본 발명 에 따른 기판 처리 장치 에 따르 면 , 어떤 처리 액 을 사용 한 처리 를 처 리조 내 에서 행하 고 , 그 외 의 처리 액 을 사용 한 처리 를 처리 유닛 내 에서 행하 도록 할 수 있 다 . 따라서 , 처리 유닛 에서 사용 되 는 처리 액 의 종류 를 저감 하 여 , 기판 처리 장치 의 전체 구성 및 기판 처리 장치 의 제어 를 단순 화 할 수 있 다 . 또한 , 처 리조 내 에서 기판 을 처리 하 는 경우 , 처리 액 을 순환 이용 함 으로써 , 처리 액 의 사용량 을 저감 할 수 있 다 . 또한 , 처 리조 내 에서 기판 을 처리 하 는 경우 , 처 리조 내 의 가열 된 처리 액 의 온도 를 일정 한 온도 범위 내 에 유지 하 여 , 고온 처리 액 의 온도 변동 을 대폭 억제 할 수 있 다 . 또한 , 이러 한 기판 처리 장치 가 , 처리 장치 에 반입 된 미처리 기판 을 처리 유닛 과 처 리조 중 어느 곳 에 먼저 반송 할지 를 판단 하 는 제어 장치 를 더 구비 하 도록 해도 좋 다 .