램프 어셈블리 ( 110 ) 는 석영 윈도우 ( 114 ) 를 통해 처리 용적 ( 139 ) 에 열 을 공급 하 기 위해 기판 지 지체 ( 138 ) 보다 상대 적 으로 위 에 위치 될 수 있 다 . 석영 윈도우 ( 114 ) 는 기판 ( 101 ) 과 램프 어셈블리 ( 110 ) 사이 에 배치 된다 . 추가 적 으로 또는 대안 적 으로 , " 램프 어셈블리 ( 110 ) 는 일부 구현 들 에서 기판 지 지체 ( 138 ) 보다 상대 적 으로 아래 에 배치 될 수 있 다 . 본 개시 내용 에서 사용 되 는 "" 위 에 "" 또는 "" 아래 에 "" 라는 용어 는 절대 적 인 방향 들 을 언급 하 고 있 지 않 다는 점 에 주목 해야 한다 . 램프 어셈블리 ( 110 ) 는 ", 기판 지 지체 ( 138 ) 상 에 배치 된 기판 ( 101 ) 에 대해 맞춤 화 된 적외선 가열 수단 을 제공 하 기 위한 복수 의 텅스텐 - 할로겐 램프 와 같 은 가열 소스 ( heating source ) ( 108 ) 를 하우징 하 도록 구성 된다 . 복수 의 텅스텐 - 할로겐 램프 는 육각형 배열 로 배치 될 수 있 다 . 가열 소스 ( 108 ) 는 제어기 ( 107 ) 에 연결 될 수 있 고 , 제어기 는 기판 ( 101 ) 에 대한 균일 하 거나 맞춤 화 된 가열 프로 파일 을 달성 하 기 위해 가열 소스 ( 108 ) 의 에너지 레벨 을 제어 할 수 있 다 . 일례 에서 , 가열 소스 ( 108 ) 는 약 50 ℃/ s 내지 약 280 ℃/ s 의 속도 로 기판 ( 101 ) 을 급속 가열 할 수 있 다 .