본 발명 의 일부 양태 의 또 다른 측면 은 향상 된 습윤 성 을 제공 하 는 방식 으로 실리콘 하이드로 겔 조성물 을 경화 하 는 공정 을 포함 한다 . 본 발명 에 따르 면 , 실리콘 하이드로 겔 에 대한 겔화 시간 은 습윤성 안과 용 장치 , 특히 콘택트 렌즈 를 제공 하 기 위한 경화 조건 과 상관 관계 가 있 을 수 있 는 것 으로 밝혀졌 다 . 본원 에 사용 된 겔화 시간 은 가교 결합 된 망상 중합체 가 형성 되 어 경화 반응 혼합물 의 점도 가 무 한대 에 접근 하 고 반응 혼합물 이 유동 하 지 않 게 되 는 시간 이 다 . 겔화점 은 반응 조건 에 관계 없이 특정 한 전환 도 에서 일어나 기 때문 에 반응 속도 의 지표 로서 사용 될 수 있 다 . 주어진 반응 혼합물 에 대하 여 겔화 시간 은 목적 하 는 습윤 성 을 부여 하 는 경화 조건 을 결정 하 는 데 사용 될 수 있 다고 밝혀졌 다 . 따라서 , 본 발명 의 일부 양태 에서 반응 혼합물 은 개선 된 습윤성 , " 및 일부 양태 에서 는 친수성 피복 또는 표면 처리 없이 사용 되 는 장치 를 생성 하 기 위한 충분 한 습윤 성 을 제공 하 는 겔화 시간 ( "" 최소 겔화 시간 "") 이상 에서 경화 될 수 있 다 . 일부 양태 에서 ", 개선 된 습윤 성 은 고 분자량 중합체 를 함유 하 지 않 는 조성물 에 비해서 전진 접촉각 을 10 % 이상 감소 시킬 수 있 다 . 따라서 , 일부 양태 에서 는 겔화 시간 이 길 수록 개선 된 습윤 성 및 증가 된 가공 유연 성 이 제공 되 기 때문 에 바람직 하 다 .