이 도포 후 의 열처리 는 산소 를 포함 하 지 않 는 분위기 , 예컨대 질소 분위기 내 에서 수행 하 는 것 이 바람직 하 다 . 이 산소 를 포함 하 지 않 는 분위기 는 도포 후 , 열처리 가 완료 할 때 까지 적절 기간 속행 하 는 것 이 더 바람직 하 다 . 산소 등 이 존재 함 으로써 표면 소수 화 막 의 유전 율 이 상승 하 는 것 을 방지 할 수 있 기 때문 이 다 . 어느 정도 산소 를 포함 하 지 않 을지 는 실정 에 따라 적절 하 게 정할 수 있 다 .