제시 된 실시 예 에서 T 0 직전 의 지점 에서 , 프로세싱 노드 에 대한 활동 수준 은 하위 임계 치 미만 이 다 . 따라서 , 실시 예 의 제 1 전체 시간 간격 T 0 내지 T 1 동안 , 프로세싱 노드 의 동작 점 은 하위 동작 점 에 설정 된다 . 이러 한 제 1 간격 동안 , 활동 수준 은 증가 하 여 하위 임계 치 상부 의 지점 에서 유지 한다 . 따라서 , 그 다음 간격 T 1 내지 T 2 동안 , 프로세싱 노드 의 동작 점 은 중간 동작 점 에 설정 된다 .