수용성 중합체 로서 는 술폰산기 ( - SO 3 H ) 를 갖 는 중합체 를 사용 한다 . 수용성 중합체 가 갖 는 술폰산기 의 존재 밀도 가 증가 하 면 , 비 도전 성 입자 의 분산 성 이 향상 되 고 , 또 , 통상 적 으로 는 본 발명 의 슬러리 조성물 의 점도 는 낮 아 진다 . 따라서 , 수용성 중합체 는 술폰산기 를 본 발명 의 효과 가 얻 어 지 는 만큼 많이 갖 는 것 이 바람직 하 다 . 구체 적 으로 는 , 수용성 중합체 100 중량 ％ 중 의 술폰산기 의 중량 비율 은 1 중량 ％ 이상 이 바람직 하 고 , 2 중량 ％ 이상 이 보다 바람직 하 고 , 4 중량 ％ 이상 이 특히 바람직 하 다 . 또 , 통상 적 으로 는 본 발명 의 다 공막 을 제조 할 때 에 수용성 중합체 의 술폰산기 가 가교 반응 을 일으키 기 때문 에 , 본 발명 의 다공 막 에서 는 술폰산기 에 의해 가 교 구조 가 형성 된다 . 이 경우 , 수용성 중합체 가 충분 한 양 의 술폰산기 를 가짐 으로써 , 가교 구조 의 수 를 많 게 하 여 , 얻 어 지 는 본 발명 의 다 공막 의 강도 ( 특히 경도 ) 를 강하 게 할 수 있 다 . 또한 , 수용성 중합체 중 의 술폰산기 의 중량 비율 의 상한 은 70 중량 ％ 이하 가 바람직 하 고 , 60 중량 ％ 이하 가 보다 바람직 하 고 , 50 중량 ％ 이하 가 특히 바람직 하 다 .