가상 SLM 위치 ( 114 ) 로부터 시작 된다 . 연속 적 인 조명 이 워크 피스 상 에 나란히 3 개 의 동일 한 이미지 를 생성 하 거나 하나 이상 의 동일 하 지 않 은 이미지 를 생성 할 수 있 다 . 세 개 의 동일 한 이미지 는 서로 다른 조명 방향 사이 에서 , SLM 상 에 패턴 을 변경 하 지 않 음 으로써 생성 될 수 있 다 . 하나 이상 의 동일 하 지 않 은 이미지 는 둘 이상 의 조명 방향 사이 에 SLM 상 의 패턴 을 변경 함 으로써 생성 될 수 있 다 .