도 23 에서 의 최초 의 공정 은 , IZO 막 성막 의 공정 이 다 ( S 35 ) . 이 공정 은 , 아래 글래스 ( 50 ) 의 전체 면 에 걸쳐 IZO 막 을 성막 하 는 공정 에서 , 실제로 는 도 5 의 S 32 의 공정 과 연속 하 여 행해진다 . 즉 , 스퍼터링 에 의해 티탄 / 알루미늄 / 티탄 의 성막 공정 에 연속 하 여 , IZO 막 이 성막 된다 . 성막 된 IZO / 티탄 / 알루미늄 / 티탄 의 전체 의 막 두께 는 500 ∼ 900 ㎚ 이 다 . 이 4 층 성막 은 , 예 를 들 면 매 엽 식 의 연속 스퍼터링 성막 장치 를 이용 하 여 , S 30 의 공정 에 이어서 , 티탄 층 성막 - 알루미늄 층 성막 - 티탄 층 성막 - IZO 층 성막 의 순 으로 성막 함 으로써 행할 수 있 다 .