열처리 장치 는 광 가이드 어레이 ( 120 ) 를 통과 한 광 의 진행 각 을 변경 하 도록 구성 되 는 프리즘 ( 미 도시 ) 을 더 포함 할 수 있 다 . 프리즘 은 광 가이드 어레이 ( 120 ) 를 통과 한 광 의 진행 각 이 대략 1 도 내지 10 도 이내 에서 변경 되 도록 하 여 , 피 처리 물 에 의해 반사 된 광이 복수 의 광원 유닛 들 ( 110 ) 이나 광 가이드 어레이 ( 120 ) 에 도달 하 여 손상 시키 는 것 을 방지 한다 .