상기 성분 ( A ) 의 수지 가 KrF 엑 시머 레이저 광 , 전자 빔 , X 선 또는 50 nm 이하 의 파장 을 갖 는 고 에너지 빔 ( EUV 등 ) 에 노광 되 는 포지티브 감광성 조성물 에 사용 되 는 경우 , 상기 성분 ( A ) 의 수지 는 상기 일반식 ( I ) 로 나타내 어 지 는 반복 단위 및 히드록시 스티렌 구조 를 갖 는 반복 단위 를 갖 는 것 이 바람직 하 다 . 히드록시 스티렌 을 갖 는 상기 반복 구조 의 예 로 는 o -, m - 및 p - 히드록시 스티렌 및 / 또는 산분 해 성기 로 보호 된 히드록시 스티렌 이 포함 된다 . 산분 해 성기 로 보호 된 상기 히드록시 스티렌 반복 단위 로서 , 1 - 알 콕 시 에 톡 시 스티렌 및 t - 부틸 카르보닐 옥시 스티렌 이 바람직 하 다 .