제 2 식각 공정 은 건식 식각 공정 으로 수행 하 며 , HBr 및 O 2 의 혼합 가스 또는 HBr , Cl 2 및 O 2 의 혼합 가스 를 사용 하 여 실시 할 수 있 다 . 특히 , 제 2 식각 공정 시 사용 되 는 제 1 하드 마스크 막 ( 108 ) 이 A - 카본 으로 형성 된 경우 , 식각 공정 이 진행 되 는 동안 에 폴리머 ( 118 ) 가 발생 하 게 된다 . 폴리머 ( 118 ) 는 식각 되 는 막 ( 예 를 들 어 , 제 1 도 전막 ( 104 ) ) 의 측벽 부근 에 적층 되 며 , 적층 된 폴리머 ( 118 ) 는 다시 식각 마스크 로 작용 한다 . 이 로 인해 , 제 1 도 전막 ( 104 ) 은 하부 로 갈수록 폭 이 좁 아 지 는 형태 로 형성 된다 .