도 5 a - 5 d 는 여기 설명 된 피어싱 본드 구 조체 들 ( 22 ) 을 형성 하 기 위한 예시 적 인 프로세스 흐름 을 도시 한다 . 초기 에 , 도 5 a 에 도시 된 바 와 같이 , 마스크 층 ( masking layer ; 80 ) 이 도전 성 물질 ( 82 ) 의 층 위 에 형성 된다 . 마스크 층 ( 80 ) 은 예 를 들 어 , 포토레지스트 물질 과 같 은 다양 한 물질 들 을 포함 할 수 있 고 , 종래 의 포토 리소그래피 기술 들 을 이용 하 여 형성 될 수 있 다 . 도전 성 물질 ( 80 ) 의 층 은 예 를 들 어 , 골드 와 같 은 다양 한 다른 물질 들 을 포함 할 수 있 고 , 예 를 들 어 , 도금 과 같 은 다양 한 공지 의 기술 들 에 의해 형성 될 수 있 다 .