도 1 및 도 3 을 참고 하 면 , 본 발명 의 제 1 실시 예 에 따른 수처 리용 여과 장치 ( 10 ) 는 하부 로 여과 대상 인 원수 가 유입 되 는 처 리조 ( 20 ) 와 ; 처 리조 ( 20 ) 에 원수 를 공급 하 는 원수 공급 부 ( 32 ) 와 , 처 리조 ( 20 ) 내 에 충 진 되 어 원수 에 대해 부유 가능 하 여 처 리조 ( 20 ) 의 상부 에 일정 한 두께 의 여과 층 ( 30 ) 을 형성 하 여 원수 와 접촉 시 원수 내 의 부유물 질 또는 슬러 지 를 흡착 하 는 다수 의 여재 ( 31 ) 와 ; 처 리조 ( 20 ) 내 에 원수 가 상승 하 면서 여과 층 을 통과 할 있 도록 여재 의 상승 을 제한 하 는 스크린 유닛 ( 40 ) 과 ; 처 리조 ( 20 ) 및 여과 층 ( 30 ) 의 세정 을 위해 처 리조 ( 20 ) 하부 로 세 정수 와 세정 용 공기 를 공급 하 여 처 리조 ( 20 ) 내 주면 에 부착 되 거나 여과 층 에 흡착 된 슬러 지나 걸러진 부유물 질 의 부상 을 유도 하 여 배출 시키 는 세정 유닛 ( 100 ) 과 , 제 어부 ( 120 ) ; 를 구비 한다 .