도 4 ( B ) 에 나타내 는 바 와 같이 , 제 2 금속 막 ( 409 ) 을 패 터닝 하 기 위하 여 제 2 포토레지스트 ( 410 a , 410 b ) 를 형성 한다 . 여기 서 , 다 계조 마스크 를 제 2 포토 마스크 로 하 여 하프 톤 포토 마스크 및 그레이 톤 포토 마스크 를 이용 한 노광 기술 을 사용 하 여 , 막 두께 에 차 를 가지 는 포토레지스트 를 형성 한다 . 후 에 채널 영역 이 되 는 개소 의 레지스 트 의 막 두께 를 다른 개소 의 레지스 트 의 막 두께 보다 얇 게 한다 .