스테이션 부 ( 200 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 로부터 언 로딩 되 는 합성 기판 ( 10 ) 이 대기 중 에 노출 되 는 것 을 방지 한다 . 제 1 이송 장치 ( 300 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 로 / 로부터 합성 기판 을 로딩 / 언로 딩 한다 . 기판 보관 부 ( 400 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 로 / 로부터 로딩 되 거나 언 로딩 되 는 합성 기판 을 저장 한다 . 촉매 도포 부 ( 500 ) 는 합성 기판 ( 10 ) 이 반응 챔버 ( 100 ) 로 로딩 되 기 전 에 합성 기판 ( 10 ) 상 에 촉매 ( 20 ) 를 도포 하 는 공정 을 수행 한다 . 회수 부 ( 600 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 로부터 언 로딩 된 합성 기판 ( 10 ) 상 에 생성 된 탄소 나노 튜브 ( 30 ) 를 합성 기판 ( 10 ) 으로부터 회수 하 는 공정 을 수행 한다 . 제 2 이송 장치 ( 700 ) 는 기판 보관 부 ( 400 ) , 촉매 도포 부 ( 500 ) , 그리고 회수 부 ( 600 ) 간 에 합성 기판 ( 10 ) 을 이송 한다 .