냉각 은 겔 상 시트 의 표면 및 이면 모두 , 결정 화 종료 온도 이하 로 될 때 까지 , 250 ℃/ 분 이상 의 속도 로 행하 는 것 이 바람직 하 고 , 보다 바람직 하 게 는 300 ℃/ 분 이상 의 속도 이 다 . 냉각 속도 가 상기 범위 일 경우 , 압출 물 중 겔 을 형성 하 는 결정 이 조대 화 하 지 않 아 , 치밀 한 고차 구조 를 얻 을 수 있 고 , 표면 의 거칠 기 가 불 균일 하 게 되 기 어렵 다 . 또한 , 냉각 속도 가 상기 범위 일 경우 , 고차 구조 가 미세 한 겔 상 시트 를 얻 을 수 있 기 때문 에 , 그 후 의 연신 에 있 어서 분자 배향 이 진행 되 기 쉽 고 , 돌 자 강도 와 투 기도 의 양립 및 컬 의 발생 을 억제 하 는 것 이 가능 해진다 .