도 5 를 참조 하 면 , 본 실시 예의 가스 공급 장치 ( 500 ) 는 반도체 기판 또는 유리 기판 에 대한 처리 공정 에 사용 될 수 있 으며 , 액상 의 소스 를 수용 하 는 용기 ( 510 ) 와 , 상기 용기 ( 510 ) 의 상부 를 밀폐 하 는 커버 ( 520 ) 와 , 상기 커버 ( 520 ) 를 통하 여 하방 으로 연장 하 며 캐리어 가스 를 공급 하 는 다수 의 제 1 가스 공급 배관 들 ( 530 ) 과 , 상기 용기 ( 510 ) 내부 의 공간 을 다수 의 공간 들 로 구획 하 기 위한 적어도 하나 의 공간 구획 부재 ( 540 ) 와 , 상기 구획 된 공간 들 과 연통 하 도록 배치 되 는 다수 의 제 2 가스 공급 배관 들 ( 550 ) 을 포함 할 수 있 다 . 또한 , 상기 제 1 가스 공급 배관 들 ( 530 ) 의 하단 부들 에 는 다수 의 노즐 들 이 형성 된 노즐 블록 들 ( 560 ) 이 각각 장착 될 수 있 다 .