예컨대 , 상부 티타늄 막 ( 23 ) 의 증착 공정 은 스퍼터링 타 겟 ( sputtering target ) 표면 이 질화 티타늄 인 상태 에서 아르곤 ( Ar ) 가스 만 주입 하 여 타 겟 표면 의 질화 티타늄 이 그대로 증착 되 도록 함 으로써 , 순수 티타늄 ( pure Ti ) 이 아닌 거의 질화 티타늄 에 가까운 비 순수 티타늄 ( impure Ti ) 을 증착 한다 .