한편 , 도 2 에 도시 하 는 바 와 같이 , 제 어 장치 ( 22 ) 는 스핀 척 ( 2 ) 에 의해 기판 ( W ) 을 회전 시킨 상태 에서 , 차 단판 ( 3 ) 을 처리 위치 에 위치 시켜 , 중심축 노즐 ( 14 ) 로부터 처리 액 을 토출 시킨다 . 중심축 노즐 ( 14 ) 로부터 토출 된 처리 액 은 스핀 척 ( 2 ) 에 유지 되 어 있 는 기판 ( W ) 의 상면 중앙부 에 공급 된다 . 그리고 , 기판 ( W ) 의 상면 중앙부 에 공급 된 처리 액 은 기판 ( W ) 의 회전 에 의한 원심력 을 받 아 기판 ( W ) 위 를 바깥쪽 으로 퍼져 간다 . 이 에 의해 , 기판 ( W ) 의 상면 전체 영역 에 처리 액 이 공급 되 어 , 기판 ( W ) 이 처리 액 에 의해 처리 된다 . 또한 , 차 단판 ( 3 ) 의 하 면 이 기판 ( W ) 의 상면 에 근접 한 상태 에서 기판 ( W ) 에 처리 액 이 공급 되 므로 , 기판 ( W ) 의 주위 로 털 어 내진 처리 액 이 튀 어 올라 기판 ( W ) 에 부착 되 는 것 이 억제 또는 방지 된다 .