도 2 및 도 3 을 참조 하 면 , 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 투명 전극 제조 방법 은 , 기판 ( 110 ) 상 에 고분자 물질 ( 120 ) 을 패 터닝 하 는 단계 ( S 100 ) , 패 터닝 된 고분자 물질 ( 120 ) 을 포함 하 는 기판 ( 110 ) 상 에 방사 물질 ( 130 ) 을 전기 방사 하 는 단계 ( S 200 ) , 전기 방사 되 어 형성 된 복수 의 금속 나노 와이어 가 네트워크 를 이루 도록 열처리 또는 광 처리 하 는 단계 ( S 300 ) 및 고분자 물질 ( 120 ) 을 제거 함 으로써 고분자 물질 ( 120 ) 상 에 방사 된 금속 나노 와이어 를 제거 하 는 단계 ( S 400 ) 를 포함 한다 .