한편 , 도 4 에서 가스 분사 장치 ( 160 ) 의 일 측 에 만 램프 히터 ( 162 ) 를 설치 한 것 은 제 1 가스 공급 관 ( 161 ) 을 통해 공급 되 는 제 1 가스 가 NH 3 이 고 제 2 가스 공급 관 ( 162 ) 을 통해 공급 되 는 제 2 가스 가 SiH 4 인 것 으로 가정 하 고 , 분해 가 어려운 NH 3 의 반응 성 을 높이 기 위하 여 제 1 가스 공급 관 ( 161 ) 만 을 가열 시키 고자 한 때문 이 다 .