본 발명 에 있 어서 , 표면 처리 조성물 에 필수 로 포함 되 는 ( 필수 성분 인 ) 이온 성 관능기 함유 고분자 의 중량 평균 분자량 은 3 , 500 이상 100 , 000 이하 이 다 . 중량 평균 분자량 이 3 , 500 미만 인 경우 또는 100 , 000 을 초과 하 는 경우 , 이온 성 관능기 함유 고분자 단독 으로 는 잔사 의 제거 효과 를 충분히 얻 지 못하 는 경우 가 있 다 . 잔사 의 제거 효과 의 관점 에서 , 당해 중량 평균 분자량 의 하한 값 은 , 4 , 000 이상 인 것 이 바람직 하 고 , 9 , 000 이상 인 것 이 보다 바람직 하 고 , 10 , 000 이상 인 것 이 더욱 바람직 하 고 , 15 , 000 이상 인 것 이 보다 더 바람직 하 고 , 17 , 000 이상 인 것 이 특히 바람직 하 다 . 중량 평균 분자량 의 하한 값 이 상기 범위 에서 양호 한 잔사 의 제거 효과 가 얻 어 지 는 이유 는 , 표면 처리 대상물 이나 양전하 대전 성 성분 을 덮 을 때 의 피복성 이 보다 양호 해 지 고 , 표면 처리 대상물 표면 으로부터 의 잔사 의 제거 작용 또는 표면 처리 대상물 표면 에 대한 잔사 의 재 부착 억제 작용 이 보다 향상 되 기 때문 이 라고 추측 된다 . 또한 , 잔사 의 제거 효과 의 관점 에서 , 당해 중량 평균 분자량 의 상한 값 은 , 80 , 000 이하 인 것 이 바람직 하 고 , 50 , 000 이하 인 것 이 보다 바람직 하 다 . 중량 평균 분자량 의 상한 값 이 상기 범위 에서 양호 한 잔사 의 제거 효과 가 얻 어 지 는 이유 는 , 표면 처리 공정 후 의 이온 성 관능기 함유 고분자 의 제거 성 이 보다 양호 해 지 기 때문 이 라고 추측 된다 . 또한 , 이온 성 관능기 함유 고분자 의 중량 평균 분자량 은 , 겔 투과 크로마토그래피 ( GPC ) 에 의해 측정 할 수 있 다 . 중량 평균 분자량 의 측정 방법 의 상세 는 , 후술 하 는 실시 예 에 기재 한다 .