레지스 트 도포 챔버 ( 410 ) 는 하우징 ( 411 ) , 지지 플레이트 ( 412 ) , 그리고 노즐 ( 413 ) 을 가진다 . 하우징 ( 411 ) 은 상부 가 개방 된 컵 형상 을 가진다 . 지지 플레이트 ( 412 ) 는 하우징 ( 411 ) 내 에 위치 되 며 , 기판 ( W ) 을 지지 한다 . 지지 플레이트 ( 412 ) 는 회전 가능 하 게 제공 된다 . 노즐 ( 413 ) 은 지지 플레이트 ( 412 ) 에 놓인 기판 ( W ) 상 으로 포토 레지스 트 를 공급 한다 . 노즐 ( 413 ) 은 원형 의 관 형상 을 가지 고 , 기판 ( W ) 의 중심 으로 포토 레지스 트 를 공급 할 수 있 다 . 선택 적 으로 노즐 ( 413 ) 은 기판 ( W ) 의 직경 에 상응 하 는 길이 를 가지 고 , 노즐 ( 413 ) 의 토출구 는 슬릿 으로 제공 될 수 있 다 . 또한 , 추가 적 으로 레지스 트 도포 챔버 ( 410 ) 에 는 포토 레지스 트 가 도포 된 기판 ( W ) 표면 을 세정 하 기 위해 탈 이온 수 와 같 은 세정액 을 공급 하 는 노즐 ( 414 ) 이 더 제공 될 수 있 다 .