제어 시스템 은 또한 장치 ( 1 ) 에서 사용 되 는 공정 을 제어 하 도록 구성 될 수 있 다 . 오버헤드 샤워 헤드 장치 ( 10 ) 를 통해 주입 및 배기 둘 모두 의 장점 을 이용 하 는 작동 실시 예 에서 , 반응물 , 예 를 들 어 에 천트 , 및 배기 공정 은 동적 압력 제어 를 위한 공정 중 에 펄스 화 또는 교번 될 수 있 다 . 따라서 반응물 주 입량 은 다수 의 짧 은 펄스 로 분할 될 수 있 고 , 이 는 반응 챔버 안 으로 반응물 분자 의 분배 를 개선 시켜 , 각각 의 반응물 또는 퍼지 펄스 동안 기판 전체 에 걸쳐 확산 및 / 또는 압력 구배 에 의해 신속 한 가스 의 퍼짐 을 용이 하 게 할 수 있 다 . 스위치 온 및 스위치 오프 단계 는 반응물 에 대해 적어도 2 회 반복 될 수 있 다 . 그 결과 , 반응 공간 의 압력 은 낮 은 레벨 및 높 은 레벨 의 압력 사이 에서 빠르 게 변동 한다 . 스위치 온 단계 동안 반응 공간 내 에 생성 된 압력 구배 는 , 전 구체 분자 를 효율 적 으로 반응 공간 의 모든 영역 으로 밀 어 넣 는 반면 , 스위치 오프 단계 동안 반응 공간 내 에 생성 된 압력 구배 는 , 기체 반응 부산물 을 반응 공간 의 표면 으로부터 가스 유출 구 로 끌어당겨 내보낸다 . 종래 의 비교 적 긴 펄스 ( 예 , 1 초 ) 가 반응 챔버 ( 3 ) 로 방출 되 는 경우 , 압력 을 평형 화 시켜 동적 퍼짐 효과 를 잃 어 버리 고 가스 흐름 의 주요 부분 이 가스 유출 구로 바로 유도 되 는 경향 이 있 다 . 몇몇 짧 은 펄스 ( 예 , 0 . 3 초 씩 3 회 ) 가 방출 되 는 경우 , 훨씬 더 균일 한 분배 가 유사 한 시간 에 달성 된다 .