본 실시 형태 의 노광 장치 ( EX ) 는 , 조명계 ( IL 1 , IL 2 ) , 패턴 형성 장치 ( 3 A , 3 B ) 및 투영 계 ( PL 1 , PL 2 ) 를 가지 고 있 고 , 기판 ( P ) 을 다중 노광 할 때 에 도 , 예 를 들 면 마스크 를 교환 하 거나 조명 조건 등 의 노광 조건 을 변경 하 는 동작 이 저감 되 기 때문 에 , 노광 장치 ( EX ) 의 가동 률 저하 , 스루풋 의 저하 를 억제 하 고 기판 ( P ) 을 효율 적 으로 다중 노광 할 수 있 다 .