성막 장치 ( Unaxis 사 제조 , 상품명 : Sprinter ) 를 사용 하 여 , ZnS － SiO 2 막 ( 4 a ) 의 성막 후 , 대기 폭로 하 지 않 고 , Si 3 N 4 ( 4 b ) 에 대신 하 여 막 두께 4 nm 의 SCZ 막 ( 4 b ) 을 성막 하 는 이외 의 것 은 , 실시 예 2 - 1 ~ 2 - 5 , 비 교예 2 - 1 과 마찬가지 로 하 여 광 기록 매체 ( 10 ) 를 얻 었 다 .