다음 으로 , 노광 / 현상 공정 을 통해 패턴 에 따라 포토 레지스 트 를 제거 한다 . 즉 , 제작 하 고자 하 는 형상 의 마스크 패턴 ( 12 ) 이 부착 된 유리 기판 ( 13 ) 을 상기 베이스 기판 ( 10 ) 상 에 정렬 하 여 포토 레지스 트 ( 11 ) 를 노광 시켜 마스트 패턴 이 ( 12 ) 없 는 영역 의 포토 레지스 트 를 제거 한다 ( S 22 ) .