" 제 3 평탄 영역 ( 210 C ) 은 제 2 평탄 표면 영역 ( 210 B ) 로부터 그리고 제 2 평탄 표면 영역 ( 210 B ) 에 실질 적 으로 평행 한 평면 내 에서 선택 적 으로 오프셋 될 수 있 다 . 제 3 평탄 영역 ( 210 C ) 은 제 2 평탄 표면 영역 ( 210 B ) 으로부터 거리 ( D 2 ) 만큼 오프셋 된다 . D 2 는 약 0 . 5 mm 내지 약 2 . 0 mm ( 0 . 020 "" 내지 약 0 . 080 "") 사이 일 수 있 다 . 제 3 평탄 영역 ( 210 C ) 의 오프셋 은 이산 홀 ( 116 B ) 내로 의 흐름 을 도움 으로써 메니스커스 의 트레일 링 에지 ( 104 B ) 의 위치 를 정의 하 는 것 을 돕 는다 . 오프셋 은 제 3 평탄 영역 ( 210 C ) 과 기판 표면 ( 108 A ) 사이 의 거리 및 공간 의 체적 을 증가 시킨다 . 증가 된 공간 은 더욱 많 은 인접 대기 및 유체 ( 114 ) 가 이산 홀 ( 116 B ) 에 접근 하 여 이산 홀 ( 116 B ) 내 로 유입 되 게 한다 . 이 산 홀 ( 116 B ) 내로 의 인접 대기 및 유체 ( 114 ) 의 부가 적 인 흐름 은 진공 에 의해 이산 홀 ( 116 B ) 내 로 반송 되 는 액체 의 나선 형 흐름 ( 242 ) 을 돕 는다 . "