" 본 발명 의 조성물 은 변형 된 방출 투여 형 으로 제제화 될 수 있 다 . 본원 에서 사용 된 용어 "" 변형 된 방출 ( modified release ) "" 은 동일 한 경로 로 투여 될 때 활성 성분 ( 들 ) 의 방출 속도 또는 방출 장소 가 즉각 적 인 투여 형 의 방출 속도 또는 방출 장소 와 상이 한 투여 형 을 지칭 한다 . 변형 방출 형 은 지연 형 ", 연장 형 , 지속 형 , 박동 성 , 조절 형 , 촉진 형 및 신속 형 , 표적 화형 , 프로그램 된 방출 형 및 위장 유지 형 을 포함 하 지만 이 에 한정 되 지 는 않 는다 . 변형 된 방출 투여 형 의 본 발명 조성물 은 매트릭스 조절 방출 장치 , 삼투압 조절 방출 장치 , 다 입자 조절 방출 장치 , 이온 교환 수지 , 장용 코팅 , 다층 코팅 , 미세 구 , 리포솜 및 이 들 의 조합 물 을 포함 하나 이 에 한정 되 지 는 않 는다 . 활성 성분 ( 들 ) 의 방출 속도 는 활성 성분 ( 들 ) 의 입자 크기 및 다 형체 를 변화 시킴 으로써 또한 변경 될 수 있 다 .