( 6 ) 상기 실시 형태 에 관한 보조 전극 의 구성 및 전압 의 제어 는 , 기판 의 영역 에 따른 급전 전류 의 제어 ( 예 를 들 어 , 일본 특허 공개 제 2017 - 043815 호 공보 ( 특허 문헌 3 ) 을 참조 ) 와 함께 사용 할 수 있 다 . 이 경우 , 기판 의 각 영역 에 따른 도금 전류 의 제어 를 더욱 고정 밀도 로 행할 수 있 고 , 도금 막 두께 의 균일성 을 더욱 향상 시킬 수 있 다 . 일본 특허 공개 제 2017 - 043815 호 공보 ( 특허 문헌 3 ) 의 명세서 , 특허 청구 범위 , 요 약서 를 포함 하 는 모든 개시 내용 은 , 참조 에 의해 전체 로서 본원 에 포함 된다 .