바람직 한 실시 양태 에서 무기 산화물 은 본 명세서 에 개시 된 바 와 같이 반응 할 수 있 는 루이스 산 관능기 의 존재 를 제외 하 고 비 관능 화 된다 . 바람직 하 게 , 루이스 산 기 는 트리 ( C 1 - 4 알킬 ) 알루미늄 화합물 , 특히 트리 메틸 알루미늄 과 무기 산화물 의 표면 히드록실 잔기 의 반응 에 의해 도입 된다 . 반응 은 선택 적 으로 탄화수소 희석제 의 존재 하 에서 , 선택 적 으로 C 1 - 4 트리 알킬 아민 과 같 은 염기 보조제 ( base assist ) 의 존재 하 에서 , 트리 ( C 1 - 4 ) 알킬 알루미늄 화합물 을 무기 산화물 과 의 접촉 시킴 으로써 이루어진다 . 반응 은 0 내지 110 ℃, 바람직 하 게 는 20 내지 50 ℃ 의 온도 에서 수행 된다 . 대개 입상 고체 의 히드록실 함량 을 기준 으로 초과량 의 루이스 산 화합물 이 사용 된다 . 루이스 산 : 입상 고체 의 바람직 한 비율 은 1 내지 2500 mmol / g 이 다 . 전술 한 반응 의 결과 로 , 무기 산화물 의 잔류 히드록실 관능기 는 감소 하 거나 , 전술 한 바람직 한 수준 , 보다 바람직 한 수준 , 또는 가장 바람직 한 수준 으로 더 감소 한다 . 본 발명 의 관능 화 된 담체 재료 를 제조 하 는 데 있 어 매우 바람직 하 게 , 1 . 0 mmol / g 미만 의 초기 ( 즉 , 사전 관능 화 된 ) 잔류 히드록실 함량 을 갖 는 하소 실리카 가 사용 되 며 , 실리카 1 g 당 1 내지 20 mmol 의 루이스 산 관능 화제 가 사용 된다 . 사용 된 염기 보조제 대 루이스 산 관능 화제 의 몰 비 는 대개 0 . 0 : 1 내지 2 . 0 : 1 이 다 . 미 반응 관능 화제 는 예컨대 , 액체 탄화수소 로 세척 함 으로써 무기 산화물 의 표면 으로부터 바람직 하 게 제거 되 며 , 담체 는 본 발명 의 관능 화 된 담체 를 제조 하 는 데 사용 되 기 전 에 철저히 건조 된다 .