에칭 손상 된 나노 다공성 LKD 재료 는 Si - OH 와 반응 하 는 알 콕 시실 란 제 에 의해 처리 될 수 있 다 . 그러나 , 알 콕 시실 란 제 를 사용 하 는데 있 어서 의 하나 의 결점 은 응축 단계 에서 표면 - 결합 Si - OH 기와 의 응축 이전 에 알 콕 시기 를 가수 분해 하 는 데 물 이 요구 된다는 것 이 다 . 따라서 , 알 콕 시실 란 제 와 같 은 화합물 의 이용 과 관련 된 시도 들 중 하나 는 보수 의 지속 성 이 다 . 이 는 , 알 콕 시 실란 과 Si - OH 기 사이 의 화학 적 반응 에서 중요 한 역할 인 물 처리 와 관련 된다 . 도 2 에 도시 된 바 와 같이 , 가수 분해 단계 에서 Si - OH 와의 응축 이전 에 알 콕 시기 를 가수 분해 하 기 위해서 는 물 이 필요 하 다 .