본 발명 의 또 다른 형태 에 따르 면 , 기판 을 처리 하 는 처리 용기 와 , 상기 처리 용기 내 에 원료 가스 를 공급 하 는 원료 가스 공급 관 과 , 상기 처리 용기 내 에 질소 를 포함 하 는 가스 를 공급 하 는 질소 함유 가스 공급 관 과 , 상기 처리 용기 내 에 산소 를 포함 하 는 가스 를 공급 하 는 산소 함유 가스 공급 관 과 , 상기 질소 를 포함 하 는 가스 또는 산소 를 포함 하 는 가스 를 플 라즈 마 에 의해 활성 화 하 는 플 라즈 마 유 니트 와 , 상기 처리 용기 내 를 가열 하 는 히터 와 , 상기 처리 용기 내 에 원료 가스 를 공급 함 으로써 기판 상 에 박막 을 형성 하 고 , 상기 처리 용기 내 에 질소 를 포함 하 는 가스 를 플 라즈 마 또는 히터 에 의한 열 로 활성 화 하 여 공급 함 으로써 , 상기 박막 을 질화 막 으로 개질 하 고 , 상기 처리 용기 내 에 산소 를 포함 하 는 가스 를 플 라즈 마로 활성 화 하 여 공급 함 으로써 , 상기 질화 막 을 산화 막 으로 개질 하 여 이 를 1 사이클 로 하 고 , 이 사이클 을 적어도 1 회 이상 수행 하 도록 제어 하 는 컨트롤러 를 포함 하 는 기판 처리 장치 가 제공 된다 .