즉 , 본 발명 에 따른 조성물 은 세정 의 균일성 향상 을 위해 계면 활성제 를 더 추가 할 수 있 으며 , 세정 을 방해 하 는 기포 발생 의 억제 를 위해 소포제 를 첨가제 로 사용 할 수 있 다 . 첨가제 의 양 은 제한 되 지 않 으나 , 상기 포토레지스트 제거 용 박리 액 조성물 전체 중량 100 중량 부 에 대하 여 , 첨가제 를 20 중량 부 이하 , 바람직 하 게 는 5 중량 부 이하 의 함량 으로 포함 하 는 것 일 수 있 으며 , 이 에 한정 되 는 것 은 아니 다 . 한편 , 사용 될 수 있 는 계면 활성제 및 소포제 의 예 는 당업 계 에 통상 적 으로 알려져 있 으며 , 예 를 들 어 계면 활성제 로 는 양쪽성 , 양 이온 성 , 음 이온 성 , 비 이온 성 또는 불소 계 계면 활성제 가 사용 될 수 있 고 , 소포제 로 는 실리콘 계 또는 비 실리콘 계 소포제 가 사용 될 수 있 다 .