이후 , 상기 금속 물질 층 ( 28 ) 상부 로 포토레지스트 를 도포 하 여 포토레지스트 층 ( 미 도시 ) 을 형성 한 후 , 투과 영역 과 반투 과 영역 및 차단 영역 을 갖 는 마스크 ( 미 도시 ) 를 위치 시킨 후 , 이 를 통해 상기 포토레지스트 층 ( 미 도시 ) 을 노광 하 고 , 현상 함 으로 써 두께 를 달리 하 는 즉 , 제 1 두께 를 갖 는 제 1 포토레지스트 패턴 ( 90 a ) 과 , 상기 제 1 두께 보다 얇 은 제 2 두께 를 갖 는 제 2 포토레지스트 패턴 ( 90 b ) 을 형성 한다 .