따라서 후술 하 는 실시 예 는 건식 식각 된 부분 을 CF 4 가스 와 O 2 가스 가 혼합 된 혼합 가스 를 사용 하 여 건식 세정 처리 함 으로써 실리콘 기판 표면 위 의 불순물 을 수용성 ( water - soluble ) 물질 로 변형 시킨 후 이것 을 습식 세정 으로 깨끗이 제거 한다 . 이때 습식 세정 은 피 라나 ( piranha , H 2 SO 4 와 H 2 O 2 혼합액 ) 와 BOE ( buffered oxide echant ) 세정 을 순차 적 으로 진행 한다 .