외측 립 ( 226 ) 이 스 페이서 ( 212 ) 의 측면 연장 부 ( 218 ) 의 외측 벽 을 따라 형성 된다 . 외측 립 ( 226 ) 은 상부 챔버 부분 ( 102 ) 와 함께 스 페이서 ( 212 ) 를 리프팅 하 는 데 사용 될 수 도 있 다 . 예 를 들 어 , 상부 챔버 부분 ( 102 ) 의 챔버 벽 ( 102 a ) 의 하단 부분 은 스 페이서 ( 212 ) 의 측면 연장 부 ( 218 ) 를 둘러싸 도록 설계 된다 . 연장 립 ( 102 b ) 이 챔버 벽 ( 102 a ) 의 하단 부분 에 형성 된다 . 연장 립 ( 102 b ) 은 스 페이서 ( 212 ) 의 외측 벽 상 에 형성 된 외측 립 ( 226 ) 밑 으로 연장 하 도록 , 챔버 벽 ( 102 a ) 의 하단 측 으로부터 프로세싱 영역 ( 234 ) 을 향해 방사상 내측 으로 돌출 한다 . 상부 챔버 부분 ( 102 ) 이 리프팅 될 때 , 연장 립 ( 102 b ) 의 상단 부 상 에 놓인 스 페이서 ( 212 ) 의 외측 립 ( 226 ) 은 상부 챔버 부분 ( 102 ) 의 다른 컴포넌트 들 과 함께 스 페이서 ( 212 ) 를 리프팅 하 도록 인게이지 된다 . 이 로 인해 , " 외측 립 ( 226 ) 은 또한 "" 리프팅 립 "" 이라고 할 수 도 있 다 . 스 페이서 ( 212 ) 의 외측 측벽 ( 212 b ) 내 에 립 ( 즉 ", 외측 립 ( 226 ) ) 을 형성 하 는 것 은 사용 된 재료 의 양 을 감소 시켜 , ( 사용 된 재료 의 감소 로 인해 ) 스 페이서 의 전체 중량 및 비용 을 감소 시킨다 . 또한 , 외측 립 ( 226 ) 은 보다 작 은 표면적 을 제공 하 여 , 외부 로 손실 된 열 의 양 을 감소 시킨다 .