본 발명 은 타 겟 용 위치 가 변유 니트 를 제공 한다 . 상기 타 겟 용 위치 가 변유 니트 는 그 중심 으로부터 방사형 상 으로 배치 되 며 타 겟 이 고정 되 는 타 겟 홀더 들 을 갖 는 타 겟 고 정체 와 , 타 겟 고 정체 의 중심 과 제 1 회전축 으로 연결 되 어 타 겟 고 정체 를 회전 시키 는 제 1 구 동부 와 , 타 겟 홀더 들 각각 의 중심 과 제 2 회전축 으로 연결 되 어 타 겟 홀더 들 각각 을 회전 시키 는 제 2 구동 부들과 , 타 겟 홀더 를 회전 시킴 과 동시 에 타 겟 홀더 의 폭 만큼 의 회전 범위 로 타 겟 고 정체 를 왕복 회전 시키 도록 제 1 구 동부 와 제 2 구동 부 를 제어 하 는 제 어부 와 , 타 겟 홀더 에 연결 되 어 타 겟 고 정체 상 에서 제 1 회전축 과 타 겟 홀더 사이 의 거리 를 변화 시키 는 위치 가 변 수단 을 포함 한다 . 또한 , 본 발명 은 상기 타 겟 용 위치 가 변유 니트 를 갖 는 반도체 소자 제조 용 펄스 파 레이저 증착 설비 도 제공 함 으로써 , 타 겟 으로 의 레이저 광이 조사 되 는 조사 영역 을 확대 하 여 레이저 광 에 의하 여 타격 되 는 타 겟 의 영역 을 넓힐 수 있 다 .