종래 의 건식 식각 을 통해 상기 잔여 마스크 패턴 ( 190 p ) 을 제거 하 면 제 2 몰드 막 ( 140 m 2 ) 이 손상 되 어 상기 하부 전극 ( 151 ) 의 노출 된 정도 가 불 규칙 해질 수 있 다 . 본 실시 예 에서 는 종래 의 건식 식각 대신 에 드라이클리닝 을 이용 하 여 상기 잔여 마스크 패턴 ( 190 p ) 을 제거 한다 . 드라이클리닝 을 이용 하 면 잔여 마스크 패턴 ( 190 p ) 을 제 2 몰드 막 ( 140 m 2 ) 에 대하 여 높 은 선택 비 로 제거 할 수 있 다 .