도포 모듈 ( 401 ) 은 기판 ( W ) 에 대해 포토레지스트 와 같 은 감광액 을 도포 하 는 공정 및 레지스 트 도포 공정 전후 에 기판 ( W ) 에 대해 가열 및 냉각 과 같 은 열처리 공정 을 포함 한다 . 도포 모듈 ( 401 ) 은 레지스 트 도포 챔버 ( 410 ) , 베 이크 챔버 ( 420 ) , 그리고 반송 챔버 ( 430 ) 를 가진다 . 레지스 트 도포 챔버 ( 410 ) , 베 이크 챔버 ( 420 ) , 그리고 반송 챔버 ( 430 ) 는 제 2 방향 ( 14 ) 을 따라 순차 적 으로 배치 된다 . 따라서 레지스 트 도포 챔버 ( 410 ) 와 베 이크 챔버 ( 420 ) 는 반송 챔버 ( 430 ) 를 사이 에 두 고 제 2 방향 ( 14 ) 으로 서로 이격 되게 위치 된다 . 레지스 트 도포 챔버 ( 410 ) 는 복수 개 가 제공 되 며 , 제 1 방향 ( 12 ) 및 제 3 방향 ( 16 ) 으로 각각 복수 개 씩 제공 된다 . 도면 에서 는 6 개 의 레지스 트 도포 챔버 ( 410 ) 가 제공 된 예 가 도시 되 었 다 . 베 이크 챔버 ( 420 ) 는 제 1 방향 ( 12 ) 및 제 3 방향 ( 16 ) 으로 각각 복수 개 씩 제공 된다 . 도면 에서 는 6 개 의 베 이크 챔버 ( 420 ) 가 제공 된 예 가 도시 되 었 다 . 그러나 이 와 달리 베 이크 챔버 ( 420 ) 는 더 많 은 수 로 제공 될 수 있 다 .