본 발명 의 또 다른 특징 에 의하 면 , 인덱스 와 노광 시스템 사이 에 복수 개 의 프로세스 유닛 들 을 배치 하 는 인라인 타입 의 기판 처리 장치 에서 , 상기 프로세스 유닛 들 중 베 이크 유닛 의 기판 억세 스 방법 이 제공 된다 . 이 와 같 은 본 발명 의 방법 에 의하 면 , 상기 베 이크 유닛 은 상기 프로세스 유닛 들 과 상기 노광 시스템 사이 의 모서리 부분 에 배치 되 어 제 1 방향 으로 기판 을 인입 한다 . 이어서 상기 베 이크 유닛 내부 에서 공정 처리 후 , 상기 제 1 방향 과 수직 방향 인 제 2 방향 으로 기판 을 인출 한다 .