또 , 산화 가스 ( G 2 ) 를 플 라즈 마 가스 원 으로 하 는 대기 플 라즈 마 발생 장치 ( 20 ) 의 노즐 ( 36 ) 에서 분사 되 는 플 라즈 마 가스 중 의 산소 라디칼 분자 의 함유율 을 높이 고 , 절연 기판 ( 12 ) 의 불 필요 한 온도 상승 을 억제 한 후 , 유전 체관 ( 36 ) 의 플 라즈 마 분사구 ( 36 b ) 로부터 분사 되 는 플 라즈 마 가스 흐름 의 온도 를 가능 한 한 저하 시키 는 것 이 바람직 하 다 . 플 라즈 마 분사구 ( 36 b ) 로부터 분사 되 는 플 라즈 마 흐름 의 온도 를 , 예 를 들 어 200 ℃ 로 함 으로써 , 산소 라디칼 분자 의 함유율 을 높이 고 , 이 에 의해 , 주변 부 의 가열 을 초래 하 지 않 고 , 배선 부분 의 유기 바인더 를 효과 적 으로 제거 할 수 있 고 , 예 를 들 어 30 초 정도 의 단시간 의 플 라즈 마 가스 의 분무 에 의해 나노 금속 입자 를 소결 할 수 있 다 .