또한 , 전해 가공 종료 후 는 , 웨이퍼 ( W ) 표면 을 향한 순수 노즐 ( 도시 하 지 않 음 ) 로부터 웨이퍼 ( W ) 표면 에 순수 를 공급 하 여 웨이퍼 ( W ) 전면 을 빠짐없이 린스 한다 . 이것 에 의하 여 , 웨이퍼 ( W ) 표면 으로부터 전해액 은 완전히 순수 로 치환 된다 . 또한 , 웨이퍼 ( W ) 주위 의 컵 ( 도시 하 지 않 음 ) 의 내측 에 도 세정 하 기 위한 순수 를 공급 하 는 샤워 노즐 이 존재 하 고 , 웨이퍼 ( W ) 로부터 비산 하 여 컵 의 내측 에 비산 한 전해액 을 깨끗 하 게 씻 어 내 도록 구성 되 어 있 다 .