본 발명 의 일부 구체 예 에서 , 도 14 에 도시 된 바 와 같이 , 평판 형 중합체 필름 ( 141 ) 은 나노 패턴 화 될 수 있 고 생성 된 나노 패턴 화 된 중합체 필름 ( 143 ) 은 실린더 ( 142 ) 표면 에 결합 될 수 있 다 . 그 결과 가 실린더 형 마스크 ( 144 ) 이 다 . 비 제한 적 예 로서 , 평판 형 중합체 필름 은 , " 예 를 들 어 본원 에 전문 이 참고 인용 된 미국 특허 출원 공개 번호 20100123885 ( 2010 년 5 월 20 일 출원 ) 로서 공개 된 "" 넓 은 영역 나노 패턴 화 방법 및 장치 "" 를 명칭 으로 하 는 보리스 코브린 등 에 의한 공유 양도 된 동시 계류 중 인 미국 특허 출원 번호 제 12 / 384 ", 219 호 ( 2009 년 4 월 1 일 출원 ) 에 기술 된 투명 한 회전 실린더 마스크 를 사용 하 여 리소그래피 로 패턴 화 될 수 있 다 . 엘라스토머 필름 은 임의 의 적당 한 나노 리소그래피 기술 을 사용 하 여 나노 구조 화 될 수 있 다 . 적당 한 기술 의 예 는 , 비 제한 적 예 로서 , 스 테퍼 , e - 빔 리소그래피 등 을 비롯 한 나노 임프 린트 리소그래피 , 자외선 ( UV ) 리소그래피 를 포함 한다 . 나노 패턴 화 이후 , 필름 을 실린더 의 외표 면 에 결합 ( 예 , " 적층 ) 시킬 수 있 다 . 나노 패턴 화 된 필름 ( 143 ) 을 실린더 ( 142 ) 의 둘레 보다 약간 더 길 게 만들 어서 실린더 에 결합 시킬 때 필름 의 말단 에서 필름 자체 를 약간 중첩 시킬 수 있 다 . 이러 한 중첩 은 리소그래피 동안 필름 상 의 패턴 을 기판 으로 전사 시킬 때 패턴 에 "" 이음매 ""( 145 ) 를 방지 하 거나 줄일 수 있 다 . 대안 적 으로 ", 실린더 와 동일 한 곡률 반경 을 갖 는 곡선 의 마스터 ( 또는 서브 마스터 ) 가 이음매 를 패턴 화 하 는 데 사용 될 수 있 다 .