도 5 는 본 발명 의 기타 관점 을 보여준다 . 많 은 성장 챔버 에서 , 선적 및 하적 ( loading , unloading ) 은 예컨대 베르누이 막대 ( Bernoulli wand ) 와 같 은 자동 메카 니즘 에 의해 수행 되 는데 , 베르누이 막대 는 게이 티 드 된 ( gated ) 선적 / 하적 포트 를 통해 성장 챔버 로 들어가 고 빠져 나간다 . 예컨대 , 성장 챔버 ( 1 ) 는 이 와 같 은 챔버 이 며 , 제 어 가능 한 게이트 ( 49 ) 를 가진 포트 ( 47 ) 를 통해 로드 및 언 로드 될 수 있 다 . 나아가 , 성장 챔버 ( 1 ) 에서 는 , 이 와 같 은 많 은 성장 챔버 에서 처럼 , 여기 에 이중 화살표 45 로 도시 된 , 상기 성장 기판 위 의 수직 클리어런스 ( vertical clearance ) 은 제한 된다 . 따라서 , 내부 인 젝 터 및 임의 의 그 위 에 놓인 가열 판인 , 상기 내부 인 젝 터 고정 은 바람직 하 게 는 충분히 얇 아서 , 이 도면 에 이중 화살표 ( 45 ) 로 도시 된 , 선적 / 하적 메커니즘 이 가능 한 상기 성장 기판 상부 의 잔여 수직 클리어런스 가 이 메커니즘 의 동작 을 방해 하 도록 제한 되 지 않 는 것 이 좋 다 . 많 은 성장 챔버 에서 , 인 젝 터 고정 의 적절 한 총 두께 는 약 8 mm 이하 , 바람직 하 게 는 약 5 mm 이하 , 보다 바람직 하 게 는 약 2 mm 이하 라는 것 이 발견 되 었 다 .