라인 패턴 ( 10 ) 의 폭 은 노광 시 의 축소율 에 도 의거 하 지만 , 1 ㎟ 사이즈 의 칩 을 형성 할 경우 에 는 , 1 ㎛ 이상 으로 설정 하 고 , 바람직 하 게 는 5 ㎛ 정도 로 한다 . 또한 , 각 라인 패턴 ( 10 ) 사이 의 스페이스 는 , 후술 하 는 바 와 같이 , 다양 한 값 으로 설정 하 는 것 이 가능 하 다 . 라인 패턴 ( 10 ) 의 폭 을 이러 한 범위 로 설정 함 으로써 , 이러 한 라인 패턴 ( 10 ) 이 전사 된 기준 용 칩 과 패드 패턴 이 전사 된 제품 용 칩 의 화상 인식 처리 에 의한 식별 을 확실 하 게 행할 수 있 게 된다 .