소스 / 드레 인 금속 층 ( 20 ) 상 에 포토레지스트 가 형성 되 고 제 2 마스크 로써 회절 마스크 ( diffraction mask ) 나 하프톤 마스크 ( half - tone mask ) 가 정렬 된다 . 제 2 마스크 ( 도시 하 지 않 음 ) 에 는 광 을 차단 하 는 광차 단부 , 입사광 의 일부 를 투과 시키 는 반투 과부 또는 회절 부 , 입사광 대부분 을 투과 시키 는 투과 부를 포함 한다 .