장치 의 구성 은 도 1 과 같 다 . RF 플 라즈 마 토치 ( torch ) 부 는 RF 에 의해 플 라즈 마 를 발생 시키 고 그 화염 의 직경 과 길이 를 길 게 하 는 역할 을 하 며 , 각 가스 라인 을 통하 여 초기 마이크 로 분말 이 투입 되 는 노즐 의 외벽 에 가스 를 분사 하 는 센트럴 개스 ( central gas ) 와 RF 발생 장치 인 인덕션 코일 ( induction coil ) 의 외벽 에 기화 분말 이 흡착 되 지 않 게 투입 되 는 절연 개스 ( sheath gas ) , 그리고 투입 되 는 마이크 로 분말 을 이송 해 주 는 케리어 개스 ( carrier gas ) 로 구성 되 어 있 다 . 투입 된 마이크 로 분말 이 플 라즈 마 화 염부 에 도달 하 면 , 인덕션 프라 즈 마 토치 ( Induction Plasma torch ) 에서 생성 되 는 플 라즈 마의 온도 는 약 5 , 000 ～ 10 , 000 K 의 고온 환경 을 형성 하 여 분말 은 기화 혹은 용해 된다 . 이때 플 라즈 마 토치 ( Plasma torch ) 하 단부 에 강하 게 분사 되 는 냉각 개스 ( quenching gas ) 에 의해 응축 혹은 급 냉 되 어 나노 분말 화 된다 . 생성 된 나노 분말 은 진공 펌프 혹은 컴 프레 셔 ( compressor ) 에 의해 이송 되 고 사이클론 ( cyclone ) 을 지나 면서 분말 의 온도 가 하강 되 고 필터 ( filter ) ( 22 ) 에 나노 분말 은 수거 되 고 개스 ( gas ) 는 외부 관 ( 53 ) 을 통하 여 나가 게 된다 . 일정량 이 필터 ( filter ) ( 22 ) 외벽 에 흡착 되 면 필터 내부 에서 백 플러싱 ( back flushing ) 하 여 나노 분말 을 탈착 시켜 하단 의 나노 분말 수 거통 에서 회수 한다 . 나노 분말 은 반응 가능 기체 와 접촉 하 는 표면적 이 매우 넓 기 때문 에 회수 및 처리 에 주의 를 해야 한다 .