본 발명 은 리 쏘 그래픽 공정 에 유용 한 반사 방지 　 특성 을 갖 는 하드 마스크 조성물 에 관한 것 으로 , 본 발명 에 따른 조성물 은 매우 우수 한 광학 적 특성 , 기계 적 특성 및 에칭 선택 비 특성 을 제공 하 며 , 동시 에 스핀 - 온 도포 기법 을 이용 하 여 도포 가능 한 특성 을 제공 한다 . 본 발명 에 의한 하드 마스크 층 은 집 적 회로 제조 공정 들 과 호환 적 이 다 . 유리 하 게 도 본 발명 의 조성물 은 보다 짧 은 파장 의 자외선 　 리 쏘 그래픽 공정 에 유용 하 다 .