특정 실시 예 에서 , 방법 은 포토 마스크 의 참조 반사 이미지 및 참조 투과 이미지 와 같 은 참조 다이 ( die ) 의 참조 광도 이미지 를 얻 는 것 을 또한 수반 한다 . 밴드 제한 마스크 패턴 은 또한 참조 광도 이미지 를 사용 하 여 구축 될 수 있 다 . 테스트 광도 이미지 는 통상 적 으로 참조 광도 이미지 와 정렬 된다 . 예 를 들 어 , 테스트 투과 이미지 는 테스트 반사 이미지 에 대해 정렬 되 고 , 참조 투과 이미지 는 참조 반사 이미지 에 대해 정렬 되 고 , 반면 에 참조 투과 이미지 는 테스트 투과 이미지 에 대해 정렬 되 거나 또는 참조 반사 이미지 는 테스트 반사 이미지 에 대해 정렬 된다 . 일반 적 으로 , 적어도 테스트 투과 이미지 는 예컨대 , ( 다이 - 대 - 다 이 검사 모드 에서 의 ) 참조 다이 또는 ( 다이 - 대 - 데이터베이스 모드 에서 의 ) 레스터 화 된 ( rasterized ) 데이터베이스 이미지 와 같 은 , 참조 이미지 소스 에 상관없이 테스트 반사 이미지 에 대해 정렬 된다 .