본 출원 은 , 2007 년 12 월 12 일자 출원 된 , " 발명 의 명칭 "" Method and Apparatus for Plating Solution Analysis and Control "" 인 미국 가 출원 제 61 / 012 ", 998 호 에 대하 여 우선 권 을 주장 하 고 , 이것 의 내용 은 그 전체 가 본원 에 참조 에 의해 통합 된다 .