한편 , 복수 의 검사 패턴 ( 161 ) 각각 은 복수 의 검사 기판 ( ST 5 ) 각각 의 평면 형상 에 대응 되 도록 패 터닝 되 어 복수 의 검사 기판 ( ST 5 ) 상 에 형성 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 복수 의 검사 기판 ( ST 5 ) 이 직사각 형 형상 인 경우 , 복수 의 검사 패턴 ( 161 ) 도 직사각 형 형상 으로 패 터닝 되 어 형성 될 수 있 다 . 이때 , 복수 의 검사 패턴 ( 161 ) 이 복수 의 검사 기판 ( ST 5 ) 의 형상 으로 패 터닝 됨 에 따라 복수 의 검사 기판 ( ST 5 ) 상 에서 복수 의 검사 패턴 ( 161 ) 의 면적 을 최대한 으로 확보 할 수 있 고 , 복수 의 검사 패턴 ( 161 ) 의 면적 을 확보 함 에 따라 저항 측면 에서 유리 할 수 있 다 . 다만 , 복수 의 검사 패턴 ( 161 ) 의 형상 은 복수 의 검사 기판 ( ST 5 ) 의 평면 형상 과 다른 형상 으로 이루어질 수 도 있 으며 , 이 에 제한 되 지 않 는다 .