실시 예 4 는 공정 ( 100 ) 의 예시 적 실시 양태 를 제공 하 며 , 여기 서 스퍼터링 표적 은 실시 예 3 ( 도 4 ) 에 의해 제공 된 바 와 같 은 LixP ( x ≥ 3 ) 대신 에 P 2 O 5 을 포함 하 고 , 그 와 같이 제조 된 스퍼터 표적 은 적어도 질소 를 함유 하 는 대기 중 에서 DC , 펄스 화 DC , AC 또는 RF 스퍼터링 된다 .