본 발명 에 따른 악취 가스 제거 장치 에서 H 2 S , CH 3 SH , NH 3 와 같 은 악취 가스 는 산화 된 매개 이온 ( Mn + 1 ) 에 의해 CO 2 와 H 2 O 로 완전 산화 처리 됨 과 동시 에 산 성 전해질 용액 에 흡수 되 어 처리 된다 . 이때 악취 가스 처리 반응 에 사용 되 고 환원 된 매개 이온 ( Mn ) 은 전해 셀 에서 산화 된 매개 이온 ( Mn + 1 ) 으로 연속 적 으로 재생 되 어 사용 된다 . 따라서 추가 적 인 매개 이온 및 전해질 의 공급 없이 전력 공급 에 의해서 만 지속 적 으로 산화 와 환원 을 반복 해 가 면서 악취 가스 를 지속 적 으로 청정 처리 할 수 있 는 차세대 청정 처리 기술 이 다 . 또한 기존 의 냉각 응축 , 고온 산화 ( 열소 각 ) , 촉매 산화 , 흡착 , 생물학 적 처리 법 등 의 기술 과 달리 여러 가스 의 동시 처리 가 가능 하 고 , 높 은 처리 효율 을 얻 을 수 있 을 뿐 아니 라 사용 된 촉매 와 흡착제 , 흡수제 의 교체 및 2 차 오염 물질 의 배출 이 없 어 저 비용 고 효율 의 지속 적 인 처리 가 가능 하 다 .