표피 층 이 본 발명 의 무지개 빛 필름 을 형성 하 는 다른 다수 의 층 과 공 - 압출 된 후 에 , 압출 된 필름 을 냉각 롤 로 보내 고 여기 에서 비 친화성 표피 층 이 냉각 또는 주조 롤 과 접촉 한다 . 이것 은 주조 롤 온도 가 광학 코어 중합체 를 위해 보통 사용 되 는 냉각 온도 보다 30 내지 80 ℉ 더 낮 은 온도 인 경우 에 매우 유용 하 다 . 예 를 들 어 , PBT 표피 층 이 폴리 부틸렌 테레프탈 레이트 및 폴리 메틸렌 에 타 크릴 레이트 의 교대 배열 층 을 함유 하 는 코어 필름 과 공 - 압출 된다면 , 전형 적 인 냉각 온도 는 약 160 내지 180 ℉ 이 다 . 본 발명 에 따르 면 , PBT / PMMA 코어 필름 의 한쪽 면 위 에 폴리에틸렌 표피 층 을 함유 하 는 다층 필름 의 냉각 은 약 90 내지 100 ℉ 에서 이루어질 것 이 다 . 폴리에틸렌 층 이 낮 은 온도 에서 다층 필름 의 다른 층 을 형성 하 는 재료 보다 더 빠른 속도 로 고형 화 되 기 때문 에 , 표피 층 과 접촉 하 는 필름 표면 에서 어느 정도 의 주름 형성 또는 평면 뒤틀림 이 형성 될 뿐 만 아니 라 표면 아래 및 심지어 전체 필름 에 걸쳐서 뒤틀림 이 존재 하 는 것 으로 보인다 . 필름 의 평면 성 을 붕괴 시키 는데 있 어서 최선 의 결과 를 달성 하 기 위하 여 , " 공 - 압출 된 표피 층 간 의 고형화 온도 와 다층 필름 을 형성 하 는 나머지 층 의 고형화 온도 가 실질 적 으로 상이 해야 한다 . 여기 에서 사용 된 바 와 같이 "" 실질 적 으로 상이 한 "" 은 공 - 압출 된 표피 층 의 고형화 온도 가 코어 층 을 형성 하 기 위해 사용 되 는 고형화 온도 보다 약 25 ％ 이상 더 낮 아야 함 을 의미 한다 . 코어 층 보다 40 ％ 이상 낮 은 ", 공 - 압출 된 표피 층 을 위한 고형화 온도 가 또한 예시 된다 .