이 들 요인 을 해결 하 는 종래 수법 으로서 , 복수 의 마크 계측 계 의 계측 오프셋 값 을 산출 해서 보정 을 행하 는 방법 이 있 다 . 계측 오프셋 값 을 산출 할 때 , 각 검출기 에 대하 여 동일 한 마크 를 정렬 하 고 , 마크 의 계측 값 과 웨이퍼 스테이지 WS 의 위치 정보 에 근거 하 여 계측 오프셋 값 을 계산 하 는 방법 을 사용 할 수 있 다 . 즉 , 웨이퍼 상 의 동일 한 마크 를 X 방향 및 Z 방향 으로 이 동시 켜 서 , 복수 의 검출기 91 a , 91 b , 91 c 의 초점면 94 a , 94 b , 94 c 에 대하 여 순차 정렬 시키 고 , 마크 의 위치 를 검출 한다 . 도 4 b 에 도시 된 파형 97 a , 97 b , 97 c 는 , 복수 의 검출기 91 a , 91 b , 91 c 를 사용 해서 동일 한 마크 를 검출 했 을 때 얻 어 지 는 , 마크 로부터 의 반사광 의 강도 분포 를 나타낸 신호 파형 이 다 . 예 를 들 면 , 가로축 은 X 방향 에 있 어서 의 마크 의 위치 에 해당 하 고 , 세로축 은 마크 로부터 의 반사광 의 강도 분포 에 해당 한다 . 파형 97 a , 97 b , 97 c 는 복수 의 검출기 91 a , 91 b , 91 c 의 성능 의 차이 에 기인 해서 변화 하 기 때문 에 , 신호 파형 을 연산 처리 해서 산출 되 는 파형 의 중심 위치 에 는 위치 시프트 가 생긴다 . 도 4 b 에 있 어서 화살표 로 나타내 고 있 는 계측 값 99 a , 99 b , 99 c 는 , 복수 의 검출기 91 a , 91 b , 91 c 의 검출 영역 에 대한 마크 의 계측 값 이 다 . 종래 의 검출 장치 는 , 이 들 계측 값 의 차분 을 복수 의 검출기 의 계측 오프셋 값 으로 사용 하 여 , 마크 의 계측 값 을 보정 한다 . 예 를 들 면 , 계측 값 99 a 에 대한 계측 값 99 b 및 99 c 의 차분 값 이 , 검출기 91 a 에 대한 검출기 91 b 및 91 c 의 계측 오프셋 값 으로서 산출 된다 . 그리고 , 웨이퍼 상 의 계측 대상 의 마크 의 계측 값 에 대하 여 계측 오프셋 값 을 부가 함 으로써 , 복수 의 검출기 91 a , 91 b , 91 c 의 성능 의 차이 에 기인 하 는 계측 값 의 시프트 를 보정 하 여 , 노광 광과 웨이퍼 의 얼라인먼트 를 행한다 .