예시 적 인 실시 예 들 에 있 어서 , 상기 건식 식각 공정 은 채널 홀 ( 200 ) 이 기판 ( 100 ) 의 상면 을 노출 시킬 때 까지 수행 될 수 있 으며 , 나아가 채널 홀 ( 200 ) 은 기판 ( 100 ) 의 상부 일부 까지 관통 하 도록 형성 될 수 있 다 . 채널 홀 ( 200 ) 은 상기 제 2 및 제 3 방향 들 을 따라 각각 복수 개 로 형성 되 어 채널 홀 어레이 가 정의 될 수 있 다 .