도 12 는 , 도 11 c 를 참조 하 여 설명 된 릴리프 스탬프 ( 1002 ) 를 사용 해서 제조 될 수 있 는 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 의 평면 도 및 단면도 를 개략 적 으로 도시 한다 . 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 의 제조 에서 는 , 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 를 사용 해서 초점 보상 막 ( 3 ) 이 형성 된 기판 에 노광 처리 를 행하 기 위한 주사 노광 장치 에서 의 각 샷 영역 의 주사 방향 이 고려 될 수 있 다 . 주사 노광 장치 에서 는 , 주사 방향 을 따라서 상면 형상 이 변화 될 수 있 다 . 그러므로 , 하향 방향 ( 제 1 방향 ) 으로 기판 이 주사 되 는 다운 스캔 ( 801 ) 에 대응 하 는 릴리프 스탬프 ( 1002 ) 및 상향 방향 ( 제 2 방향 ) 으로 기판 이 주사 되 는 업 스캔 ( 802 ) 에 대응 하 는 릴리프 스탬프 ( 1002 ) 를 사용 해서 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 가 제조 될 수 있 다 . 즉 , 주사 방향 에 따른 상부 표면 형상 을 갖 는 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 가 제조 될 수 있 다 . 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 는 얼라인먼트 마크 ( 1102 ) 를 가질 수 있 다 . 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 의 높이 는 X 및 Y 방향 에서 서서히 변화 되 기 때문 에 , 얼라인먼트 마크 에 의한 정렬 정밀도 는 약 10 μ m 의 재현 성 을 가지 면 충분 할 수 있 다 . 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 는 , 예 를 들 어 복수 의 포토 리소그래피 단계 에 의해 제조 될 수 있 다 . 이 와 같이 하 여 형성 된 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 는 그 표면 을 보호 하 기 위해서 보호막 이 제공 될 수 있 다 . 해당 보호막 은 , 예 를 들 어 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) 의 표면 에 CYTOP ® 을 코팅 함 으로써 형성 될 수 있 다 .