LID 장치 는 SOF 를 포함 할 수 있 고 , 다층 일 수 있 으며 , 기판 , 전도 층 , 선택 적 인 접착 층 , 선택 적 인 홀 차단 층 , 전하 발생 층 , 전하 이송 층 , 광전도 성 또는 이미지 형성 표면 및 선택 적 으로 안티 컬 ( anti - curl ) 백 킹 층 을 포함 할 수 있 는 광전도 성 이미 징 부재 또는 광전도 성 광수 용체 를 포함 한다 . 광 수용체 는 이동 가능 하 다 . 이동하 는 광수 용체 는 충전 유닛 에 의해 처음 으로 충전 될 수 있 다 . 이미지 처리 유닛 에 의해 제어 되 는 래스터 출력 스캐너 ( raster output scanner , ROS ) 장치 는 충전 된 광수 용체 에서 전하 를 선택 적 으로 제거 하 여 제 1 보색 이미지 비트맵 정보 를 기록 할 수 있 다 . ROS 는 라인 스크린 등록 모드 ( line screen registration mode ) 에서 픽셀 에 의해 이미지 정보 픽셀 을 기록 할 수 있 다 . 방전 된 영역 현상 ( discharged area development , DAD ) 은 방전 된 부분 을 현상 하 는 데 이용 될 수 있 고 충전 된 영역 현상 ( charged area development , CAD ) 은 충전 된 영역 을 토너 로 현상 하 는 데 이용 될 수 있 다 .