이렇게 하 면 , 산화 막 이 연마 가 더 잘 되 는 산화 막 용 슬러리 로 CMP 공정 을 수행 하 여 게이트 하드 마스크 질화 막 과 산화 막 간 의 단차 가 발생 하 는 종래 의 랜딩 플러그 형성 방법 과 달리 , 산화 막 보다 상대 적 으로 질화 막 이 더 잘 연마 되 는 질화 막 용 슬러리 를 사용 하 여 CMP 공정 을 수행 함 으로써 , 상기 게이트 하드 마스크 질화 막 과 산화 막 재질 의 절 연막 간 의 단차 를 최소 화 시킬 수 있 다 .