CVD 법 중 에서 도 , 저 온 증착 이 가능 하 고 박막 형성 속도 가 빠른 장점 때문 에 최근 에 는 PECVD 법 이 많이 이용 되 고 있 다 . PECVD 법 은 반응 챔버 내 로 주입 된 반응 가스 에 고주파 전력 ( RF Power ) 을 인가 하 여 반응 가스 를 플 라즈 마 상태 로 만들 고 , 플 라즈 마 내 에 존재 하 는 레디 칼 ( radical ) 들 을 웨이퍼 나 유리 기판 상 에 증착 되 도록 하 는 방법 을 말 한다 .