도 22 a 및 도 22 b 의 시 뮬 레이트 된 이소 - 콘트 라스트 다이어그램 들 은 , 도 21 에 도시 된 것 처럼 , 400 nm 포지티브 C 필름 ( 226 ) 을 광학 경로 에 병합 하 여 최소 고 스팅 효과 를 갖 는 높 은 콘트 라스트 뷰 잉 각도 의 범위 가 극 적 으로 넓 게 될 수 있 는 것 을 입증 한다 . 이 경우 에 , 도 22 b 에 도시 된 것 처럼 , 콘트 라스트 비율 은 25 ° 양극 의 각도 를 벗어나 적어도 100 : 1 이 되 고 , 35 ° 양극 의 각도 를 벗어나 적어도 20 : 1 이 된다 . 시뮬레이션 들 은 350 nm - 400 nm 범위 내 에서 면 외 위상차 들 을 갖 는 포지티브 C 필름 들 이 양호 한 결과 들 을 제공 하 며 , 400 nm 가 본 예 에서 최적 이 되 는 것 을 도시 한다 .