본 발명 의 실시 예 에 따른 패턴 마스크 및 인버스 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 시스템 은 광원 , 상기 광원 으로부터 발광 된 빛 을 집광 하 는 콘덴서 렌즈 , 상기 콘덴서 렌즈 를 통과 한 빛 을 통과 시키 는 서로 다른 편광 성질 이 적용 된 단일 패턴 및 인버스 ( inverse ) 단일 패턴 을 포함 하 는 패턴 마스크 , 상기 패턴 마스크 를 통과 하 여 편광 된 빛 에 대한 편광 방향 을 적용 하 는 편광 필터 , 상기 편광 필터 의 회전 을 구동 시키 고 , 상기 광원 에 따른 빛 의 발광 을 구동 하 는 구동 부 및 상기 편광 필터 를 통과 한 빛 을 방출 하 는 프로 젝 션 렌즈 를 포함 하 되 , 상기 구동 부 는 상기 편광 필터 를 회전 시켜 상기 프로 젝 션 렌즈 를 통하 여 상기 단일 패턴 또는 상기 인버스 단일 패턴 이 방출 되 도록 한다 .