건조 된 웨이퍼 를 SEM 을 통해 관찰 하 여 , 상기 제 1 영역 에서 는 PAMS 도메인 이 제거 되 어 형성 된 폭 35 nm 의 스페이스 와 PMMA 도메인 과 그 양측 의 PS 도메인 들 로 이루어진 폭 105 nm 의 라인 을 갖 는 제 1 미세 마스크 패턴 이 형성 된 것 을 확인 하 였 다 . 또한 , 상기 제 2 영역 에서 는 PAMS 도메인 또는 PMMA 도메인 이 제거 되 어 형성 된 폭 35 nm 의 스페이스 와 PS 도메인 으로 이루어진 폭 35 nm 의 라인 을 갖 는 제 2 미세 마스크 패턴 이 형성 된 것 을 확인 하 였 다 . 제 1 영역 에 형성 된 상기 제 1 미세 마스크 패턴 은 라인 폭 과 스페이스 폭 의 비 가 3 : 1 이 며 , 패턴 피치 는 140 nm 이 었 고 , 상기 제 2 영역 에 형성 된 상기 제 2 미세 마스크 패턴 은 라인 폭 과 스페이스 폭 의 비 가 1 : 1 이 며 , 패턴 피치 는 70 nm 이 었 다 .