추가 적 으로 , 또는 대안 적 으로 , 도 3 및 도 4 의 시스템 들 을 이용 하 여 더블 패 터닝 ( double patterning ) 이 수행 될 수 있 다 . 더블 패 터닝 을 통해 , 원래 형성 된 평행 한 라인 들 이후 에 평행 한 라인 들 의 제 2 그룹 이 형성 되 도록 , 액추에이터 ( 402 ) 및 스테이지 ( 404 ) 는 기판 ( 301 ) 을 이동 시키 도록 구성 될 수 도 있 다 . 평행 한 라인 들 의 제 2 그룹 은 평행 한 라인 들 의 제 1 그룹 사이 에 형성 될 수 있 다 . 일 실시 예 에서 , 이러 한 더블 패 터닝 은 노광 장치 의 분해능 을 배가 시킬 수 있 다 .