전술 한 바 와 같이 , 처리 공간 ( S ) 내 에서 는 , 가스 토출 부 ( 50 ) 로부터 웨이퍼 ( W ) 의 표면 을 향해 거의 균등 하 게 유량 L 1 으로 가스 가 공급 된다 . 한편 , 배기 구멍 ( 71 ) 으로부터 배기 되 는 기체 의 유량 L 2 은 , 유량 L 1 보다 커 지 기 때문 에 , 차분 에 상당 하 는 기체 가 기체 유로 ( 81 ) [ 및 기체 유로 ( 82 ) ] 를 지나 외부 로부터 처리 공간 ( S ) 내 에 공급 된다 . 가스 토출 부 ( 50 ) 로부터 웨이퍼 ( W ) 의 표면 에 공급 된 가스 및 기체 유로 ( 81 ) [ 및 기체 유로 ( 82 ) ] 를 지나 외부 로부터 공급 된 기체 는 , 모두 배기 기구 ( 70 ) 에 의해 배기 구멍 ( 71 ) 으로부터 외부 로 배출 된다 . 그 때문 에 , 웨이퍼 ( W ) 표면 에서 는 , 웨이퍼 ( W ) 중앙 으로부터 외주 로 향하 는 직경 방향 으로 가스 가 이동 한다 . 또한 , 웨이퍼 ( W ) 주위 에서 는 , 기체 유로 ( 81 ) 로부터 처리 공간 ( S ) 내 에 공급 되 는 기체 가 배기 구멍 ( 71 ) 으로 이동 하 기 때문 에 , 상승류 가 형성 된다 . 웨이퍼 ( W ) 를 따라 직경 방향 으로 이동한 가스 도 상기 한 상승류 에 포함 되 는 형태 로 , 상방 으로 이동 하 고 , 배기 구멍 ( 71 ) 으로부터 배출 된다 . 한편 , 「 상승류 」 란 상 방향 으로 향하 는 기체 의 흐름 을 말 한다 .