본 발명 은 패턴 마스크 및 인버스 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 시스템 및 그 방법 에 관한 것 으로 , 보다 상세 하 게 는 서로 다른 편광 성질 이 적용 된 단일 패턴 및 인버스 단일 패턴 의 패턴 마스크 와 , 편광 방향 을 적용 하 는 편광 필터 를 이용 하 여 피사체 에 단일 패턴 및 인버스 단일 패턴 을 프로 젝 션 하 는 기술 에 관한 것 이 다 .