도 1 의 프로세스 들 의 플로우 차트 에 의해 예시 된 본 발명 의 실시 형태 는 , 플라 즈 마 프로세싱 챔버 ( 301 ) 를 내부 에 갖 는 플 라즈 마 리액터 ( 302 ) 를 포함 하 는 플 라즈 마 프로세싱 시스템 ( 300 ) 의 개략 도인 도 3 에서 도시 된 바 와 같 은 플 라즈 마 프로세싱 챔버 에서 수행 될 수 도 있 다 . 매치 네트워크 ( 324 ) 에 의해 튜닝 된 플 라즈 마 전력 공 급기 ( 322 ) 는 , 플라 즈 마 프로세싱 챔버 ( 301 ) 에서 플 라즈 마 ( 308 ) 를 생성 하 기 위해 윈도우 ( 304 ) 근처 에 위치 된 안테나 ( 306 ) 에 전력 을 공급 한다 . 안테나 ( 306 ) 는 프로세싱 챔버 ( 301 ) 내 에서 균일 한 확산 프로 파일 을 생성 하 도록 구성 될 수 도 있 으며 ; 예컨대 , 안테나 ( 306 ) 는 플 라즈 마 ( 308 ) 에서 의 토로 이달 ( toroidal ) 전력 분배 를 위해 구성 될 수 도 있 다 . 윈도우 ( 304 ) 는 , 에너지 가 안테나 ( 306 ) 로부터 플 라즈 마 챔버 ( 301 ) 로 전달 되 도록 허용 하 면서 플 라즈 마 챔버 ( 301 ) 로부터 안테나 ( 306 ) 를 분리 시키 기 위해 제공 된다 . 매치 네트워크 ( 328 ) 에 의해 튜닝 된 웨이퍼 바이어스 전압 전력 공 급기 ( 326 ) 는 , 전 - 처리 프로세싱 이전 으로부터 후 - 처리 프로세싱 이후 까지 웨이퍼 를 지지 하 는 , 기판 지 지체 를 제공 하 는 , 전극 ( 310 ) 에 의해 지지 되 는 , 웨이퍼 ( 312 ) 상 에 바이어스 전압 을 세팅 하 기 위해 , 전극 ( 310 ) 에 전력 을 제공 한다 . 플 라즈 마 전력 공 급기 ( 322 ) 및 웨이퍼 바이어스 전압 공 급기 ( 326 ) 에 대한 세트 포인트 들 은 제어기 ( 336 ) 에 의해 세팅 된다 .