노광 장치 ( 1 ) 는 , 조명 장치 ( 800 ) 와 , 원판 ( 마스크 ) 인 레티 클 ( 31 ) 을 재치 하 는 레티 클 스테이지 RS 와 , 투영 광학계 ( 35 ) 와 , 기판 인 웨이퍼 ( 3 ) 를 싣 는 웨이퍼 스테이지 AS 와 , 검출 장치 ( 100 ) 와 , 연산 프로세서 ( 400 ) 를 가진다 . 웨이퍼 스테이지 WS 위 에 는 기준 부재 ( 39 ) 가 배치 된다 . 제 어부 ( 1100 ) 는 , CPU 와 메모리 를 갖 고 , 조명 장치 ( 800 ) , 레티 클 스테이지 RS , 웨이퍼 스테이지 WS , 검출 장치 ( 100 ) 와 각각 전기 적 으로 접속 되 어 , 노광 장치 의 전체 의 동작 을 제어 한다 . 예 를 들 면 , 제 어부 ( 1100 ) 는 , 검출 장치 ( 100 ) 에 의해 얻 어 지 고 웨이퍼 스테이지 WS 에 의해 지지 된 기판 위 에 배치 된 복수 의 마크 의 검출 의 결과 에 근거 하 여 , 기판 의 위치 결정 을 제어 한다 . 제 어부 ( 1100 ) 는 , 검출 장치 ( 100 ) 에 의해 웨이퍼 ( 3 ) 위 의 마크 를 검출 할 때 의 계측 값 의 산출 , 계측 오프셋 값 의 산출 , 보정 연산 , 제어 등 을 행하 는 , 검출 장치 ( 100 ) 의 프로세서 로서 도 기능 할 수 있 다 .