다른 구 현예 에서 , 반도체 공정 처리 장치 가 개시 된다 . 상기 장치 는 반응기 , 및 상기 반응기 에 반응물 증기 를 제공 하 도록 구성 된 기화기 를 포함 할 수 있 다 . 상기 장치 는 상기 기화기 와 상기 반응기 사이 에 공정 제어 챔버 를 포함 할 수 있 다 . 상기 장치 는 , 상기 공정 제어 챔버 에서 측정 된 압력 의 피드백 에 적어도 부분 적 으로 기초 하 여 , 상기 공정 제어 챔버 내 의 압력 을 조절 하 도록 구성 된 제어 시스템 을 포함 할 수 있 다 .