본 실시 형태 에 따른 연마제 는 , 연마 입자 와 , 물 을 함유 하 는 연마제 로서 , 상기 연마 입자 가 실리카 입자 를 포함 하 고 , 상기 연마 입자 의 평균 입경 Rave 가 50 nm 이상 이 며 , 상기 연마 입자 의 평균 단경 Rmin 에 대한 상기 평균 입경 Rave 의 비율 Rave / Rmin 이 1 . 0 ∼ 2 . 0 이 며 , 상기 연마제 중 에서 의 상기 연마 입자 의 제타 전위 가 양 이 다 . 본 실시 형태 에 따른 연마제 는 , 예 를 들 면 , TEOS 막 , SiH 4 막 등 의 산화 규소 막 ( 예 를 들 면 , 산화 규소 막 을 가지 는 기체 ( 基體 ) 에서 의 산화 규소 막 ) 을 연마 하 기 위한 연마제 이 며 , 산화 규소 막 을 연마 하 여 산화 규소 막 중 적어도 일부 를 제거 할 수 있 다 . 본 실시 형태 에 따른 연마제 는 , 산화 규소 막 과 함께 금속 재료 ( 예 를 들 면 , 동계 금속 , 코발트 계 금속 , 루테늄 계 금속 등 의 배선 금속 ; 탄탈 계 금속 , 티탄 계 금속 , 망간 계 금속 등 의 배리어 ( barrier ) 금속 ) 를 연마 하 기 위하 여 사용 되 어도 된다 .