상기 N 형 폴리 실리콘 막 ( 110 ) 은 N 형 불순물 이 5 × 1018 ∼ 5 × 1022 이온 / cm 2 정도 의 도우즈 로 도핑 된 폴리 실리콘 막 으로 형성 한다 . 계속 해서 , CMP ( Chemical Mechanical Polishing ) , 또는 , 에치 백 ( Etch Back ) 공정 을 통해 상기 N 형 폴리 실리콘 막 ( 110 ) 의 표면 을 평탄 화 시킴 이 바람직 하 다 .