전술 한 바 와 같이 셀프 플라 즈 마 챔버 ( 20 ) 에 고주파 프로브 ( 110 ) , 분광 분석기 ( 120 ) 및 광학 프로브 ( 130 ) 를 복합 적 으로 구비 하 여 공정 챔버 ( 10 ) 의 이상 여부 를 판단 할 수 있 다 . 여기 에 추가 적 으로 셀프 플라 즈 마 챔버 ( 20 ) 의 오염 을 모니터링 하 기 위하 여 외부 광원 ( 230 ) 에서 방출 된 빛 이 확산 판 ( 220 a , 220 b ) 을 통과 하 여 투명 할 재질 의 셀프 플라 즈 마 챔버 를 투과 한 빛 의 양 을 광 센서 ( 210 ) 를 통해 측정 한다 .