본 발명 의 광학 모니터 장치 또는 플 라즈 마 처리 장치 에 따르 면 , 상기 와 같 은 구성 및 작용 에 의해 , 평판 슬롯 안테나 의 전자파 방사 특성 의 균일성 에 영향 을 주 지 않 고서 파장 영역 이 넓 은 모니터 광 ( 특히 비 코 히 어 런 트 의 모니터 광 ) 을 이용 하 여 처리 용기 내 의 피 처리 기판 의 표면 에 대한 광학 적 인 모니터링 을 높 은 정밀도 로 행할 수 있 다 .