「 제 1 사이즈 」 와 「 제 2 사이즈 」 로서 , 「 제 1 사이즈 」 는 , 노광 장치 의 분해능 과 대략 동등 한 것 이 바람직 하 다 . 또는 「 제 1 사이즈 」 는 , 보다 구체 적 으로 는 「 노광 장치 의 파장 ( λ ) 과 개구수 ( NA ) 의 몫 ( λ / ( NA ) ) 의 ( 1 / 3 ) 배 이상 1 배 이하 의 반값 전체 폭 ( Full Width at half Maximum : FWHM ) 」 과 동등 한 것 이 바람직 하 다 . 러프 니스 에 의해 생기 는 윤곽 의 파 상도 의 최소 주기 는 , 노광 장치 의 해상도 정도 로 된다 . 즉 , 러프 니스 에 의해 생기 는 윤곽 의 파 상도 의 최소 주기 는 , 노광 장치 의 분해능 과 대략 동등 하 다 . 따라서 , 이 정도 의 평활 화 를 거쳐도 실제 의 웨이퍼 상 의 미세 결함 형상 을 소거 하 지 않 고 , 윤곽 부분 의 노이즈 만 을 평활 화 하 여 , 명료 한 윤곽 패턴 을 얻 을 수 있 다 . EUV 노광 의 경우 를 고려 하 면 , 파장 을 13 . 5 nm , NA 를 0 . 33 , k 1 팩터 를 0 . 34 로 한 경우 , 하프 피치 13 . 9 nm 의 라인 앤 스페이스 패턴 이 노광 가능 하 다고 말 해 지 고 있 다 . 몇 가지 샘플 화상 에 대하 여 결함 을 가장 잘 검출 할 수 있 는 제 1 사이즈 를 조사 한 바 , 대략 22 nm 정도 에서 최선 의 결과 가 얻 어 졌 다 . 많 은 경우 에 있 어서 , 13 . 6 nm 내지 40 . 9 nm 정도 의 범위 에서 제 1 사이즈 를 설정 함 으로써 , 최선 의 결과 가 얻 어 진다고 생각 된다 . 한편 , 「 제 2 사이즈 」 는 , 「 전자 빔 의 빔 직경 과 대략 동등 한 」 것 이 바람직 하 다 . 또는 「 제 2 사이즈 」 는 , 「 전자 빔 의 빔 직경 의 ( 1 / 2 ) 배 이상 2 배 이하 의 반값 전체 폭 」 인 것 이 바람직 하 다 . 빔 직경 보다 대폭 으로 큰 평활 화 반경 으로 평활 화 를 거치 게 해 버리 면 , 에지 의 선예도 가 저하 되 고 , 후단 에서 윤곽 추출 처리 등 을 행할 때 의 S / N 저 하나 검출 위치 오차 의 증대 로 이어진다 . 빔 직경 정도 의 평활 화 반경 이 면 , 에지 의 선예도 를 크 게 손상 시키 지 않 고 , 효과 적 으로 노이즈 를 저감 하 는 것 이 가능 하 다 . 몇 가지 샘플 화상 에 대하 여 결함 을 가장 잘 검출 할 수 있 는 제 2 사이즈 를 조사 한 바 , 빔 직경 이 12 nm 로 추정 되 는 장치 에서 취득 한 화상 에 대하 여 , 대략 12 nm 에서 최선 의 결과 가 얻 어 졌 다 . 많 은 경우 에 있 어서 , 6 내지 24 nm 정도 의 범위 에서 제 2 사이즈 를 설정 함 으로써 , 최선 의 결과 가 얻 어 진다고 생각 된다 . 또한 , 가이드 화상 을 제 1 검사 화상 에 가우스 필터 를 걸 어 생성 할 때 , 대략 반값 전체 폭 에서 24 nm 정도 로 함 으로써 최선 의 결과 를 얻 을 수 있 었 다 . 일반 적 으로 는 검사 대상 으로 하 는 패턴 의 선폭 정도 이하 로 억제 하 는 편 이 좋 다고 생각 된다 .