이 예 를 가능 하 게 하 기 위해 , 다양 한 데이터 가 사용 된다 . 예 를 들 어 , 리소그래피 장치 는 패턴 전사 제어 를 위하 여 사용 된 , 통합 된 현저 한 계측 능력 을 갖 고 있 다 . 이러 한 통합 된 계측 의 예 는 서보 제어 를 위한 기판 및 / 또는 패 터닝 디바이스 의 위치 측정 디바이스 ( 예 를 들 어 , 센서 ( IF ) ) , 레벨 링 제어 를 위한 기판 표면 측정 용 레벨 링 센서 ( 예 를 들 어 , 센서 ( LS ) ) , 오버레이 제어 를 가능 하 게 하 기 위해 기판 의 배향 , 위치 및 / 또는 변형 을 측정 하 기 위한 정렬 센서 ( 예 를 들 어 , 센서 ( AS ) ) , 및 / 또는 투영 시스템 의 파면 을 제어 하 기 위한 수차 센서 ( 예 를 들 어 , 위 에서 설명 된 시어링 간섭계 ) 이 다 . 리소그래피 장치 는 그 의 전체 CD , 오버레이 및 / 또는 초점 버짓 ( focus budget ) 이 만족 되 지만 동시 에 또한 제 어 후 에 남 아 있 는 잔차 및 / 또는 오차 의 트랙 을 유지 하 는 레벨 에서 의 제어 를 위하 여 이 센서 로부터 의 데이터 를 이용 할 것 이 다 . 이러 한 잔차 및 / 또는 오 차 는 패턴 전사 동안 어떤 CD , 오버레이 및 / 또는 초점 오 차 가 만들 어 졌 는지 , 즉 CD , 오버레이 및 / 또는 초점 핑거 프린트 에 대한 리소그래피 장치 의 기여 도 를 계산 하 기 위하 여 사용 될 수 있 다 . 인식 될 바 와 같이 , 패 터닝 공정 에 사용 되 는 다른 장치 는 장치 의 적용 가능 한 계측 에 대해 유사 한 정보 를 가질 수 있 다 .