웨이퍼 상 의 베벨 영역 및 / 또는 웨이퍼 상 의 디바이스 형성 영역 및 / 또는 웨이퍼 및 / 또는 프로세싱 모듈 컴포넌트 ( 예 를 들 어 , 척 , 로봇 팔 , 단부 이펙터 , 상부 전극 등 ) 의 상대 적 포지셔닝 을 획득 하 기 위해 유사 한 비교 가 임의 의 트레이스 들 의 쌍 사이 에서 이루어질 수 도 있 다 . 예 를 들 어 , 척 에 대한 웨이퍼 , 상부 전극 에 대한 척 , 웨이퍼 에 대한 상부 전극 , 척 에 대한 단부 이펙터 , 상부 전극 에 대한 단부 이펙터 , 웨이퍼 에지 에 대한 웨이퍼 상 의 디바이스 형성 영역 , 디바이스 형성 영역 에 대한 웨이퍼 상 의 베벨 영역 , 척 에 대한 디바이스 형성 영역 , 상부 전극 에 대한 디바이스 형성 영역 , 척 에 대한 베벨 영역 , 상부 전극 에 대한 베벨 영역 등 의 상대 적 위치 를 결정 할 수 있 다 .