포토 리소그래피 단계 에서 사용 되 는 노광 장치 에서 는 , 최소 해상 치수 를 축소 하 기 위해서 투영 광학계 의 NA 가 증대 되 고 있 으며 , 이 에 의해 DOF 가 축소 되 고 있 다 . 예 를 들 어 , NA 가 0 . 33 인 투영 광학계 를 포함 하 는 EUV 노광 장치 에서 는 , 조명 조건 에 따라서 DOF 는 110 nm 내지 300 nm 이 다 . NA 가 0 . 55 인 다음 세대 에서 는 , 조명 조건 에 따라서 DOF 는 약 40 nm 내지 160 nm 가 될 수 있 다 .