실시 예 에서 , 플 라즈 마 를 생성 하 는 시스템 은 배기 될 수 있 는 프로세스 챔버 , 및 프로세스 챔버 에 인접 하 여 배치 된 도파 로 공동 을 포함 한다 . 도파 로 공동 은 , 도파 로 공동 내 의 전자기 방사선 이 프로세스 챔버 내 로 전파 되 는 것 을 차단 하 지 않 고 프로세스 챔버 로부터 분리 된다 . 시스템 은 또한 , 하나 이상 의 프로세스 가스 를 프로세스 챔버 내 에 도입 하 기 위한 하나 이상 의 프로세스 가스 공급 부 , 및 제 1 전자 장치 세트 및 제 2 전자 장치 세트 를 포함 한다 . 제 1 및 제 2 전자 장치 세트 들 각각 은 , 전자기 방사선 을 도파 로 공동 내 로 송신 한다 . 시스템 은 , 각각 의 제 1 및 제 2 입력 파형 들 을 제 1 및 제 2 전자 장치 세트 들 각각 에 제공 하 는 제어기 를 더 포함 한다 . 제 1 및 제 2 입력 파형 들 각각 은 마이크로파 주파수 ( ω ) 를 갖 고 , 제 1 및 제 2 입력 파형 들 은 , 전자 장치 세트 들 에 의해 증폭 될 때 회전 주파수 ( Ω ) 로 도파 로 공동 내 에 전자기 방사선 을 제공 하 는 각각 의 진폭 들 을 갖 는다 . 하나 이상 의 프로세스 가스 중 적어도 하나 가 챔버 내 에 있 고 , 전자기 방사선 이 도파 로 공동 으로부터 프로세스 챔버 내 로 전파 될 때 플 라즈 마가 형성 된다 .