로컬 플레어 는 렌즈 ( 광학 부재 ) 표면 의 미세 한 형상 오차 나 랜즈 재료 의 굴절 률 불 균일 성 에 기인 한 고주파 성분 이 다 . 로컬 플레어 의 발생량 은 입사광 의 파장 의 역수 의 2 승 에 비례 한다 . 노 광광 의 파장 이 짧 아 짐 에 따라서 , 선폭 균일성 에 주 는 로컬 플레어 의 영향 이 커진다 . 근년 의 노광 장치 에서 는 노 광광 으로서 ArF 엑 시머 레이저 ( 파장 : 약 193 nm ) 및 이러 한 단파장 의 노광 광 에 대응 하 는 렌즈 재료 로서 형석 ( CaF 2 ) 을 채용 하 고 있 다 . 그러나 , 형석 은 합성 석영 ( SiO 2 ) 보다 복굴절 을 일으키 기 쉽 고 , 또한 표면 조도 나 굴절 률 불 균일 성 에 기인 한 고주파 성분 의 양 을 합성 석영 ( SiO 2 ) 보다 크 게 발생 시킨다 . 상기 한 노 광광 의 단파장 화 및 형석 ( 렌즈 재료 ) 의 성질 에 의해 , 로컬 플레어 의 발생량 은 증대 하 는 경향 이 있 다 . 이 에 의해 , 이러 한 로컬 플레어 의 패턴 의 선폭 에 의 영향 을 정량 적 으로 결정 할 ( 즉 , 로컬 플레어 를 정밀 하 게 측정 할 ) 필요 가 있 다 .