차폐 부재 ( 43 ) 는 , 우측 의 비 조사 범위 ( 68 R ) 에 마련 되 고 , 빔 진행 방향 ( z 방향 ) 으로 보 아 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 과 중첩 되 는 위치 에 배치 되 어 있 다 . 환언 하 면 , 차폐 부재 ( 43 ) 의 빔 진행 방향 과 직교 하 는 방향 ( x 및 y 방향 ) 의 위치 는 , 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 의 빔 진행 방향 과 직교 하 는 방향 ( x 및 y 방향 ) 의 위치 와 적어도 부분 적 으로 일치 하 고 있 다 . 차폐 부재 ( 43 ) 는 , 교정 공정 이외 에 있 어서 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 을 향하 는 이온 빔 ( B ) 을 차폐 하 기 위하 여 마련 된다 . 차폐 부재 ( 43 ) 를 마련 함 으로써 , 교정 공정 이외 에 있 어서 이온 빔 ( B ) 이 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 에 입사 불 가능 해 지 고 , 이온 빔 ( B ) 이 입사 하 는 것 에 의한 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 의 소모 나 오염 이 방지 된다 .