그 후 , 단계 S 55 에서 는 , 단계 S 54 에서 의 임프 린트 처리 에서 기록 되 고 , 각각 의 샷 영역 에 대한 임프 린트 처리 에서 의 Z 위치 ( 예 를 들 어 , 몰드 ( 1 ) 또는 임프 린트 헤드 ( 4 ) 의 Z 위치 ) 를 기재 하 는 로그 로부터 샷 영역 그룹 내 의 처리 의 안정 성 이 평가 된다 . 그룹 내 의 안정 성 은 , 상정 된 위치 압인 프로파일 ( 참조 Z 위치 프로파일 ) 로부터 의 차분 의 최대 값 ( Max 값 ) 또는 RMS 값 에 의해 평가 된다 . 상정 된 프로파일 로부터 의 차분 이 최소 인 샷 영역 이 다음 대표 샷 영역 으로서 사용 된다 . 상술 한 바 와 같이 , 단계 S 56 에서 는 , 다음 및 후속 기판 에 대해 지정 되 는 대표 샷 영역 은 그룹 내 의 임프 린트 처리 의 안정 성 의 평가 결과 에 기초 하 여 갱신 된다 . 대표 샷 영역 이 갱신 된 후 에 , 처리 플로우 는 다음 에 임프 린트 될 기판 에 대해 임프 린트 처리 가 행해 지 는 단계 S 52 로 복귀 한다 .