고주파 전원 ( 59 ) 은 플라 즈 마 발생 용 의 소스 원 이 며 , 기판 탑재 대 ( 70 ) 에 접속 되 어 있 는 고주파 전원 ( 83 ) 은 발생 한 이온 을 끌어당겨 운동 에너지 를 부여 하 는 바이어스 원 이 된다 . 이 와 같이 , 이온 소스 원 으로부터 유도 결합 을 이용 하 여 플 라즈 마 를 생성 하 고 , 별도 전원 인 바이어스 원 을 기판 탑재 대 ( 70 ) 에 접속 하 여 이온 에너지 의 제어 를 실행 하 는 것 에 의해 , 플 라즈 마의 생성 과 이온 에너지 의 제어 가 독립 적 으로 실행 되 어 , 프로세스 의 자유도 를 높일 수 있 다 . 고주파 전원 ( 59 ) 으로부터 출력 되 는 고주파 전력 의 주파수 는 0 . 1 ㎒ 내지 500 ㎒ 의 범위 내 에서 설정 되 는 것 이 바람직 하 다 .