한편 , 상기 제 1 도가니 ( 320 ) 는 CVD 와 같 은 증착 챔버 내 에 마련 되 는 증착 공간 의 하측 에 배치 되 며 , 증착 공간 내 에 인입 되 어 위치 된 기판 ( 10 ) 측 으로 제 1 증착 물질 을 증발 시켜 준다 . 본 발명 에서 는 클러스터 타입 의 증착 챔버 에서 증착 공간 의 상측 으로 증착 물질 이 증착 될 기판 ( 10 ) 이 인입 되 고 , 상술 한 도가니 와 선형 증발원 들 을 포함 하 는 증착 셀 이 스캔 방향 ( 도 2 에서 의 좌우 방향 ) 으로 이동 하 면서 증착 한 후 , 증착 이 완료 되 면 상기 기판 ( 10 ) 이 다시 증착 챔버 의 외부 로 반출 되 는 구성 을 갖 는다 .