이러 한 저유 전막 들 은 탄소 ( C ) 를 함유 하 는 소스 기체 를 이용 하 여 형성 하 는 경우 가 많 고 , 이 경우 PECVD 장치 의 공정 챔버 를 주기 적 으로 세정 해야 한다 . 공정 챔버 내 파티클 생성 을 줄이 고 저유 전막 의 막 질 을 높이 기 위해서 는 매 기판 처리 시 마다 공정 챔버 를 세정 하 는 것 이 좋 으나 , 이 경우 생산 속도 가 떨어지 는 문제 가 있 다 .