EUV 공정 이 자리 잡 기 위해서 는 고 난이도 의 품질 관리 와 검사 기술 이 요구 되 지만 기존 SEM ( Scanning Electron Microscope · 전자 빔 사용 패턴 측정 장치 ) 으로 는 나타나 지 않 는 결함 이 발견 될 수 있 다 . 반도체 전공 정 웨이퍼 검사 장비 분야 주요 기업인 ' KLA ― 텐 코 ' 측 은 ' 5 ~ 7 ㎚ 공정 의 경우 칩 제조사 에서 제품 에 발생 한 구체 적 인 문제 와 원인 을 찾 는 게 어려워 지 고 있 다 ' 고 밝힌 바 있 다 . 이 에 따라 업계 에서 는 반도체 수율 에 영향 을 미치 는 재료 의 품질 과 소재 의 순도 를 원천 적 으로 개선 하 는 해결책 에 대한 관심 이 늘어났 다 .