도 7 의 노광 필드 별 온도 분포 그래프 ( 710 ) 를 참조 하 면 , 노광 필드 별로 순차 적 으로 노광 을 진행 함 에 따라 , 노광 공정 시 설정 되 는 300 . 00 K 에 비해 노광 필드 들 에서 의 온도 가 변동 됨 을 보여 주 고 있 다 . 이러 한 온도 변동 에 의해서 포커스 시프트 가 발생 되 어 미세 패턴 형성 시 불량 이 발생 될 수 있 으므로 , 이 를 억제 하 기 위해서 , 도 6 에 제시 된 바 와 같이 , 웨이퍼 척 ( 610 ) 에 웨이퍼 ( 620 ) 의 온도 를 제어 하 여 조정 하 는 웨이퍼 냉 각부 ( 651 ) 를 도입 한다 . 웨이퍼 냉 각부 ( 651 ) 는 도 7 의 측정 된 노광 필드 별 온도 분포 그래프 ( 710 ) 의 온도 변동 을 보상 하 도록 온도 제 어부 ( 653 ) 에 의해 제어 될 수 있 다 .