열적 나노 임프 린트 리소그래피 공정 에서 , 템플 릿 또는 마스터 는 , 미국 티 코나 ( Ticona ) 사 의 토파스 ( Topas ) 또는 일본 제온 ( Zeon ) 사 의 제 오너 ( Zeonor ) 와 같 은 적당 한 폴리머 시트 로 덮여 진다 . 폴리머 시트 위 에 임프 린트 멤 브레인 을 놓 은 후 , 샌드위치 는 진공 으로 빨 아 들여 지 고 가열 된다 . 임프 린트 온도 에 도달 할 때 , 멤 브레인 은 20 내지 80 바로 압축 된다 . 폴리머 호일 로 패턴 전사 후 , 샌드위치 는 유리 전 이온 도 아래 로 냉각 되 고 , 그 후 임프 린트 멤 브레인 의 제거 및 마스터 로부터 IPS 스탬프 의 탈 형 이 일어난다 . 좋 은 열가소성 시트 는 , 차후 의 공정 에서 몰드 로서 제공 되 어야 만 하 는 , 생성 된 나노미터 구조 의 높 은 기계 적 강도 뿐 만 아니 라 임프 린트 온도 및 방출 온도 를 고려 하 여 , 좁 은 공정 윈도우 를 가지 는 것 이 필요 하 다 . 자외선 - 복사 에 대한 높 은 투과도 는 매우 유익 하 다 .