본 발명 의 조성물 은 , " 화학 방사선 에 조성물 을 노출 시켜 경화 된 실란 트 를 얻 기 위하 여 때때로 본질 적 으로 화학량론 적 으로 당량 의 티 올기 와 "" 엔 "" 기 를 함유 한다 . 본원 에 사용 된 "" 본질 적 인 화학량론 적 으로 당량 "" 이 란 조성물 에 존재 하 는 티 올기 와 "" 엔 "" 기 의 수 가 10 % 이하 ", 몇몇 의 경우 에 5 % 이하 또는 몇몇 의 경우 1 % 이하 또는 0 . 1 % 이하 의 차이 가 나 는 것 을 의미 한다 . 몇몇 의 경우 에 는 , " 조성물 에 존재 하 는 티 올기 와 "" 엔 "" 기 의 수 가 동일 하 다 . 게다가 이해 되 는 바 와 같이 "," 본 발명 의 조성물 에서 의 "" 엔 "" 기 의 공급원 은 황 - 함유 에틸렌 계 불포화 실란 자체 뿐 만 아니 라 조성물 에 포함 된 다른 폴리엔 ( 황 - 함유 에틸렌 계 불포화 실란 의 제조 에 사용 된 폴리엔 이외 의 것 ) 을 포함 할 수 있 다 . 특정 실시 양태 에서 ", 상기 에 설명 된 황 - 함유 에틸렌 계 불포화 실란 은 , 조성물 내 의 에틸렌 계 불포화 기 의 수 를 기준 으로 , 조성물 에 존재 하 는 황 - 함유 에틸렌 계 불포화 기 의 총 수의 0 . 1 내지 30 %, 예컨대 1 내지 30 %, 몇몇 의 경우 10 내지 25 % 의 양 이 에틸렌 계 불포화 실란 분자 의 부분 이 도록 하 는 양 으로 존재 한다 .