본 발명 의 연속 기판 처리 시스템 은 효율 적 으로 피 처리 기판 의 연속 처리 가 가능 하 며 , 연속 된 기판 처리 공정 에서 도 대 면적 의 피 처리 기판 에 대한 고속 및 고품질 의 처리 효율 을 얻 을 수 있 다 . 특히 , 복수 개 의 분할 전극 에 의해 대 면적 의 플 라즈 마 를 균일 하 게 발생 할 수 있 어서 보다 균일 한 대 면적 의 피 처리 기판 에 대한 기판 처리 가 가능 하 며 또한 , 복수 개 의 다중 분발 전극 어셈블리 와 이 에 구비 되 는 복수 개 의 분할 전극 을 병렬 구동 함 에 있 어서 전류 균형 을 자동 적 으로 이루 도록 함 으로 대 면적 의 플 라즈 마 를 보다 균일 하 게 발생 및 유지 할 수 있 어서 매우 높 은 생산 성 을 얻 을 수 있 다 . 그리고 피 처리 기판 의 기판 처리 공정 순서 에 적합 한 효율 적 인 시스템 을 구성 하 기 에 용이 하 다 .