본 발명 은 기판 처리 장치 에 관한 것 으로 , 기판 처리 장치 는 , 기판 에 대해 화학 기계 적 연마 ( CMP ) 공정 을 수행 하 는 연마 파트 와 , 연마 공정 이 완료 된 기판 을 세정 및 건조 하 는 세정 파트 와 , 세정 및 건조 가 완료 된 기판 에서 반점 ( watermark ) 을 검출 하 는 반 점검 출부 를 포함 하 는 것 에 의하 여 , 반점 의 발생 여부 를 정확 하 게 검출 하 고 반점 에 의한 디바이스 의 불량 을 사전 에 감지 하 는 유리 한 효과 를 얻 을 수 있 다 .