상술 한 일련 의 1 차 마스크 패 터닝 및 1 차 하드 마스크 폴리 실리콘 식각 공정 에 의해 하드 마스크 폴리 실리콘 ( 15 ) 을 식각 한 후 에 2 차 마스크 패 터닝 및 2 차 하드 마스크 폴리 실리콘 식각 공정 을 진행 한다 . 이 를 위해 , 다시 OBARC , 포토레지스트 도포 , 노광 및 현상 , 릴 락스 물질 도포 , 믹 싱 베 이크 , 가교 결합 되 지 않 은 릴 락스 물질 제거 , 하드 마스크 폴리 실리콘 식각 을 순차 적 으로 진행 한다 .