또한 , 본 발명 은 소스 전극 ( 14 a 및 27 a ) 과 드레 인 전극 ( 14 b 및 27 b ) 을 노출 시키 기 위해 보호막 ( 16 및 25 ) 을 패 터닝 하 는 과정 에서 , 감광막 을 사용 한 사진 공정 을 이용 한다 . 따라서 후속 공정 에서 도 플 라즈 마 식각 에 따른 피해 가 방지 되 도록 함 으로써 채널 의 전도성 이 효과 적 으로 일정 하 게 유지 될 수 있 다 .