본 발명 은 전술 한 액 적 작 동기 ; 및 서브 - 액적 의 형성 동안 액적 의 가장자리 부 의 위치 를 제어 하 도록 구성 된 1 개 이상 의 전극 에 대해서 전압 의 공급 을 제어 하 도록 프로그래밍 된 프로세서 를 포함 하 는 시스템 을 제공 한다 . 상기 시스템 은 서브 - 액적 의 형성 동안 상기 액적 의 가장자리 부를 모니터링 하 기 위한 센서 를 추가 로 포함 할 수 있 다 . 상기 시스템 은 상기 서브 - 액적 의 형성 동안 상기 액적 의 풋 프린트 를 모니터링 하 기 위한 센서 를 포함 할 수 있 다 . 상기 시스템 은 상기 서브 - 액적 의 형성 동안 상기 액적 의 영역 의 풋 프린트 를 모니터링 하 기 위한 센서 를 포함 할 수 있 다 . 상시 시스템 에 의해 모니터링 된 액적 의 영역 은 분배 된 서브 - 액적 의 용적 에 대응 할 수 있 다 . 상기 센서 는 서브 액적 의 용적 과 연관 된 변수 를 검출 할 수 있 다 . 상기 센서 는 상기 액적 의 하나 이상 의 전기 적 특성 , 화학 적 특성 및 / 또는 물리 적 특성 을 검출 하 도록 선택 될 수 있 다 . 상기 센서 는 상기 액적 을 촬상 하 도록 구성 된 촬상 장치 ( imaging device ) 를 포함 할 수 있 다 . 상기 프로세서 는 상기 서브 - 액적 의 형성 동안 상기 액적 의 가장자리 부 의 위치 를 제어 하 도록 구성 된 1 개 이상 의 전극 에 대해서 전압 을 조정 하 도록 구성 될 수 있 다 . 상기 프로세서 는 상기 서브 - 액적 의 형성 동안 상기 액적 의 가장자리 부 의 위치 를 제어 하 도록 구성 된 1 개 이상 의 전극 의 전압 을 조정 하 도록 구성 될 수 있 다 .