본 발명 은 급속 성형 이 가능 한 임프 린트 리소그래피 장치 및 가열 방법 에 관한 것 으로 , 보다 상세 하 게 는 나노 임프 린트 리소그래피 용 금속 몰드 를 고주파 유도가열 을 이용 해 급속 으로 가열 하 되 , 고주파 유도가열 코일 을 사각 스프링 형상 으로 금속 몰드 를 감싸 도록 형성 함 으로써 균일 한 온도 분포 를 유지 할 수 있 고 , 급속 으로 가열 된 금속 몰드 는 고분자 레지스 트 ( polymer resist ) 의 표면 만 순간 적 으로 유리 전이 온도 ( Tg ) 이상 으로 가열 시켜 이미 금속 몰드 에 각인 된 미세 패턴 을 고분자 레지스 트 에 가압 하 여 전사 시키 는 것 을 특징 으로 하 는 급속 성형 이 가능 한 미세 임프 린트 리소그래피 장치 및 가열 방법 에 관한 것 이 다 .