상술 한 바 와 같이 , EUV 광 을 산출 하 는 하나 의 기술 은 타 겟 물질 을 조사 하 는 것 을 포함 한다 . 이 점 에 있 어서 , 예 를 들 면 9 . 3 ㎛ 또는 10 . 6 ㎛ 와 같 은 적외선 파장 의 광 을 출력 하 는 CO 2 레이저 가 LPP 공정 에서 타 겟 재료 를 조사 하 는 구동 레이저 로서 특정 한 이점 을 제공 할 수 있 다 . 이 는 특히 예 를 들 면 주석 을 함유 하 는 , 특정 한 타 겟 재료 에 대해 참 이 다 . 예 를 들 면 , 하나 의 이점 은 구동 레이저 입력 파워 와 출력 EUV 파워 사이 에 상대 적 으로 높 은 변환 효율 을 산출 하 는 기능 을 포함 할 수 있 다 . CO 2 구동 레이저 의 또 다른 이점 은 주석 찌꺼기 로 코팅 된 반사 광학 기기 와 같 은 상대 적 으로 거친 표면 으로부터 반사 하 기 위한 상대 적 으로 긴 파장 의 광 ( 예 를 들 면 , 193 nm 에서 의 심 자외선 ( deep UV ) 에 비교 되 는 ) 의 기능 을 포함 한다 . 이러 한 10 . 6 ㎛ 방사선 의 특성 은 반사 미러 가 예 를 들 면 , 구동 레이저 빔 의 초점 파워 를 스티어링 하 고 , 초점 을 맞추 고 및 / 또는 조정 하 기 위해 플 라즈 마 에 인접 하 여 채용 되 도록 허용 한다 .