또한 , 위 에서 설명 된 바 와 같이 , 리소그래피 장치 의 적용 가능 한 기본 적 인 오버레이 기여 도 가 획득 되 며 선택 적 으로 , 적용 가능 한 에칭 공정 오버레이 기여 가 획득 된다 . 그 후 , 리소그래피 장치 의 적용 가능 한 기본 적 인 오버레이 기여 도 ( 및 선택 적 에칭 공정 오버레이 기여 도 ) 는 , 도 9 와 관련 하 여 위 에서 설명 한 것 과 유사 하 게 , 관심 대상 기판 의 하나 이상 의 특정 오버레이 기여 도 와 조합 되 어 관심 대상 기판 에 대한 추정 된 오버레이 핑거 프린트 를 획득 한다 . 따라서 , 오버레이 의 추정 은 임의 의 기판 상 의 거의 모든 위치 에서 결정 될 수 있 다 .