실리콘 기판 상 에 반사 방지 막 용액 ( 닛산 화학공업 ( 주 ) 제조 , ARC - 29 A ) 을 도포 하 고 , 200 ℃ 에서 60 초간 베이 킹 하 여 제작 한 반사 방지 막 ( 100 nm 막 두께 ) 기판 상 에 레지스 트 용액 을 스핀 코팅 하 고 , 핫 플레이트 를 이용 하 여 100 ℃ 에서 60 초간 베이 킹 하 여 , 120 nm 막 두께 의 레지스 트 막 을 제작 했 다 . 이것 을 ArF 엑 시머 레이저 스캐너 ( ( 주 ) 니콘 제조 , NSR - S 610 C , NA = 1 . 30 , 이중극 , Cr 마스크 ) 를 이용 하 여 액침 노광 하 고 , 80 ℃ 에서 60 초간 노광 후 베이 킹 ( PEB ) 를 하 고 , 2 . 38 질량 % 의 테트라메틸 암모늄 히드록시 드 의 수용액 으로 60 초간 현상 을 행했 다 .