제 1 실시 형태 에 대해 설명 한다 . 도 1 은 제 1 실시 형태 에 관한 노광 장 치 ( EX ) 를 나타내 는 개략 구성도 이 다 . 본 실시 형태 의 노광 장치 ( EX ) 는 소정면 ( XY 평면 ) 상 의 서로 다른 위치 에 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 을 규정 함 과 동시 에 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 및 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 의 각각 에 노광 광 ( EL ) 을 조사 하 는 광학 유 니트 ( U ) 와 , 노광 광 ( EL ) 이 조사 되 는 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 및 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 을 포함 하 는 소정 영역 내 에서 기판 ( P ) 을 유지 하 여 이동 가능 한 기판 스테이지 ( 4 ) 와 , 노광 장치 ( EX ) 전체 의 동작 을 제어 하 는 제어 장치 ( 7 ) 를 구비 하 고 있 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 광학 유 니트 ( U ) 는 Y 축 방향 의 다른 위치 에 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 을 규정 한다 . 또한 , 여기 서 말 하 는 기판 은 실리콘 웨이퍼 와 같 은 반도체 웨이퍼 등 의 기재 ( 基 材 ) 위 에 감 광재 ( 포토레지스트 ( photoresist ) ) , 보호막 ( 오버코트 막 ) 등 의 각종 의 막 을 도포 한 것 을 포함 한다 .