연마 입자 의 평균 입경 Rave 는 , 충분 한 기계 적 연 마력 이 얻 기 쉬우며 , TEOS 막 의 더욱 높 은 연마 속도 가 얻 어 지 는 관점 에서 , 50 nm 를 초과 하 는 것 이 바람직 하 고 , 55 nm 이상 이 보다 바람직 하 고 , 55 nm 를 초과 하 는 것 이 더욱 바람직 하 고 , 60 nm 이상 이 특히 바람직 하 고 , 60 nm 를 초과 하 는 것 이 극히 바람직 하 고 , 70 nm 이상 이 더 한층 바람직 하 고 , 70 nm 를 초과 하 는 것 이 더 한층 바람직 하 고 , 80 nm 이상 이 더 한층 바람직 하 고 , 80 nm 를 초과 하 는 것 이 가장 바람직 하 다 . 연마 입자 의 평균 입경 Rave 는 , 연마제 중 에서 의 연마 입자 가 양호 한 분산 안정 성 이 얻 어 지 고 , 또한 연마 에 의해 발생 하 는 연 마흔 의 발생 수 가 더욱 적 은 관점 에서 , 300 nm 이하 가 바람직 하 고 , 250 nm 이하 가 보다 바람직 하 고 , 200 nm 이하 가 더욱 바람직 하 고 , 150 nm 이하 가 특히 바람직 하 고 , 120 nm 이하 가 극히 바람직 하 고 , 100 nm 이하 가 가장 바람직 하 다 . 이상 의 관점 에서 , 연마 입자 의 평균 입경 Rave 는 , 50 ∼ 300 nm 가 바람직 하 고 , 50 ∼ 120 nm 가 보다 바람직 하 고 , 50 ∼ 100 nm 이 더욱 바람직 하 다 .