스텝 4 에서 는 , 제 1 가스 공급 관 ( 232 a ) 의 제 1 밸브 ( 243 a ) 및 가스 배기관 ( 231 ) 의 제 4 밸브 ( 243 d ) 를 모두 개방 하 고 , 제 1 가스 공급 관 ( 232 a ) 으로부터 제 1 매스 플로우 컨트롤러 ( 241 a ) 에 의해 유량 조정 된 NO 가스 를 가스 노즐 ( 233 ) 의 제 2 가스 공급 공 ( 248 b ) 으로부터 버퍼 실 ( 237 ) 내 로 분출 시킨다 . 이 때 , 제 1 막대 형상 전극 ( 269 ) 및 제 2 막대 형상 전극 ( 270 ) 사이 에 고주파 전원 ( 273 ) 으로부터 정합 기 ( 272 ) 를 개재 하 여 고주파 전력 을 인가 함 으로써 , 이 NO 가스 를 플 라즈 마 여기 하 여 활성 종 으로서 제 1 가스 공급 공 ( 248 a ) 으로부터 처리 실 ( 201 ) 내 로 공급 하 면서 가스 배기관 ( 231 ) 으로부터 배기 한다 . NO 가스 를 플 라즈 마 여기 함 으로써 활성 종 으로서 흘릴 때 는 , 제 4 밸브 ( 243 d ) 를 적정 하 게 조정 하 여 처리 실 ( 201 ) 내 의 압력 을 , 예 를 들 면 10 ~ 100 Pa 의 범위 내 의 압력 으로 한다 . 제 1 매스 플로우 컨트롤러 ( 241 a ) 로 제어 하 는 NO 가스 의 공급 유량 은 , 예 를 들 면 100 ~ 10000 sccm 범위 내 의 유량 으로 한다 . NO 가스 를 플 라즈 마 여기 함 으로써 얻 어 진 활성 종 에 웨이퍼 ( 200 ) 를 노출 하 는 시간 은 , 예 를 들 면 2 ~ 120 초 사이 의 범위 내 의 시간 으로 한다 . 이 때 의 히터 ( 207 ) 의 온도 는 , HCD 가스 의 공급 시 와 마찬가지 로 , 웨이퍼 ( 200 ) 의 온도 가 300 ~ 650 ℃ 범위 내 의 온도 가 되 는 온도 로 설정 한다 . 한편 , 고주파 전원 ( 273 ) 으로부터 제 1 막대 형상 전극 ( 269 ) 및 제 2 막대 형상 전극 ( 270 ) 사이 에 인가 하 는 고주파 전력 은 , 예 를 들 면 , 50 ~ 400 W 범위 내 의 전력 이 되 도록 설정 한다 . NO 가스 는 반응 온도 가 높 고 , 상기 와 같 은 웨이퍼 온도 , 처리 실 내부 압력 에서 는 반응 하 기 어렵 기 때문 에 , 플라 즈 마 여기 함 으로써 활성 종 으로서 흘리 도록 하 고 , 이 때문 에 웨이퍼 ( 200 ) 의 온도 는 상술 한 바 와 같이 설정 한 낮 은 온도 범위 의 상태 여도 된다 .