상기 제 6 단계 는 제 2 빔 스프리 터로 투과광 ( 측 정광 ) 과 반사광 ( 기준 광 ) 을 포토 마스크 표면 과 기준 미러 에 입사 시켜 간섭 광 을 합성 하 여 생성 시키 는 제 11 단계 와 , 포토 마스크 표면 의 높이 정보 를 포함 하 는 광 위상차 간섭 무늬 의 간섭 광 강도 에 대응 하 는 디지털 값 형태 로 간섭 검출기 에 입력 하 는 제 12 단계 와 , 광 위상차 간섭 무늬 측정 알고리즘 을 통하 여 입력 된 디지털 값 으로부터 포토 마스크 표면 의 높이 정보 를 추출 하 는 제 13 단계 와 , 광 위상 간섭계 로 포토 마스크 표면 에 헤이즈 가 생성 되 어 있 으면 포토 마스크 표면 의 높이 정보 로부터 헤이즈 를 검출 하 는 제 14 단계 를 더 포함 하 여 이루어짐 을 특징 으로 한다 .