상술 한 설명 에서 는 광이 조사 된 영역 이 후속 현상 공정 에서 제거 되 는 오버 코트 막 ( 131 ) 에 관해 설명 하 였 지만 본 발명 은 이 에 한정 되 지 않 고 광이 조사 된 영역 이 잔류 하 는 오버 코트 막 ( 131 ) 을 사용 할 수 도 있 다 . 즉 , 포지티브 특성 은 물론 네거티브 특성 의 감광성 물질 을 모두 사용 할 수 있 다 .