예컨대 , 본 발명 의 이중 방사 공정 에서 제 1 방사 물질 의 주입 및 방사 속도 가 0 . 1 ml / hour 내지 1 . 5 ml / hour 범위 이 고 , 제 2 방사 물질 의 주입 및 방사 속도 가 1 . 5 ml / hour 내지 3 . 5 ml / hour 범위 일 수 있 다 . 다만 , 이러 한 주입 속도 는 예시 적 인 것 이 며 , 본 발명 의 기술 적 사상 은 이 에 한정 되 는 것 은 아니 다 .