이 와 같 은 문제점 을 해결 하 기 위해서 대한민국 공개 특허 공보 제 10 - 2008 - 0040129 호 에서 는 ITO 양극 위 에 광 결정 부재 를 형성 하 여 발광 층 에서 형성 된 빛 을 광 결정 을 통해 주입 하 여 계면 에서 의 전반사 효과 를 감소 시켜 광추 출 효율 을 향상 시키 는 방법 을 제시 하 고 있 다 . 그러나 이 와 같 은 광 결정 부재 를 유리 기판 상 에 형성 시키 기 위해서 는 전자선 또는 포토 마스크 를 이용 한 리소그래피 ( lithography ) 공정 을 수행 해야 하 기 때문 에 소자 의 제조 비용 이 상승 하 고 공정 효율 이 저하 되 는 문제점 이 발생 한다 .