NiOx 층 상 에 제 1 내지 제 5 유기 정공수 송 물질 용액 ( 10 mg / ml ) 을 각각 스핀 캐스팅 ( 2000 rpm , 30 s ) 한 후 120 ℃ 에서 15 분 동안 어닐링 하 였 다 . 이 때 , 스핀 캐스팅 된 유기 정공수 송 물질 들 의 바닥 부 는 부분 적 으로 NiOx 나노 입자 층 과 혼합 되 었 다 . AFM ( atomic force microscopy ) 및 SEM 에 의해 측정 된 유기 HTM 들 의 두께 는 30 내지 40 nm 이 었 다 .