이번 신규 라인 에 는 미세 공정 의 한계 를 극복 하 는 데 필수 적 인 것 으로 평가 되 는 EUV 노광 장비 가 처음 으로 본격 도입 된다 . 삼성전자 는 EUV 라인 이 앞 으로 반도체 미세 공정 의 핵심 이 될 것 으로 판단 하 고 있 다 . 반도체 산업 은 공정 미세화 를 통해 집적도 를 높이 고 세밀 하 게 회로 를 구현 해 반도체 성능 과 전력 효율 을 향상 해 왔 다 . 반도체 업계 에서 는 EUV 기술 이 본격 상용 화 되 면 반도체 성능 과 전력 효율 이 향상 되 는 것 은 물론 회로 형성 을 위한 공정 수 가 줄 어 생산 성 도 획기적으로 높 아 질 것 으로 기대 하 고 있 다 . 이 에 따라 인텔 이나 대만 TSMC 등 반도체 상위 권 업체 들 이 앞 다퉈 이 장비 를 도입 하 고 공정 기술 개발 등 에 나서 고 있 다 . 아직 EUV 공정 을 적용 해 반도체 를 양산 하 는 곳 은 없 다 .