이후 에 , 리플 로우 과정 에 관련 된 모델 링 제 2 변수 를 추출 한다 ( 105 ) . 리플 로우 과정 은 , 도 3 에 제시 된 바 와 같이 , 포토레지스트 패턴 ( 도 2 의 250 ) 에 일정 온도 로 열 을 인가 하 여 포토레지스트 가 흐르 게 하 는 과정 으로 , 이 에 따라 보다 좁 아 진 선폭 을 가지 는 오프닝 ( 253 ) 을 가지 는 리플 로우 된 포토레지스트 패턴 ( 255 ) 이 형성 된다 . 이러 한 리플 로우 된 포토레지스트 패턴 ( 255 ) 에 대한 정보 를 얻 는다 .