상기 스텝 S 6 의 레지스 트 ( 6 ) 에 대한 노광 시 에 는 , 상기 소정 의 레티 클 을 사용 하 여 , 도 8 에 나타낸 바 와 같이 , 미리 설정 된 각 노광 샷 영역 ( 4 b ) 에 대하 여 차례 로 노광 을 반복 하 여 행하 지만 , 어느 1 개소 의 노광 샷 영역 ( 4 c ) 에 대해서 는 노광 을 행하 지 않 도록 한다 . 이것 에 의해 , 노광 샷 영역 ( 4 b ) ( 합계 24 개소 ) 의 레지스 트 ( 6 ) 에 만 도 7 에 나타낸 바 와 같 은 패드 형성 용 의 노광 영역 ( 6 a ) 이 형성 된다 .