상기 스팀 분사 장치 ( 700 ) 는 상기 제 2 이송 수단 ( 600 ) 을 통해 이송 되 는 티엠 알 사료 에 스팀 을 분사 하 기 위한 것 으로 , 120 ℃ 이상 의 고온 고압 의 스팀 이 적당량 분사 되 도록 상기 큐브 가공 장치 ( 500 ) 의 상측 에 장착 되 며 , 스팀 토출구 가 상기 큐브 가공 장치 ( 500 ) 로 티엠 알 사료 가 유입 되 는 투 입부 ( 도 2 에서 도면 부호 582 ) 의 상측 에 위치 하 여 큐브 가공 장치 ( 500 ) 로 유입 되 는 티엠 알 사료 에 스팀 을 분사 하 도록 함 으로써 상기 큐브 가공 장치 ( 500 ) 의 가공 성 을 향상 시키 기 위한 구성 이 다 .