이어서 , 반사 방지 막 패턴 ( 24 ) 을 식각 장벽 으로 하드 마스크 층 ( 23 ) 을 식각 하 여 하드 마스크 패턴 ( 23 A ) 을 형성 하 고 , 이 하드 마스크 패턴 ( 23 A ) 을 식각 장벽 으로 피식 각층 ( 21 ) 을 식각 한다 . 여기 서 , 하드 마스크 층 ( 23 ) 을 식각 할 때 물 성 이 유사 한 포토레지스트 패턴 ( 25 ) 은 제거 된다 .