구체 적 으로 , 제 1 마스크 ( 402 ) 가 제 4 예비 게이트 구조물 ( 168 ) 의 측 부 및 제 4 예비 게이트 구조물 ( 168 ) 측벽 상 의 제 1 절 연막 ( 170 ) 부분 에 오버랩 되 도록 형성 되 어 있 으므로 , 제 4 게이트 마스크 패턴 ( 159 ) 은 제 4 예비 게이트 컨트롤 게이트 ( 148 ) 의 상면 가장자리 상 에 형성 되 고 , 제 2 절 연막 패턴 ( 174 ) 은 제 4 터널 절 연막 패턴 ( 118 ) , 제 4 플로팅 게이트 ( 128 ) , 제 4 유전 막 패턴 ( 138 ) 및 제 4 예비 컨트롤 게이트 ( 148 ) 의 측벽 , 제 4 게이트 마스크 패턴 ( 159 ) 의 상면 과 측벽 일부 및 제 4 예비 게이트 구조물 ( 168 ) 에 인접 한 기판 ( 100 ) 부분 을 커버 하 도록 형성 된다 .