상술 한 성분 에 더 하 여 , 계면 활성제 및 용해 저 지제 와 같 은 다른 성분 을 목적 에 따라서 적절 하 게 조합 하 고 배합 하 여 포지티브 형 레지스 트 재료 를 구성 할 수 있 다 . 이러 한 포지티브 형 레지스 트 재료 는 노광 부 에서 의 베이스 폴리머 의 현상액 에서 의 용해 속도 가 촉매 반응 에 의해 가속 되 기 때문 에 매우 고감도 이 다 . 또한 , 레지스 트 막 의 용해 콘트 라스트 , 해상 성 이 높 고 , 노광 여유도 가 있 고 , 프로세스 적응성 이 우수 하 며 , 노광 후 의 패턴 형상 이 양호 하 면서 특히 산 확산 을 억제 할 수 있 으므로 조밀 치수 차 가 작 다 . 이러 한 장점 으로 , 상기 재료 는 상업 적 응용 분야 에서 완전 하 게 유용 하 며 , VLSI 의 제 조시 패턴 형성 재료 로서 적합 하 다 .