도 10 을 참조 하 면 , MoS 2 박막 위 에 S - nTP 공정 을 통해 패 터닝 된 SiO 2 패턴 들 은 약 25 nm 의 폭 및 18 . 1 nm 의 두께 를 갖 고 약 50 nm 의 주기 로 선형 적 으로 정렬 되 어 있 는 것 을 확인 할 수 있 다 . 또한 S - nTP 공정 을 통해 25 nm 의 SiO 2 패턴 들 을 선형 적 으로 정렬 하 기 위해서 는 하얀색 으로 표시 한 가이드라인 ( guide line ) 이 적용 될 수 있 으며 , 이 부분 에 는 패턴 들 이 형성 되 지 않 을 수 있 다 .