상술 한 바 와 같이 , 기판 ( 2 ) 상 에 형성 된 복수 의 샷 영역 각각 에 적합 한 임프 린트 처리 는 샷 영역 에 따라 및 기판 등록 공정 에서 각각 의 샷 영역 에 대해 규정 된 샷 영역 에 대해 지정 된 프로파일 에 따라 임프 린트 처리 를 행함 으로써 행해질 수 있 다 . 이 에 의해 생산 성 ( 스루풋 ) 의 저하 없이 복수 의 샷 영역 에 대해 적절 한 임프 린트 처리 를 실행 할 수 있 다 .