스 트레 서 층 들 은 전형 적 으로 트랜지스터 의 채널 영역 에 스트레스 를 생성 시켜 , 채널 영역 내 의 캐리어 이동성 을 향상 시키 기 위해 사용 된다 . 스 트레 서 층 들 은 전형 적 으로 실리사이드 ( silicide ) 형성 후 에 증착 된다 . 스 트레 서 층 들 에 의해 채널 영역 내 에 유도 되 는 스트레스 는 , 스 트레 서 층 들 이 형성 되 는 온도 의 작용 이 다 . 고온 에서 실리사이드 들 의 열 적 불 안정 성 으로 인해 , 고온 에서 스 트레 서 층 들 이 형성 될 수 없 다 .