특허 문헌 4 에 기재 된 기판 처리 시스템 과 같이 , 복수 의 프로세스 챔버 를 상하 방향 으로 다단 으로 겹친다고 해도 , 프로세스 챔버 의 상부 또는 하부 에 는 , 가스 공급계 , 가스 배 기계 , 고주파 전력 공급 수단 등 의 프로세스 의 실행 에 필수 적 인 장비 가 마련 되 고 , 프로세스 챔버 자체 도 대형 화 의 경향 에 있 어 , 현재 상태 의 공장 의 클린 룸 에 다단 으로 겹치 는 프로세스 챔버 를 배치 하 는 것 은 , 현실 적 으로 는 공간 적 으로 곤란 하 다 . 가령 프로세스 챔버 를 다단 으로 배치 할 수 있 었 다고 하 더라도 , 프로세스 의 실행 에 필수 적 인 장비 를 프로세스 챔버 의 상부 및 하부 에 배치 하 는 공간 을 빼앗 아 버려 , 이 들 의 장비 를 프로세스 챔버 로부터 분리 된 장소 에 배치 해야 만 한다고 하 는 문제 가 있 다 .