상기 가열 처리 에 사용 되 는 가열 처리 장치 는 , 특별히 한정 되 지 않 고 , 저항 발열체 등 의 발열체 로부터 의 열 전도 또는 열 복사 에 의하 여 피 처리 물 을 가열 하 는 장치 를 구비 하 여도 좋 다 . 예 를 들 어 , 전기 로 나 GRTA ( Gas Rapid Thermal Anneal ) 장치 , LRTA ( Lamp Rapid Thermal Anneal ) 장치 등 의 RTA ( Rapid Thermal Anneal ) 장치 를 사용 할 수 있 다 . LRTA 장치 는 , 할로겐 램프 , 메탈 할 라이드 램프 , 크세논 아크 램프 , 카본 아크 램프 , 고압 나트륨 램프 , 고압 수은 램프 등 의 램프 로부터 방출 되 는 광 ( 전자기파 ) 의 복사 에 의하 여 피 처리 물 을 가열 하 는 장치 이 다 . GRTA 장치 는 , 고온 의 가스 를 사용 하 여 가열 처리 를 행하 는 장치 이 다 .