먼저 , 상기 성장 챔버 는 그 내부 에 적어도 하나 의 에피 택 셜 성장 기판 ( 5 ) 및 적어도 하나 의 본 발명 의 내부 인젝션 ( injection ) 장치 ( 13 ) 를 포함 할 수 있 는 크기 및 구성 을 갖 는다 . 그렇 지 않 으면 , 상기 성장 챔버 는 다양 한 구성 및 크기 를 가질 수 있 는데 , 예컨대 , 장방형 , 원형 또는 다른 형상 의 수평 단면 , 예컨대 평면형 , 돔 형 으로 형성 될 수 있 는 상부 및 하 부면 및 기타 다른 구성 옵션 을 가질 수 있 다 . 상기 성장 챔버 는 적어도 하나 의 배기 포트 ( 9 ) 를 포함 하 는데 , 이 배기 부 를 통해 사용 된 개스 E 가 챔버 로부터 빠져 나간다 . 선택 적 으로 , 상기 성장 챔버 는 상기 내부 인 젝 터 ( 13 ) 에 의해 제공 되 는 것 들 외 의 추가 인 젝 터 포트 를 포함 할 수 있 는데 , 이 추가 인 젝 터 부 를 통해 개스 또는 개스 들 D 로 개략 도시 된 다양 한 공정 개스 들 이 챔버 내 로 도입 될 수 있 다 . 개략 적 으로 포트 ( 3 ) 으로 도시 된 이 추가 포트 들 은 기술 분야 에 공지 된 많 은 구성 빛 배열 을 가질 수 있 다 . 상기 성장 챔버 는 자 화기 ( susceptor : 7 ) 와 같 은 통상 의 구성 요소 들 과 결합 될 수 있 는데 , 상기 자 화기 는 성장 기판 ( 5 ) 을 지지 하 도록 회전 실장 ( rotatably - mounted ) 될 수 있 다 .