종래 , 이 종류 의 장치 로서 , 기판 에 레지스 트 막 을 형성 함 과 아울러 , 별체 ( 別體 ) 의 노광기 에서 노광 된 기판 을 현상 하 는 기판 처리 장치 가 있 다 . 이 장치 는 , 레지스 트 막 형성 처리 를 행하 는 도포 처리 블록 과 현상 처리 를 행하 는 현상 처리 블록 등 이 나란히 구성 되 어 있 는 처 리부 를 구비 하 고 있 다 . 각 ( 各 ) 처리 블록 은 , 단일 주 ( 主 ) 반송 기구 와 , 각종 처리 유닛 을 구비 하 고 있 다 . 각 처리 블록 의 주 반송 기구 는 그 처리 블록 에 설치 되 는 처리 유닛 에 기판 을 반송 하 면서 , 인접 하 는 다른 처리 블록 의 주반 송기 구와 의 사이 에서 기판 의 주고받 기 를 행한다 . 이 에 의해 , 복수 의 기판 은 각종 처리 유닛 에 순차 반송 되 어 , 일련 의 처리 를 기판 에 행한다 . 일련 의 처리 로서 는 , 기판 에 레지스 트 막 을 형성 하 기 위한 , 및 , 기판 을 현상 하 기 위한 공정 이 예시 된다 . 이 공정 은 , 종류 가 다른 복수 의 처리 를 포함 함 과 아울러 , 외부 의 노광기 에서 노광 하 는 처리 를 포함 한다 . 각 ( 各 ) 주 반송 기구 는 복수 의 기판 을 병행 해서 반송 하 여 , 각 ( 各 ) 기판 에 행하 는 처리 공정 을 순차 진행 시킨다 ( 예 를 들 면 , 일본국 특허 공개 2003 - 324139 호 공보 에 개시 된다 ) .