본 발명 의 바이너리 포토 마스크 블랭크 는 , 투 광부 와 차 광부 의 2 종 의 부분 을 포함 하 는 바이너리 포토 마스크 의 소재 가 되 는 것 으로 , 석영 기판 등 의 투명 기판 상 에 , 광학 농도 가 2 . 5 이상 3 . 5 이 하인 차광막 을 갖 는다 . 바이너리 포토 마스크 에서 는 , 차광막 이 제거 된 투명 기판 만 의 부분 이 투광 부 가 되 고 , 투명 기판 상 에 차광막 이 존재 하 는 ( 잔존 하 고 있 음 ) 부분 이 차 광부 가 된다 . 이 차광막 은 , 바이너리 포토 마스크 용 이 기 때문 에 , 광학 농도 가 2 . 5 이상 인 것 이 요구 되 며 , 바람직 하 게 는 3 . 0 이상 이 되 지만 , 본 발명 의 차광막 은 후술 하 는 본 발명 의 층 구성 을 갖 기 때문 에 , 막 두께 를 60 nm 이하 , 특히 55 nm 이하 , 특히 50 nm 이하 로 한 경우 에 도 , 소정 의 차광성 이 확보 된다 . 또한 , 차광막 의 막 두께 는 35 nm 이상 이 다 .