도 1 b 를 보 면 , 감광막 ( 100 ) 이 제거 된 채 , 실리콘 ( 102 ) 과 실리콘 산화 막 ( 101 ) 층 만 남 아 있 고 , 현재 의 주로 쓰이 는 플 라즈 마 감광막 제거 방법 , 또는 플 라즈 마 감광막 제거 방법 과 그 후 의 습식 클리닝 ( Wet cleaning ) 에 의하 는 경우 와 비교 하 여 감광막 ( 100 ) 이 제거 되 었 다는 점 에서 는 결과 가 같 으나 , 다음 의 도 2 에 나타난 실험 결과 에 의하 면 모바일 이온 의 생성 억제 효과 가 본 발명 에서 더 유리 함 을 알 수 있 다 .