필드 강도 설정 디바이스 ( 24 ) 는 , 오브젝트 필드 ( 19 ) 의 조명 각도 분포 에 거의 영향 을 갖 지 않 는 강도 효과 를 갖 는다 . 이것 은 이하 도 7 에 의해 설명 될 것 이 다 . 도면 은 , 동공 패 싯 미러 ( 10 ) 가 배열 되 는 , 동공 면 ( 31 ) 으로부터 필드 면 ( 16 ) 을 가로질러 레티 클 면 ( 17 ) 까지 의 , 3 개 의 방사 서브 다발 들 ( 28 , 29 , 30 ) 의 경로 를 개략 적 으로 예시 한다 . 실제로 는 3 개 의 방사 서브 다발 들 ( 28 , 29 , 30 ) 의 광 경로 내 에 연속 적 으로 배열 되 는 면 들 ( 31 , 16 , 17 ) 이 , 예시 의 목적 을 위해 도 7 에서 서로 이웃 하 여 도시 된다 . 하기는 , 도 4 에 따른 필드 패 싯 미러 ( 6 ) 의 필드 패 싯 들 ( 7 ) 이 완전 하 게 일치 하 는 방식 으로 필드 면 ( 16 ) 내 로 이미 징 되 는 , 이상 화 된 가정 에 기반 한다 . 필드 면 ( 16 ) 내 의 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 의 에지 경계 는 따라서 , 필드 패 싯 들 ( 7 ) 중 하나 의 단일 이미지 와 x - 방향 과 y - 방향 의 양쪽 으로 동일 한 범위 를 갖 는다 . 따라서 , 그러 한 완전 한 중첩 의 경우 에 는 , 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 은 , 필드 패 싯 들 ( 7 ) 의 x / y 종횡비 와 완전 하 게 동등 한 x / y 종횡비 를 갖 는다 . 필드 면 ( 16 ) 의 상이 한 조명 방향 들 로 할당 되 는 그리고 따라서 방사 서브 다발 들 ( 28 내지 30 ) 도 포함 하 는 모든 방사 서브 다발 들 ( 28 ) 은 , 그것 들 의 전체 단면 을 가로질러 필드 면 ( 16 ) 내 에서 일치 한다 . 특히 , 개별 적 인 다이어프램 들 ( 27 ) 을 면하 는 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 의 에지 ( 32 ) 는 동시 에 3 개 의 방사 서브 다발 들 ( 28 내지 30 ) 의 전체 에 의해 형성 되 고 조명 된다 . 따라서 , 에지 ( 32 ) 로부터 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 을 커버 하 는 , 개별 적 인 다이어프램 들 ( 27 ) 은 , 정확히 동일 한 , 전체 방사 서브 다발 들 ( 28 내지 30 ) 상 에 , 환언 하 면 조명 - 각도 - 독립 , 강도 효과 를 갖 는다 . 방사 서브 다발 들 ( 28 내지 30 ) 에 대해서 , 이것 은 , 일 측 에서 활성 인 직사각 형 그늘 에 의해 , 도 7 의 우측 에서 동공 면 ( 31 ) 내 에 개략 적 으로 표시 된다 . 동공 면 ( 31 ) 내 의 이 들 그늘 들 은 실제 다이어프램 들 이 되 지 는 않 는다 .