시스템 ( 200 ) 은 수 첨 탈 아릴 화 반응 구역 ( 202 ) 을 포함 할 수 있 다 . 반응 구역 ( 202 ) 은 반응기 ( 204 ) 를 포함 할 수 있 다 . 반응기 ( 204 ) 는 유효 한 양 의 적합 한 촉매 를 포함 할 수 있 다 . 촉매 는 촉매 층 에 있 을 수 있 다 . 반응기 ( 204 ) 는 공급 원료 스트림 ( 206 ) , 재순환 스트림 ( 208 ) , 수소 스트림 ( 212 ) 을 포함 하 는 조합 된 스트림 ( 210 ) 을 수용 하 기 위한 유입 구 를 포함 할 수 있 다 . 공급 원료 스트림 ( 206 ) 은 C 9 + 방향 족 을 포함 하 는 스트림 일 수 있 다 . 수 첨 탈 아릴 화 된 유출물 스트림 ( 214 ) 은 반응기 ( 204 ) 의 유출 구로 부터 배출 될 수 있 다 . 수 첨 탈 아릴 화 반응기 ( 204 ) 는 단일 또는 다중 촉매 층 을 가질 수 있 고 , 다중 - 층 배열 의 층 들 사이 에서 켄 칭 수소 스트림 을 수용 할 수 있 다 . 도시 되 지 않 았 지만 , 켄 칭 수소 스트림 은 반응기 ( 204 ) 에서 촉매 층 의 다양 한 위치 로 파이프 연결 된 수소 스트림 ( 212 ) 의 일부 일 수 있 다 .