팔라듐 염 으로 는 , 열분해 온도 400 ℃ 이하 의 팔라듐 염 을 이용 하 는 것 이 바람직 하 다 . 팔라듐 염의 열분해 온도 는 300 ℃ 이하 가 보다 바람직 하 고 , 200 ℃ 이하 가 특히 바람직 하 다 . 팔라듐 염의 분해 온도 가 낮 을수록 발열량 이 적 다 . 특히 열분해 온도 200 ℃ 이하 의 팔라듐 염 을 사용 함 으로써 , 열처리 시 의 팔라듐 염이 담지 된 담체 의 층 높이 가 두꺼운 경우 에 도 발열량 을 적 게 하 여 팔라듐 입자 의 응집 및 성장 을 억제 할 수 있 다 . 그 때문 에 , α , β - 불포화 카복실산 을 보다 고 선택 율 로 제조 하 는 것 이 가능 해진다 . 공업 스케일 에서 의 촉매 조제 에서 는 , 촉매 량 과 소성 장치 의 스케일 등 의 관계 로부터 , 열처리 시 의 팔라듐 염이 담지 된 담체 의 층 높이 가 두껍 게 되 는 것 은 보통 은 피할 수 없 으므로 , 층 높이 를 두껍 게 하 더라도 고 선택 율 로 제조 가 가능 해 지 는 것 은 스케일 업 ( scale up ) 을 하 는 경우 에 큰 장점 이 있 다 .