WO 2006 / 035425 호 및 이 에 대응 하 는 미국 특허 출원 US 11 / 663 , 454 호 에서 는 반도체 나노 입자 들 을 제조 하 기 위한 방법 을 개시 하 고 있 고 , 상기 방법 은 1 ) 용액 에 반도체 화합물 이나 반도체 화합물 들 의 혼합물 을 용해 하 는 단계 와 , 2 ) 반도체 화합물 의 결과 적 용액 의 스프레이 액적 들 을 발생 시키 는 단계 와 , 3 ) 상기 스프레이 액적 의 용매 를 기화 시켜서 , 지지 되 지 않 은 반도체 나노 입자 들 의 스트림 을 생성 하 는 단계 와 , 4 ) 지지 되 지 않 은 반도체 나노 입자 들 을 지 지체 상 에 , 바람직 하 게 는 고체 지 지체 상 에서 수집 하 는 단계 로 구성 된다 .