그리고 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 의 다중 노광 중 에 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 이 원 하 는 위치 관계 로 되 도록 , 검출 시스템 ( 80 ) ( 수광 장치 82 ) 의 출력 에 의거 하 여 제 2 스테이지 ( 62 ) 및 제 3 스테이지 ( 63 ) 의 적어도 한쪽 의 위치 및 / 또는 회전 을 조정 한다 ( SS 5 ) . 이 조정 을 행하 면서 제어 장치 ( 7 ) 는 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 한다 ( SS 6 ) . 즉 , 본 실시 형태 에서 는 , 도 21 의 플로 차트 에 나타낸 바 와 같이 , 기판 의 다중 노광 과 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 의 위치 조정 이 병행 하 여 행해진다 .