제 1 도 전막 ( 192 ) 은 제 1 내지 제 4 예비 컨트롤 게이트 들 ( 142 , 144 , 146 , 148 ) 의 상면 및 측벽 일부 상 에 형성 될 수 있 으며 , 제 1 및 제 5 절 연막 패턴 들 ( 172 , 178 ) 상 에 제 3 도 전막 ( 194 ) 이 더 형성 될 수 있 다 . 일 실시 예 에 따르 면 , 제 1 도 전막 ( 192 ) 은 제 1 내지 제 3 예비 컨트롤 게이트 들 ( 142 , 144 , 146 ) 의 측벽 에 비해 제 4 예비 컨트롤 게이트 ( 148 ) 의 측벽 을 보다 많이 커버 하 도록 형성 될 수 있 다 .