이어서 , 유기 막 상 에 규소 원자 를 함유 하 는 레지스 트 중간막 재료 를 이용 하 여 레지스 트 중간막 ( 규소 함유 레지스 트 중간막 ) 을 형성 한다 . 규소 함유 레지스 트 중간막 재료 로서 는 폴리 실록 산 베이스 의 중간막 재료 가 바람직 하 다 . 규소 함유 레지스 트 중간막 에 반사 방지 효과 를 갖 게 함 으로써 반사 를 억제 할 수 있 다 . 특히 193 nm 노광 용 으로서 는 , 유기 막 형성 용 재료 로서 방향 족기 를 많이 포함 하 며 기판 과 의 에칭 선택 성 이 높 은 재료 를 이용 하 면 , k 치가 높 아 져 기판 반사 가 높 아 지 지만 , 규소 함유 레지스 트 중간막 으로서 적절 한 k 치가 되 는 흡수 를 갖 게 함 으로써 반사 를 억제 할 수 있 게 되 어 , 기판 반사 를 0 . 5 % 이하 로 할 수 있 다 . 반사 방지 효과 가 있 는 규소 함유 레지스 트 중간막 으로서 는 , 248 nm , 157 nm 노광 용 으로서 는 안트라센 , 193 nm 노광 용 으로서 는 페닐기 또는 규소 - 규소 결합 을 갖 는 흡광 기 를 펜던트 구조 또는 폴리 실록 산 구조 중 에 가지 고 , 산 혹은 열 로 가교 하 는 폴리 실록 산 이 바람직 하 게 이용 된다 .