그리고 층간 절 연막 ( 106 ) 에 감광막 ( 도시 하 지 않 음 ) 을 이용 한 선택 적 식각 공정 으로 식각 정지 막 ( 104 ) 을 노출 하 는 비아 ( V ) 를 형성 한다 . 이후 감광막 ( 도시 하 지 않 음 ) 을 이용 한 선택 적 식각 공정 으로 비아 ( V ) 를 노출 하 는 트렌치 ( T ) 를 형성 한다 . 복수 층 으로 층간 절 연막 ( 106 ) 을 형성 하 는 경우 에 는 층간 절 연막 ( 106 ) 의 어느 한 층 을 트렌치 ( T ) 를 형성 할 때 식각 정지 막 으로 사용 할 수 있 다 .