먼저 , 도 3 a 에 도시 되 는 바 와 같이 , 희생 기판 으로서 의 실리콘 기판 ( 31 ) 을 준비 하 고 , 상기 실리콘 기판 ( 31 ) 상부 에 포토 레지스 트 와 같 은 마스크 층 ( 32 ) 을 형성 시킨다 . 그 후 , 마스크 층 ( 32 ) 을 에칭 하 여 탐침 의 형상 을 패 터닝 한다 . 이 패턴 은 피라미드 와 같 은 형상 이 될 수 있 다 .