이하 , 본 발명 의 실시 형태 들 에서 구현 되 는 위상 반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크 는 액정 표시 장치 ( LCD ) , 플라 즈 마 디스플레이 패널 ( PDP ) , 유기 발광 다이오드 ( OLED ) 등 을 포함 하 는 FPD 용 디바이스 및 반도체 용 디바이스 를 제조 하 기 위한 위상 반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크 이 다 . 또한 , 노광 광은 i 선 ( 365 nm ) , h 선 ( 405 nm ) , g 선 ( 436 nm ) , KrF ( 248 nm ) , ArF ( 193 nm ) 파장 각각 이나 i 선 ( 365 nm ) , h 선 ( 405 nm ) , g 선 ( 436 nm ) 을 포함 하 는 복합 파장 을 지칭 한다 .