제 1 보호막 ( 230 ) 은 제 1 마이크 로 렌즈 ( 220 ) 의 표면 을 따라 일정 한 두께 로 형성 될 수 있 다 . 제 1 보호막 ( 230 ) 은 무기물 산화 막 일 수 있 다 . 예 를 들 어 , 실리콘 산화 막 ( SiO 2 ) , 티타늄 산화 막 ( TiO 2 ) , 지르코늄 산화 막 ( ZrO 2 ) , 헤프 늄 산화 막 ( HfO 2 ) 및 이 의 적층 막 , 조합 막 을 사용 할 수 있 다 . 특히 , 제 1 보호막 ( 230 ) 으로 실리콘 산화 막 의 일종 인 LTO ( Low Temperature Oxide ) 를 사용 할 수 있 다 . 이 와 같이 LTO 를 사용 하 는 이유 는 , LTO 는 저온 ( 약 100 ℃~ 200 ℃) 에서 제조 되 기 때문 에 , 하 부막 들 에 손상 ( damage ) 을 적 게 줄 수 있 기 때문 이 다 . 뿐 만 아니 라 , LTO 는 비정질 ( amorphous ) 이 기 때문 에 표면 이 매끄러워 서 입사광 의 반사 / 굴절 / 산란 등 을 최소 화 할 수 있 다 .