기판 표면 은 0 . 1 내지 200 밀리와트 ( mW ) / cm ², 바람직 하 게 는 1 내지 100 mW / cm ², 더 바람직 하 게 는 5 내지 80 mW 의 전력 을 수용 할 수 있 다 . 조명 시스템 은 100 내지 500 , 바람직 하 게 는 150 내지 400 , 및 보다 더 바람직 하 게 는 170 내지 300 nm 의 범위 로 자외선 을 방출 하 기 위해 구성 되 고 배열 될 수 있 다 . 랙 ( 12 ) 은 50 내지 200 cm 사이 의 길이 를 가질 수 있 다 . 조명 시스템 은 복사선 을 기판 으로 안내 하 기 위한 광학 웨이브 가이드 를 포함 할 수 있 다 . 광학 웨이브 가이드 는 광섬유 를 포함 할 수 있 다 . 조명 시스템 은 자외선 을 기판 으로 유도 하 기 위해 복사선 반사 표면 을 구비 할 수 있 다 .