RF 스퍼터링 에서 또 다른 문제 는 , 산화물 유전체 막 의 증착 의 경우 , 세라믹 표적 은 , 스퍼터링 공정 에서 사용 하 기 에 적합 한 대형 면적 세라믹 스퍼터 표적 의 제 조시 두께 한계 ( 예 를 들 면 , 1 / 4 인치 ) 때문 에 , 복수 개 의 보다 작 은 타일 로 전형 적 으로 이루어진다 . 또한 , RF 스퍼터링 에 요구 되 는 반응기 는 보다 복잡 한 경향 이 있 다 . 특히 , 스퍼터 캐소드 에 대한 저 커패시턴스 효율 적 RF 전력 분배 의 조작 은 RF 시스템 에서 어렵 다 . 반응 체임버 의 진공 용기 내로 의 저 커패시턴스 전달 및 반사 전력 의 루팅 ( routing ) 은 종종 확산 플 라즈 마 방전 이 매칭 네트워크 의 임피던스 튜닝 의 일부 조건 하 에 허용 되 는 방식 으로 전력 경로 를 노출 시킨다 .