여러 가지 회전 디스크 반응 로 디자인 은 , " 스핀들 상 에 영구 적 으로 장착 되 는 "" 서 셉 터 ( susceptor ) "" 라고 지칭 되 는 디스크 형 금속 부재 를 가진 스핀들 을 포함 한다 . 처리 될 웨이퍼 캐리어 는 서 셉 터 상 에 배치 되 고 ", 처리 프로세스 동안 에 서 셉 터 에 의해 유지 된다 . 서 셉 터 의 하류 에 배치 되 는 전기 저항 부재 와 같 은 가열 부재 는 프로세스 동안 에 서 셉 터 및 웨이퍼 캐리어 를 가열 한다 . 더욱 최근 에 , 내용 이 원용 에 의해 본 명세서 에 합체 된 미국 특허 제 6 , 685 , 774 에 기술 된 바 와 같이 , " "" 서 셉 터 없 는 "" 반응 로 가 개발 되 었 다 . 서 셉 터 없 는 반응 로 에서 ", 웨이퍼 캐리어 는 , 웨이퍼 캐리어 가 처리 를 위해 반응 챔버 내 에 위치 될 때 , 반응 로 의 스핀들 상 에 직접 장착 된다 . 하류 를 향하 는 웨이퍼 캐리어 의 표면 은 가열 부재 에 직접 노출 된다 . 서 셉 터 없 는 반응 로 디자인 은 , 반응 로 의 가열 부재 로부터 웨이퍼 캐리어 로 의 열전달 을 상당히 향상 시키 고 , 웨이퍼 캐리어 의 모든 영역 으로 의 열전달 의 균일성 을 상당히 향상 시킨다 .