이 를 상세히 설명 하 면 , 상기 보호 층 ( 113 ) 상 에 스퍼터링 등 의 증착 방법 으로 투명 도전 층 을 증착 한다 . 이어서 제 4 마스크 를 이용 한 사진 식각 기술 공정 과 포 토리 지스 트 패턴 을 이용 한 식각 공정 을 통해 투명 도전 층 을 패 터닝 하 여 화소 전극 ( 114 ) 을 형성 한다 . 상기 화소 전극 ( 114 ) 은 콘택트 홀 ( 13 ) 을 통해 드레 인 전극 ( 112 ) 과 전기 적 으로 연결 된다 . 이때 , 투명 도전 층 의 재료 로 는 인듐 틴 옥사이드 ( ITO : Indium Tin Oxide ) 나 틴 옥사이드 ( TO : Tin Oxide ) 등 이 사용 된다 .