완전 한 유동 화 를 보장 하 기 위하 여 , 재순환 흐름 및 원 하 는 경우 보충 흐름 의 적어도 일부 는 재순환 라인 ( 122 ) 을 통해 반응기 , 예 를 들 어 층 아래 의 입구 ( 126 ) 에 복귀 될 수 있 다 . 바람직 하 게 는 , 복귀 지점 하류 에 기체 분배 기 판 ( 128 ) 이 존재 하 여 층 의 균일 한 유동 화 를 돕 고 , 개시 전 또는 시스템 이 중단 될 때 고체 입자 를 지지 한다 . 층 을 통해 그리고 층 으로부터 상향 하 는 흐름 은 발열성 중합 반응 으로 발생 한 반응열 을 제거 하 는 것 을 돕 는다 .