본 발명 의 제 1 형태 에 따르 면 , 진공 분위기 에서 복수 종류 의 반응 가스 를 순서 대로 기판 에 공급 하 는 사이클 을 복수 회 반복 해서 박막 을 형성 하 고 , 복수 종류 의 반응 가스 중 하나 는 , 기판 에 흡착 된 다른 반응 가스 의 분자 와 반응 해서 박막 성분 을 형성 하 는 것 인 성막 장치 가 제공 된다 . 상기 성막 장치 는 , 진공 용기 내 에 설치 되 고 , 기판 을 적재 하 기 위한 기판 적 재 영역 을 구비 한 적 재 대 와 , 상기 진공 용기 내 를 진공 배기 하 기 위한 진공 배기 기구 와 , 상기 기판 적 재 영역 에 적재 된 기판 에 상기 복수 종류 의 반응 가스 를 각각 공급 하 기 위한 복수 의 반응 가스 공급 부 와 , 기판 에 흡착 된 상기 다른 반응 가스 의 분자 와 반응 하 는 성분 을 포함 하 는 플 라즈 마 를 , 박막 의 형성 중 에 기판 에 공급 하 여 , 기판 상 의 박막 의 개질 처리 를 행하 기 위한 플 라즈 마 발생 부 와 , 박막 의 형성 도중 의 일 시점 에서 , 상기 플 라즈 마 발생 부 로부터 박막 에 공급 되 는 플 라즈 마의 강도 를 , 일 시점 이전 에 박막 에 공급 되 었 던 플 라즈 마의 강도 와 는 다른 강도 로 변경 하 도록 제어 신호 를 출력 하 는 제 어부 를 구비 한다 .