또한 , 다양 한 반도체 처리 장치 에서 , 기화기 는 , 사이클 사이 에서 비활성 가스 를 기화기 에 공급 함 으로써 , 반응물 가스 가 퍼지 된다 . 기화기 는 일부 장치 에서 큰 부피 를 가질 수 있 으며 , 이러 한 큰 부피 를 퍼지 하 는 시간 은 처리 량 을 상당히 낮출 수 있 다 . 일부 처리 장치 에서 , 과량 의 입자 는 , 펄스 당 불 충분 한 유량 제어 로 기인 한 큰 압력 변동 으로 인해 반응 챔버 내 에 생성 될 수 있 다 . 또한 , 반응기 의 상류 에 필터 를 배치 하 는 것 이 어려울 수 있 으며 , 이 는 반응 챔버 및 기판 으로 의 액적 의 전달 을 유도 할 수 있 다 .