도 12 b 를 참조 하 면 , 도 9 a 내지 9 d 의 공정 으로 게이트 스택 ( 304 a ) 을 형성 할 경우 게이트 들 ( 365 ) 사이 의 에어 갭 들 ( 316 ) 에 의해 노출 되 는 정보 저 장막 ( 355 ) 을 덮 는 보호막 ( 318 ) 을 더 형성 할 수 있 다 . 보호막 ( 318 ) 은 도 7 a 의 공정 으로 형성 할 수 있 다 .