이러 한 광학 박막 은 , 목적 하 는 광학 적 기능 을 발현 시키 기 위해 사전 에 설계 된 막 구성 을 토대 로 , 기재 상 에 단 층막 , 또는 2 ~ 100 층 정도 의 적층 막 을 설치 함 으로써 형성 된다 . 이것 에 의해 , 카메라 렌즈 , 안경 렌즈 등 의 광학 부재 에 대해 , 반사 방지 , 증 반사 , 협 파장 대역 의 광 필터링 , 편광 제어 등 의 광학 적 기능 을 부여 할 수 있 다 . 이러 한 광학 박막 의 형성 방법 에 는 , 진공 증착 법 이나 스퍼터 법 이 있 으나 , 성막 속도 나 비용 면 에서 우수 한 진공 증착 법 이 사용 되 는 경우 가 많 다 . 진공 증착 법 의 경우 는 , 보트 나 도가니 등 의 용기 에 장전 된 증착 재료 를 진공 중 에서 저항 가열 이나 전자 빔 가열 등 의 가열 수단 에 의해 기화 함 으로써 , 기재 상 에 막 을 형성 한다 . 그 가열 수단 에 따라 , 진공 증착 법 은 추가 적 으로 저 항가 열 증착 법 과 전자 빔 증착 법 으로 구분 되 는 경우 가 있 다 . 그 중 , 전자 빔 증착 법 은 , 원리 적 으로 고 융점 이나 저 증기압 의 재료 도 증착 시킬 수 있 기 때문 에 , 자주 사용 되 고 있 다 . 또한 , 증착 재료 란 , 진공 증착 법 에 있 어서 성막 하 는 데 사용 되 는 증착 원 을 말 하 며 , 형성 되 는 막 의 굴절률 에 있 어서 의 고저 의 정도 에 따라 , 고 굴절 률 재료 , 중굴절 률 재료 , 및 저 굴절 률 재료 로 분류 되 는 것 이 일반 적 이 다 .