본 발명 에 따르 면 , 노광 장치 의 프로 젝 션 렌즈 부 에 조절 필터 를 삽입 하 여 포토 마스크 를 통과 한 광 의 성분 에 따라 투여 되 는 영역 별 로 투과도 를 조절 할 수 있 는 반도체 소자 의 노광 장치 를 제시 한다 . 또는 포토 마스크 를 통과 한 광 의 성분 에 따라 영역 별 로 위상차 를 조절 할 수 있 는 반도체 소자 의 노광 장치 를 제시 한다 . 또는 , 포토 마스크 를 통과 한 광 의 성분 에 따라 영역 별 로 투과도 와 위상차 를 조절 할 수 있 는 반도체 소자 의 노광 장치 를 제시 한다 .