그러나 , 일반 적 인 광 주사 장치 에서 는 상기 빔 편 향기 에서 편향 주사 되 는 광 을 투과 시키 는 단순 한 구조 의 커버 글 래스 를 사용 함 으로써 커버 글래스 의 중앙 대비 좌우 측 의 광 투 과량 이 작아지 거나 또는 좌우 측 의 광 투 과량 이 달라지 는 등 의 문제 가 있 다 . 즉 , 광원 에서 발생 된 광 이 빔 편 향기 의 입 사면 을 기준 으로 S 편광 상태 이 면 , 중앙 대비 좌우 의 광 투 과량 이 약 10 % 저하 됨 으로써 화상 양단 부 의 품질 이 떨어지 게 된다 . 또한 , 인쇄 속도 를 향상 시키 기 위해 멀티 빔 광원 을 사용 하 는 경우 광원 을 회전 시켜서 화상 에서 피치 를 맞추 고 있 는데 , 이 때 , 편광 상태 의 변화 로 주변 광량 비 가 변화 될 수 있 어 화상 품질 의 저하 를 야기 시킨다 .