본 발명 은 에칭 가스 를 이용 하 여 나노 구조 체의 하나 인 나노 막대 를 제조 하 는 장치 및 그 제조 방법 에 관한 것 으로 , 특히 HVPE 법 으로 기판 상부 에 나노 막대 를 성장 시키 면서 에칭 가스 의 유량 을 조절 하 여 공급 함 으로써 기판 상부 에서 성장 하 는 나노 막대 의 길이 와 직경 을 조절 하 여 원 하 는 나노 막대 를 얻 을 수 있 는 에칭 가스 를 이용한 나노 막대 제조 장치 및 그 제조 방법 을 제공 한다 .