본 발명 은 칼라 필터 및 마이크 로 렌즈 를 형성 한 후 금속 패드 표면 에 잔류 하 는 이 물질 을 플 라즈 마 처리 를 통해 제거 함 으로써 이미지 소자 의 신뢰 성 및 수율 을 향상 시키 도록 한 씨 모스 이미지 센서 의 제조 방법 에 관한 것 으로서 , 액티브 영역 과 패드 영역 으로 구분 되 는 기판 상 의 패드 영역 에 금속 패드 를 형성 하 는 단계 와 , 상기 금속 패드 를 포함 한 기판 전면 에 보호막 을 형성 하 고 상기 금속 패드 의 표면 이 노출 되 도록 상기 보호막 을 선택 적 으로 제거 하 여 패드 오픈 부 를 형성 하 는 단계 와 , 상기 반도체 기판 의 액티브 영역 에 평탄 화 층 을 형성 하 는 단계 와 , 상기 평탄 화 층상 에 칼라 필터 층 을 형성 하 는 단계 와 , 상기 반도체 기판 의 전면 에 플 라즈 마 처리 를 실시 하 여 상기 금속 패드 표면 의 이 물질 을 제거 하 는 단계 와 , 상기 칼라 필터 층 상측 에 마이크 로 렌즈 를 형성 하 는 단계 를 포함 하 여 형성 함 을 특징 으로 한다 .