실시 예 에서 , 프로세스 챔버 에서 의 플 라즈 마 처리 를 위한 방법 은 하나 이상 의 프로세스 가스 를 프로세스 챔버 내 에 도입 하 는 단계 를 포함 한다 . 프로세스 챔버 는 도파 로 공동 에 인접 하 여 배치 되 고 , 도파 로 공동 은 , 도파 로 공동 내 의 전자기 방사선 이 프로세스 챔버 내 로 전파 되 는 것 을 차단 하 지 않 고 프로세스 챔버 로부터 분리 된다 . 방법 은 또한 , 전자기 방사선 을 도파 로 공동 내 로 전파 하 는 단계 를 포함 한다 . 전 자기 방사선 은 마이크로파 주파수 ( ω ) 로 제공 된다 . 도파 로 공동 내 에 공급 된 전력 의 제 1 부분 은 , 도파 로 공동 내 에서 TE 모드 로 공진 하 는 전자기 방사선 의 부분 에 의해 공급 된다 . 도파 로 공동 내 에 공급 된 전력 의 제 2 부분 은 , 도파 로 공동 내 에서 제 2 TE 모드 로 공진 하 는 전자기 방사선 의 부분 에 의해 공급 된다 . 방법 은 , 프로세스 가스 들 로부터 플 라즈 마 를 점 화 하 는 단계 ; 및 도파 로 공동 으로부터 프로세스 챔버 내 로 전파 된 전자기 방사선 에 의해 공급 된 전력 으로 플 라즈 마 를 유지 하 는 단계 를 더 포함 한다 .