플 라즈 마가 상기 논의 된 바 와 같이 사용 될 수 도 있 는 일부 실시 예 들 에서 , 샤워 헤드 ( 406 ) 및 페데 스탈 ( 408 ) 은 플 라즈 마 에 전력 을 공급 하 기 위해 RF 전력 공급 부 ( 414 ) 및 매칭 네트워크 ( 416 ) 와 전기 적 으로 통신 한다 . 일부 실시 예 들 에서 , 플라 즈 마 에너지 는 프로세스 스테이션 압력 , 가스 농도 , RF 소스 전력 , RF 소스 주파수 , 및 플 라즈 마 전력 펄스 타이밍 중 하나 이상 을 제어 함 으로써 제어 될 수 도 있 다 . 예 를 들 어 , RF 전력 공급 부 ( 414 ) 및 매칭 네트워크 ( 416 ) 는 목표 된 조성 의 라디칼 종 들 을 갖 는 플 라즈 마 를 형성 하 도록 , 임의 의 적합 한 전력 으로 동작 될 수 도 있 다 . 적합 한 전력 들 의 예 들 은 약 150 W 내지 약 6000 W 이 다 . 플라 즈 마는 실리콘 나이트 라이드 에 상대 적 으로 실리콘 옥사이드 상 의 실리콘 옥사이드 의 선택 적 인 증착 전 에 실리콘 나이트 라이드 표면 의 처리 동안 사용 될 수 도 있 다 . RF 전력 공급 부 ( 414 ) 는 임의 의 적합 한 주파수 의 RF 전력 을 제공 할 수 도 있 다 . 일부 실시 예 들 에서 , RF 전력 공급 부 ( 414 ) 는 서로 독립 적 으로 고 주파수 및 저 주파수 RF 전력 소스 들 을 제어 하 도록 구성 될 수 도 있 다 . 예 시 적 인 저 주파수 RF 주파수 들 은 이 로 제한 되 는 것 은 아니 지만 , 0 ㎑ 내지 500 ㎑ 의 주파수 를 포함 할 수 도 있 다 . 예 시 적 인 고 주파수 RF 주파수 들 은 이 로 제한 되 는 것 은 아니 지만 , 1 . 8 ㎒ 내지 2 . 45 ㎓, 또는 약 13 . 56 ㎒ 보다 큰 , 또는 27 ㎒ 보다 큰 , 또는 40 ㎒ 보다 큰 , 또는 60 ㎒ 보다 큰 주파수 들 을 포함 할 수 도 있 다 . 표면 반응 들 을 위한 플 라즈 마 에너지 를 제공 하 도록 임의 의 적합 한 파라미터 들 이 이 산 적 으로 또는 연속 적 으로 조절 될 수 도 있 다는 것 이 이해 될 것 이 다 .