도 2 에서 는 , 통계 값 으로서 평균값 을 이용 하 고 있 다 . 센서 값 의 각 열 은 센서 의 종류 에 대응 하 고 , 각 행 은 웨이퍼 1 매 1 매 에 대응 하 고 있 다 . 센서 값 과 함께 , 장치 ID 나 가공 스텝 ID , 가공 조건 ID , 웨이퍼 ID 등 의 정보 도 저장 되 어 있 다 . 장치 ID 는 , 가공 을 행한 플라스마 처리 장치 ( 1 ) 를 특정 하 는 정보 이 다 . 가공 스텝 ID , 가공 조건 ID 는 각각 가공 스텝 , 가공 조건 을 특정 하 는 정보 이 며 , 감시 대상 의 지정 에 이용 한다 . 웨이퍼 ID 에 는 , 가공 한 웨이퍼 를 특정 하 는 정보 를 저장 한다 . 관리 값 기억 부 ( 13 ) 는 , 가공 일시 나 가공 조건 등 의 관리 값 을 기억 한다 .