일실 시예 에서 , 도 8 a 에 나타낸 시스템 ( 864 ) 은 외부 표면 ( 830 ) 에 형성 된 리세 스 들 이 실질 적 으로 일정 한 속도 에서 형성 되 도록 레이저 빔 들 / 펄스 들 ( 870 ) 을 가지 고 외부 표면 을 조사 하 도록 구성 될 수 있 다 . 이것 은 제거 되 는 PCD 소재 의 양 이 실질 적 으로 리세 스 들 을 따라서 일정 하 도록 해준다 . 그러나 갈보 미러 ( 868 ) 는 제 1 라인 들 ( 874 ) 중 하나 를 형성 한 후 에 완전히 정지 되 거나 적어도 감속 되 는 것 이 필요 할 수 있 으며 , 다음 제 1 라인 ( 874 ) 를 형성 하 기 전 에 가속 되 는 것 이 필요 할 수 있 다 . 갈보 미러 ( 868 ) 를 의도 된 속도 로부터 또는 의도 된 속도 까지 각각 감속 하 고 가속 하 는 것 은 각 레이저 펄스 에 의해 제거 되 는 PCD 소재 의 양 을 변화 시킬 수 있 다 .