이어서 , 스 페이서 ( 116 ) 를 이온 주입 마스크 로 이용 한 이온 주입 공정 을 실시 하 여 N - 확산 영역 ( 115 ) 의 상부 표면 에 P 0 확산 영역 ( 117 ) 을 형성 한다 . 이때 , 스 페이서 ( 116 ) 저부 에 대응 되 는 N - 확산 영역 ( 115 ) 내 에 는 포 텐 셜 베리어 가 형성 된다 . 이러 한 포 텐 셜 베리어 는 P 0 확산 영역 ( 117 ) 의 도핑 농도 와 트레이드 오프 관계 를 갖 기 때문 에 P 0 확산 영역 ( 117 ) 의 도핑 농도 가 증가 할 수록 포 텐 셜 베리어 는 낮 아 지 게 된다 .