또한 , 가열 처리 장치 는 전기로 에 한정 되 지 않 고 , 저항 발열체 등 의 발열체 로부터 의 열전 도 또는 열복사 에 의해 , 피 처리 물 을 가열 하 는 장치 를 갖추 고 있 어도 좋 음 을 주목 하 라 . 예 를 들 어 , GRTA ( Gas Rapid 　 Thermal 　 Annealing ) 장치 , LRTA ( Lamp 　 Rapid Thermal Annealing ) 장치 등 의 RTA ( Rapid 　 Thermal 　 Annealing ) 장치 를 이용 할 수 있 다 . LRTA 장치 는 , 할로겐 램프 , 메탈 할 라이드 램프 , 크세논 아크 램프 , 탄소 아크 램프 , 고압 나트륨 램프 , 고압 수은 램프 등 의 램프 에서 나오 는 빛 ( 전자파 ) 의 복사 에 의해 , 피 처리 물 을 가열 하 는 장치 이 다 . GRTA 장치 는 , 고온 의 가스 를 이용 해서 가열 처리 를 행하 는 장치 이 다 . 기체 에 는 , 아르곤 등 의 희 가스 , 또는 질소 와 같 은 , 가열 처리 에 의해 피 처리 물 과 반응 하 지 않 는 불활성 기체 가 이용 된다 .