노광 된 포토레지스트 층 ( 50 ) 을 현상액 에 노출 시키 면 도 14 에 도시 한 바 와 같이 광 마스크 의 차 광부 ( 61 ) 에 대응 하 는 마스크 패턴 ( 52 ) 이 형성 된다 . 마스크 패턴 ( 52 ) 의 두께 는 앞 에서 설명 한 마스크 패턴 ( 51 ) 의 얇 은 부분 ( 51 b ) 보다 두껍 고 두꺼운 부분 ( 51 a ) 정도 의 두께 를 가질 수 있 으나 이 에 한정 되 지 않 는다 .