스팟 ( S ) 으로 조명 되 는 타 겟 ( T ) 의 비대칭 성 을 측정 하 기 위해 , 제 2 검사 장치 ( 400 ) 내 의 제 2 검출 시스템 에 의해 포착 되 는 제 2 스펙트럼 데이터 ( 484 ) 는 계측 프로세싱 유닛 ( 320 ) 으로 전달 되 고 , 회절 스펙트럼 에서 의 비대칭 성 을 식별 하 도록 분석 된다 . 비대칭 성 및 / 또는 주목 하 는 하나 이상 의 다른 파라미터 의 향상 된 측정치 를 계산 하 기 위해 , 제 2 스펙트럼 데이터 는 , 제 1 스펙트럼 데이터 ( 382 ) 와 함께 사용 될 수 있 다 . 상기 에서 언급 되 며 참조 에 의해 본원 에 통합 되 는 국제 출원 번호 PCT / EP 2016 / 080058 에서 설명 되 는 바 와 같이 , 데이터 를 결합 하 는 방식 은 변할 수 있 다 . 예 를 들 면 , 검사 장치 중 하나 로부터 획득 되 는 스펙트럼 데이터 에 기초 하 여 , 다른 검사 장치 의 계측 레시피 는 , 그 다른 장치 에 의해 스펙트럼 이 포착 되 기 이전 에 , 조정 될 수 도 있 다 . 대안 적 으로 또는 추가 적 으로 , 검사 장치 중 하나 로부터 획득 되 는 스펙트럼 데이터 는 , 다른 계측 장치 로부터 획득 되 는 스펙트럼 데이터 를 사용 하 여 구조 체의 속성 을 계산 하 기 이전 에 , 완전 한 타 겟 구 조체 ( T ) 의 일부 의 구조 체 및 / 또는 재료 를 특성 묘사 하 기 위해 사용 될 수 도 있 다 . 이 들 모든 동작 은 계측 프로세서 ( 320 ) 에 의해 자동 화 될 수 도 있 다 .