도 7 을 참조 하 면 , 소자 분리 막 ( 201 ) 이 형성 된 기판 ( 200 ) 상 에 버퍼 산화 막 및 하드 마스크 층 을 순차 적 으로 형성 한 다음 , 사진 식각 공정 을 이용 하 여 상기 하드 마스크 층 및 버퍼 산화 막 을 부분 적 으로 식각 함 으로써 , 기판 ( 200 ) 상 에 버퍼 산화 막 패턴 ( 202 a ) 및 하드 마스크 ( 204 a ) 를 형성 한다 .