본 발명 의 또 다른 실시 예 에 따르 면 , 상기 제 5 단계 의 금 부식 액 ( Gold Etchant ) 을 이용 하 여 에칭 ( Etching ) 및 패 터닝 ( Pattening ) 공정 실시 는 , 상기 제 2 단계 의 폴리 이미드 층 을 유지 시키 기 위해 패 터닝 마스크 ( Pattening Mask ) 가 사용 되 는 것 을 특징 으로 한다 .