고화질 및 고 생산 성 에 대한 요구 에 대응 하 기 위해서 , " 광 주사 장치 의 1 개 의 광원 이 복수 의 발광 점 ( 이하 "" 멀티 빔 "" 이 라 칭함 ) 을 갖 도록 하 는 것 이 요구 되 고 있 다 . 멀티 빔 은 광원 의 크기 를 증가 시킨다 . 복수 의 멀티 빔 광원 을 일본 특허 출원 공개 제 2013 - 125041 호 에 기재 되 어 있 는 바 와 같이 회전 다면 거울 의 회전 축선 방향 으로 병렬 로 배치 하 면 ", 광 주사 장치 의 크기 도 회전 다면 거울 의 회전 축선 방향 으로 증가 한다 .