따라서 , 실시 예 에서 , 이 기술 은 가상 웨이퍼 로부터 윤곽 예측 을 가능 하 게 한다 ; 따라서 , 이 기술 은 윤곽 을 측정 하 지 않 고 생성 하 기 위하 여 계측 을 계산 과 조합 한다 . 실시 예 에서 , 적절 한 핑거 프린트 ( 예 를 들 어 , 나중 의 에칭 임계 치수 핑거 프린트 및 리소그래피 장치 초점 핑거 프린트 ) 가 주어지 면 , 이 기술 은 윤곽 의 가변성 및 기판 에 걸친 에지 배치 오차 의 예측 을 가능 하 게 한다 . 실시 예 에서 , 이 기술 은 다중 패 터닝 을 위한 더 나 은 예측 능력 을 가능 하 게 한다 . 실시 예 에서 , 이 기술 은 예측 된 윤곽 에 기초 하 여 에지 배치 최적화 를 사용 함 으로써 패턴 제어 를 가능 하 게 한다 .