리소그래피 장치 는 원 하 는 패턴 을 기판 의 타 겟 부분 상 으로 적용 시키 는 기계 이 다 . 리소그래피 장치 는 , 예 를 들 어 집 적 회로 ( IC ) 의 제조 에 사용 될 수 있 다 . 그 경우 , 대안 적 으로 마스크 또는 레티 클로 지칭 되 는 패 터닝 디바이스 가 사용 되 어 IC 의 개별 층 에 대응 하 는 회로 패턴 을 생성 할 수 있 으며 , 이 패턴 은 방사선 - 감응 물질 ( 레지스 트 ) 의 층 을 갖 는 기판 ( 예 를 들 어 , 실리콘 웨이퍼 ) 상의 ( 예 를 들 어 , 1 개 의 다이 또는 수 개 의 다이 의 일부 를 포함 하 는 ) 타 겟 부분 상 으로 이미지 될 수 있 다 . 일반 적 으로 , 단일 기판 은 연속 적 으로 노광 된 인접 한 타 겟 부분 들 의 네트워크 를 포함 할 것 이 다 . 공지 된 리소그래피 장치 는 , " 전체 패턴 을 한 번 에 타 겟 부분 상 으로 노광 함 으로써 각 타 겟 부분 이 조사 ( irradiate ) 되 는 소위 스 테퍼 및 방사선 빔 을 통해 주 어 진 방향 ( "" 스캐닝 ""- 방향 ) 으로 패턴 을 스캐닝 하 는 한편 ", 이 방향 과 평행 하 게 또는 역 - 평행 하 게 기판 을 동기 적 으로 스캐닝 함 으로써 각 타 겟 부분 이 조사 되 는 소위 스캐너 를 포함 하 고 있 다 .