필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 ( 즉 , 중량 평균 분자량 은 3 , 500 이상 100 , 000 이하 이 며 , pKa 가 3 이하 인 것 , 또는 그 의 바람직 한 양태 의 것 . 후술 하 는 습윤제 로 분류 되 는 것 을 제외 함 ) 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 0 . 01 질량 ％ 이상 인 것 이 바람직 하 다 . 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 함유량 이 이 범위 이 면 , 잔사 의 제거 효과 가 보다 향상 된다 . 이러 한 이유 는 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 가 , 표면 처리 대상물 및 양전하 대전 성 성분 을 피복 할 때 , 보다 많 은 면적 에서 피복 이 이루어지 기 때문 이 라고 추측 된다 . 또한 , 이온 성 관능기 의 수 가 증가 함 으로써 , 정전 적 인 흡착 또는 반발 효과 를 보다 강하 게 발현 시킬 수 있 기 때문 이 라고 추측 된다 . 마찬가지 관점 에서 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 0 . 03 질량 ％ 이상 인 것 이 바람직 하 고 , 0 . 05 질량 ％ 이상 인 것 이 더욱 바람직 하 고 , 0 . 1 질량 ％ 이상 인 것 이 보다 더 바람직 하 고 , 0 . 5 질량 ％ 이상 인 것 이 특히 바람직 하 다 . 또한 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 ( 즉 , 중량 평균 분자량 은 3 , 500 이상 100 , 000 이하 이 며 , pKa 가 3 이하 인 것 , 또는 그 의 바람직 한 양태 의 것 . 후술 하 는 습윤제 로 분류 되 는 것 을 제외 함 ) 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 10 질량 ％ 이하 인 것 이 바람직 하 다 . 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 함유량 이 이 범위 이 면 , 잔사 의 제거 효과 가 더 높 아 진다 . 이러 한 이유 는 , 표면 처리 공정 후 의 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 제거 성 이 보다 양호 해 지 기 때문 이 라고 추측 된다 . 마찬가지 관점 에서 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 5 질량 ％ 이하 인 것 이 보다 바람직 하 고 , 3 질량 ％ 이하 인 것 이 더욱 바람직 하 고 , 2 질량 ％ 이하 인 것 이 보다 더 바람직 하 고 , 1 질량 ％ 이하 인 것 이 특히 바람직 하 다 .