따라서 , 종래 의 기술 에 있 어서 는 하드 컨 택 ( hard contact ) 또는 진공 컨 택 ( vacuum contact ) 으로 웨이퍼 에 마스크 를 눌러 접촉 시켜 웨이퍼 를 펴 서 마스크 이미지 를 1 : 1 의 배 율 로 기판 에 직접 노광 하 여 전사 하 는 방법 을 쓰 고 있 다 . 이러 한 1 : 1 마스크 는 대면 적 일 뿐 만 아니 라 마스크 화소 크기 ( 픽셀 또는 도트피치 ; pixel , dot - pitch ) 가 매우 작 아야 하 고 따라서 매우 고가 이 다 .