본 발명 의 포지티브 형 포토레지스트 조성물 은 , 본 발명 의 ( 메트 ) 아크릴 계 중합체 및 광산 발생 제 를 함유 하 는 것 이 면 특별히 한정 되 지 않 지만 , 포지티브 형 포토레지스트 조성물 100 질 량부 에 대해서 , ( 메트 ) 아크릴 계 중합체 를 2 ∼ 50 질량 부 함유 하 는 것 이 바람직 하 고 , 5 ∼ 15 질량 부 함유 하 는 것 이 보다 바람직 하 다 .