본 발명 은 일정 한 차광 패턴 등 의 광학 패턴 을 포함 하 는 포토 마스크 의 배면 의 국부 적 인 결함 을 , 광학 패턴 의 형성 된 포토 마스크 의 전면 을 포토레지스트 등 의 감광성 물질 층 으로 보호막 을 형성 하 고 , 포토 마스크 의 배면 을 전체 적 으로 연마 하 는 공정 을 통해 리페 어 후 의 전체 적 인 포토 마스크 의 배면 의 균일 한 조도 , 거칠 기 , 두께 를 구현 할 수 있 도록 하 는 리 페어 공정 을 제공 하 는 것 을 요지 로 한다 .