본 발명 의 한 관점 은 웨이퍼 들 을 처리 하 는 방법 들 을 제공 한다 . 본 발명 의 이러 한 관점 에 따른 방법 은 바람직 하 게 는 축 에 대하 여 캐리어 를 회전 시키 는 단계 들 을 포함 한다 . 캐리어 는 , 축 에 평행 하 게 상향 방향 으로 접해 있 는 웨이퍼 들 의 최 상부 표면 들 을 구비 한 복수 의 웨이퍼 들 을 그 캐리어 상 에 배치 되 도록 구비 한다 . 이러 한 방법 은 , 회전 단계 동안 웨이퍼 들 을 처리 ( treat ) 하 는 것 뿐 만 아니 라 , 회전 단계 동안 캐리어 의 위쪽 으로 향한 지지 표면 들 상 에서 웨이퍼 들 을 지지 하 는 것 과 , 회전 단계 동안 지지 표면 들 로부터 먼 방향 으로 웨이퍼 들 이 상향 이동 하 지 못하 도록 제한 하 는 것 을 포함 한다 . 그 처리 단계 는 캐리어 로부터 웨이퍼 들 로 열 을 전달 하 는 단계 를 포함 한다 . 예 를 들 어 , 이상 에서 논의 된 화학 기상 증착 프로세스 는 회전 단계 동안 수행 될 수 있 다 . 이러 한 방법 은 바람직 하 게 는 , 회전 단계 동안 그 축 으로부터 먼 방향 으로 웨이퍼 들 이 방사상 이동 을 하 지 못하 도록 제한 하 는 단계 를 더 포함 한다 . 본 발명 의 이러 한 관점 에 따른 바람직 한 방법 들 에서 , 웨이퍼 들 이 상향 이동 하 지 못하 도록 제한 하 는 것 은 , 캐리어 와 웨이퍼 들 간 의 열 전달 에 대한 웨이퍼 왜곡 의 효과 들 을 제한 하 고 , 따라서 이하 에서 더 논의 되 는 바 와 같이 웨이퍼 표면 온도 의 균일성 을 개선 시킨다 .