5 L 4 구 제 3 반응기 내부 를 질소 로 치환 하 고 , 여기 에 제조 예 A 1 에서 얻 은 1 , 3 - H 6 XDA · 2 HCl 조성물 823 g 및 1 , 2 - 디 클로로벤젠 ( ODCB ) 3 , 550 g 을 투입 하 고 교반 하 면서 약 115 ℃ 로 가열 하 였 다 . 제 4 반응기 에 트리 포스겐 ( BTMC ) 950 g 및 ODCB 800 g 을 넣 고 약 60 ℃ 에서 교반 용해 하 고 , 석출 되 지 않 도록 125 ℃ 로 온도 를 유지 하 며 반응기 에 24 시간 에 걸쳐 적하 하 였 다 . 적하 종료 후 4 시간 교반 을 실시 하 였 다 . 반응 종료 후 125 ℃ 에서 질소 가스 를 용매 내부 에 불어넣 어 버블 링 하 면서 탈기 하 였 다 . 이후 10 ℃ 로 냉각 한 후 셀라이트 를 이용 하 여 잔존 고형분 을 여과 하 였 다 . 여과 된 용매 와 생성 된 H 6 XDI 를 아래 증류 조건 에서 증류 하 여 정제 하 였 다 . 유기 용매 ( ODCB ) 의 제거 는 0 . 5 torr 이하 의 압력 과 60 ℃ 의 온도 에서 8 시간 수행 하 였으며 , 1 , 3 - H 6 XDI 의 증류 는 0 . 5 torr 이하 의 압력 과 120 ℃ 의 온도 에서 10 시간 동안 수행 하 여 , 최종 1 , 3 - 비스 ( 이 소시아 네 이토 메틸 ) 시클로헥산 ( 1 , 3 - H 6 XDI ) 조성물 을 얻 었 다 .