다른 실시 예 에서 , 주입 시스템 은 주입 된 스트림 의 정렬 을 달성 하 기 위해 적어도 하나 의 용융 금속 스트림 을 편향 시키 기 위한 자기장 및 전기장 중 적어도 하나 의 소스 와 같 은 필드 소스 를 포함 할 수 있 다 . 주입 된 용융 금속 스트림 중 적어도 하나 는 홀 및 점 화 전류 와 같 은 적어도 하나 의 전류 와 인가 된 자기장 사이 의 인가 된 자기장 과 힘 을 통한 대응 전도체 의 이동 으로 인한 로렌츠 힘 에 의해 편향 될 수 있 다 . 편향 은 자기장 세기 , 용융 금속 유량 및 점 화 전류 중 적어도 하나 를 제어 함 으로써 제어 될 수 있 다 . 자기장 은 영구 자석 , 냉각 될 수 있 는 전자석 및 초전 도 자석 중 적어도 하나 에 의해 제공 될 수 있 다 . 자기장 세기 는 전류 를 제어 함 으로써 자석 과 용융 스트림 사이 의 거리 및 자기장 세기 를 제어 하 는 것 중 적어도 하나 에 의해 제어 될 수 있 다 .