다음 으로 , 도 1 b 에 도시 한 바 와 같이 , 상기 트렌치 ( 13 ) 를 포함 한 전체 구조 의 표면 을 따라 확산 방지 도전 층 ( 14 ) 을 형성 한다 . 상기 확산 방지 도전 층 ( 14 ) 은 Ta 또는 TaN 을 PVD 방법 으로 형성 할 수 있 다 . 이어서 , 도 1 c 에 도시 한 바 와 같이 , 상기 확산 방지 도전 층 ( 14 ) 상 에 PVD 방법 으로 씨드 층 ( 15 ) 을 형성 한다 .