" 본 명세서 에서 사용 되 는 "" 패 터닝 디바이스 "" 라는 용어 는 ", 기판 의 타 겟 부 에 패턴 을 생성 하 기 위해서 , 방사선 빔 의 단면 에 패턴 을 부여 하 는 데 사용 될 수 있 는 여 하한 의 디바이스 를 언급 하 는 것 으로 폭넓 게 해석 되 어야 한다 . 방사선 빔 에 부여 된 패턴 은 , 예 를 들 어 상기 패턴 이 위상 - 시프팅 피처 ( phase - shifting feature ) 들 또는 소위 어시스트 피처 ( assist feature ) 들 을 포함 하 는 경우 , 기판 의 타 겟 부 내 의 원 하 는 패턴 과 정확히 일치 하 지 않 을 수 도 있 다는 것 을 유의 하 여야 한다 . 일반 적 으로 , 방사선 빔 에 부여 된 패턴 은 집 적 회로 와 같이 타 겟 부 에 생성 될 디바이스 내 의 특정 기능 층 에 해당 할 것 이 다 .