이후 , 워드 라인 컷 개구부 ( 180 H ) 에 의해 노출 되 는 복수 의 희생 층 ( 310 ) ( 도 24 참조 ) 을 제거 하 여 , 복수 의 희생 층 ( 310 ) 이 제거 된 위치 에 복수 의 게이트 공간 ( 130 GS ) 을 형성 하 고 , 복수 의 게이트 공간 ( 130 GS ) 의 내벽 상 에 예비 게이트 전극 층 ( 130 P ) 을 형성 할 수 있 다 .