본 발명자 는 본 특허 출원 의 요지 로 적용 되 는 기술 적 사항 에 대하 여 특허 출원 제 10 - 2016 - 46122 호 에 의하 여 지문 및 지정 맥 의 인증 장치 로서 3 D 입체 촬영 장치 에 대하 여 특허 출원 하 였 고 , 또한 국내 특허 출원 제 10 - 2016 - 0153836 호 , 제 10 - 2016 - 0157310 호 , 제 10 - 2016 - 0157311 호 에 의하 여 지문 과 지문 , 지문 과 지정 맥 , 지정 맥과 지정 맥 에 대한 알고리즘 에 대하 여 특허 출원 된 바 있 다 .