본 발명 은 일반 적 으로 화학 적 기상 증착 ( CVD ) 프로세스 들 에 사용 된 프로세스 챔버 부품 들 에 적용 된 표면 코팅 들 을 위한 개선 된 방법 들 및 여기 에 서술 된 실시 예 들 에 따른 표면 코팅 을 갖 는 CVD 프로세스 들 에 사용 되 는 장치 를 제공 한다 . 일 실시 예 에 있 어서 , 샤워 헤드 장치 가 제공 된다 . 샤워 헤드 장치 는 본체 , 상기 본체 를 통하 여 연장 하 는 복수 의 도관 들 , 및 프로세싱 표면 상 에 배치 된 코팅 을 포함 하 며 , 상기 복수 의 도관 들 의 각각 은 본체 의 프로세싱 표면 으로 연장 하 는 개구 를 가지 며 , 상기 코팅 은 약 50 미크론 내지 약 200 미크론 의 두께 를 가지 며 약 0 . 8 의 복사율 계수 , 약 180 마이크 로 인치 내지 약 220 마이크 로 인치 의 평균 표면 거칠 기 , 및 약 15 % 또는 그 미만 의 다공도 ( porosity ) 를 갖 는다 .