본 발명 의 다른 실시 예 에 따른 기판 처리 장치 는 , 기판 이 출입 하 는 출입구 를 갖 는 챔버 ; 챔버 의 내부 에 배치 되 며 챔버 내 로 반입 된 기판 을 처리 하 는 기판 처리 유닛 ; 및 출입구 에 인접 하 게 설치 되 며 출입구 가 개방 될 때 출입구 주위 의 가스 를 흡입 하 여 배출 하 도록 구성 되 는 가스 배출 유닛 을 포함 할 수 있 다 .