또한 , 차폐 비아 ( 245 a ) 는 제 1 , 제 2 , 제 3 및 제 5 블로킹 패턴 ( 131 a , 132 a , 133 a , 135 a ) 의 사이 에 배치 되 지 않 고 제 1 내지 제 5 그라운드 플레인 ( 221 a , 222 a , 223 a , 224 a , 225 a ) 의 전방 경계선 에 만 배열 될 수 있 다 . 즉 , 제 1 , 제 2 , 제 3 및 제 5 블로킹 패턴 ( 131 a , 132 a , 133 a , 135 a ) 의 사이 는 절연 층 으로 메워질 수 있 다 . 이 에 따라 , 제 1 , 제 2 , 제 3 및 제 5 블로킹 패턴 ( 131 a , 132 a , 133 a , 135 a ) 은 다이폴 안테나 패턴 ( 120 a ) 에 대해 3 차원 적 경계 조건 을 제공 하 면서 도 제 1 내지 제 5 그라운드 플레인 ( 221 a , 222 a , 223 a , 224 a , 225 a ) 의 전방 경계선 에 집중 된 전자기 에너지 를 전방 ( 예 : x 방향 ) 으로 더욱 효과 적 으로 내보낼 수 있 으므로 , 복수 의 다이폴 안테나 패턴 ( 120 a ) 사이 의 전자기 적 격 리도 를 더욱 향상 시킬 수 있 으며 , 다이폴 안테나 패턴 ( 120 a ) 과 패치 안테나 패턴 ( 1110 a ) 사이 의 전자기 적 격리 도 도 더욱 향상 시킬 수 있 다 .