본 발명자 등 은 예의 노력 의 결과 글 래스 조성 중 의 Cr 3 + 가 글래스 기판 의 투과율 을 저하 시켜 용융 결함 검사 의 검사 정밀도 에 큰 영향 을 끼치 는 것 을 찾아내 고 , Cr 3 + 의 영향 을 평가 하 는 지표 로서 경로 길 이 50 ㎜ 에 있 어서 의 파장 550 ㎚ 의 투과율 과 경로 길 이 50 ㎜ 에 있 어서 의 파장 650 ㎚ 의 투과율 의 차이 를 규제 했 다 . 즉 , 본 발명 의 글래스 기판 은 기판 치수 가 1100 ㎜ × 1250 ㎜ 이상 인 경우 에 경로 길 이 50 ㎜ 에 있 어서 의 파장 550 ㎚ 의 투과율 과 경로 길 이 50 ㎜ 에 있 어서 의 파장 650 ㎚ 의 투과율 의 차이 를 3 % 이하 로 규제 하 고 , Cr 3 + 에 기인 해서 용융 결함 검사 의 검사 정밀도 가 저하 하 는 사태 를 방지 하 고 있 다 . 여기 서 , Cr 3 + 의 흡수 가 적 은 파장 550 ㎚ 의 투과율 과 Cr 3 + 의 흡수 가 큰 파장 650 ㎚ 의 투과율 의 차이 가 큰 만큼 Cr 3 + 의 영향 이 큰 것 을 의미 하 고 있 다 .