물 은 전자기장 에 노출 되 도록 조건 화 된다 . 전자기장 은 5 내지 50 VSS , 바람직 하 게 10 내지 20 VSS 의 펄스 진폭 을 갖 는 교류 전압 ( alternating voltage ) 에 의해 생성 되 며 , 상기 교류 전압 은 바람직 하 게 사다리꼴 형태 ( trapezoidal ; 각 진동 주기 내 에 서 짧 은 간격 의 시간 동안 일정 한 전압 피크 를 갖 는 것 ) 이 다 . 적당 한 교류 전압 주파수 는 100 내지 100 , 000 Hz , 바람직 하 게 는 3 , 000 내지 10 , 000 Hz 이 다 . 전자기장 은 바람직 하 게 물 을 수용 하 는 관형 용기 를 감 는 코일 에 의해 도입 된다 . 조건 화 ( Conditioning ) 는 플로우 장치 ( flow apparatuse ) 내 에서 도 일어날 수 있 다 . 유속 은 0 . 1 m / s 내지 50 m / s , " 특히 2 m / s 내지 20 m / s 이 다 . 교번 전자기장 ( alternating electromagnetic fields ) 은 일시 적 으로 물 의 구조 를 변경 시킨다 . 이 는 각 고체 들 과 물 사이 의 계면 에서 변화 된 "" 수성 조건 ( aqueous conditions ) "" 을 결과 한다 . 또한 0 . 0001 내지 2 테슬라 ", 특히 0 . 2 내지 1 . 2 테슬라 의 자기장 세기 를 갖 는 영구 자석 에 의해 적당 한 전자기장 이 생성 될 수 있 다 .