본 발명 에 따르 면 , 축전 디바이스 용 미 다 공막 의 강도 및 개 공성 을 손상 시키 지 않 고 , 고온 하 에서 의 내파 막성 의 향상 을 달성 시킬 수 있 고 , 미 다 공막 을 세 퍼 레이터 로서 구비 하 는 축전 디바이스 의 전지 특성 과 못 찌르 기 시험 에서 의 높 은 안전 성 을 양립 시킬 수 있 다 . 또한 , 본 발명 에 따르 면 , 제막 프로세스 중 또는 그 직후 에 가교 구조 를 형성 하 지 않 아도 되 므로 , 세 퍼 레이터 의 내부 응력 의 증가 및 축전 디바이스 제작 후 의 변형 을 억제 할 수 있 고 / 있 거나 광 조사 혹은 가온 등 의 비교 적 높 은 에너지 를 사용 하 지 않 아도 세 퍼 레이터 에 가교 구조 를 부여 할 수 있 다 .