공정 챔버 ( 200 ) 에 는 5 개 의 기판 지지 부 ( 210 ) 가 방사형 으로 배치 되 고 그 중심부 에 제 1 반송 장치 ( 600 ) 가 배치 된다 . 제 1 반송 장치 ( 600 ) 는 5 개 의 회전 플레이트 암 ( 610 ) 을 갖 으며 , 다섯 개 의 기판 지지 부 ( 210 ) 는 회전 플레이트 암 ( 610 ) 들 이 회전 하 는 경로 상 에 배치 된다 . 공정 챔버 ( 200 ) 는 소정 의 플 라즈 마 처리 공정 을 수행 하 기 위한 진공 챔버 로서 , 플라 즈 마 소스 ( 미도 시 됨 ) 가 구비 될 수 있 다 . 공정 챔버 ( 200 ) 는 다양 한 기판 프로세싱 작동 들 을 수행 하 도록 구성 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 포토 레지스 트 를 제거 하 기 위해서 플 라즈 마 를 이용 하 여 포토 레지스 트 를 제거 하 는 애 싱 ( ashing ) 챔버 일 수 있 고 , 절 연막 을 증착 시키 도록 구성 된 CVD ( Chemical Vapor Deposition ) 챔버 일 수 있 고 , 인터 커넥트 구조 들 을 형성 하 기 위해 절 연막 에 애 퍼 쳐 ( aperture ) 들 이나 개구 들 을 에치 하 도록 구성 된 에치 챔버 일 수 있 다 . 또는 장벽 ( barrier ) 막 을 증착 시키 도록 구성 된 PVD 챔버 일 수 있 으며 , 금속 막 을 증착 시키 도록 구성 된 PVD 챔버 일 수 있 다 .