상술 한 각 실시 형태 에 관련 된 디바이스 제조 시스템 에서 는 , 투영 광학계 를 사용 하 여 레티 클 ( 마스크 ) 에 의해 형성 된 전 사용 의 패턴 을 감광성 기판 ( 플레이트 ) 에 노광 함 ( 노광 공정 ) 으로써 , 마이크 로 디바이스 ( 반도체 소자 , 촬상 소자 , 액정 표시 소자 , 박막 자기 헤드 등 ) 를 제조 할 수 있 다 . 이하 , 상술 한 각 실시 형태 에 관련 된 디바이스 제조 시스템 을 사용 하 여 감광성 기판 으로서 의 플레이트 등 에 소정 의 회로 패턴 을 형성 함 으로써 , 마이크 로 디바이스 로서 의 반도체 디바이스 를 얻 을 때 의 수법 의 일례 에 대해 , 도 17 의 플로우 차트 를 참조 하 여 설명 한다 .