웨이퍼 ( W ) 의 열처리 를 행하 고 있 는 동안 에 는 , 제 어 장치 ( 100 ) 의 제 어부 ( 102 ) 는 , 가스 공급 기구 ( 60 ) 및 배기 기구 ( 70 ) 를 동작 시켜 , 처리 공간 ( S ) 내 의 가스 의 흐름 을 제어 한다 . 구체 적 으로 는 , 제 어 장치 ( 100 ) 의 제어 에 의해 , 가스 공급 기구 ( 60 ) 로부터 가스 토출 부 ( 50 ) 를 지나 처리 공간 ( S ) 내 에 소정 유량 ( L 1 ) 으로 가스 를 공급 한다 . 또한 , 제 어 장치 ( 100 ) 의 제어 에 의해 , 배기 기구 ( 70 ) 에 의해 처리 공간 ( S ) 내 의 가스 를 소정 유량 ( L 2 ) 으로 배기 구멍 ( 71 ) 으로부터 처리 공간 ( S ) 밖 으로 배출 한다 . 이때 , 열처리 유닛 ( U 8 ) 에서 는 , L 1 < L 2 가 되 도록 가스 공급 기구 ( 60 ) 에 의한 가스 공급량 과 배기 기구 ( 70 ) 에 의한 가스 배출 량 이 제어 된다 . 따라서 , 그 차분 ( L 2 - L 1 ) 에 대응 하 는 기체 가 , 기체 유로 ( 81 ) 및 기체 유로 ( 82 ) 로부터 처리 공간 ( S ) 내 에 공급 된다 . 기체 유로 ( 81 ) 및 기체 유로 ( 82 ) 는 처리 공간 ( S ) 밖 과 접속 되 어 있 기 때문 에 , 소 정량 ( L 2 - L 1 ) 의 기체 가 외부 로부터 공급 되 게 된다 . 한편 , 기체 유로 ( 82 ) 는 폐쇄 상태 로 되 어 있 거나 [ 상부 챔버 ( 43 ) 와 서포트 링 ( 44 ) 이 접촉 하 여 폐쇄 되 어 있 거나 ] , 또는 기체 유로 ( 81 ) 와 비교 하 여 유로 단면적 이 매우 작 은 상태 로 된다 . 그 때문 에 , 기체 유로 ( 81 ) 를 지나 처리 공간 ( S ) 내 에 공급 되 는 기체 의 양 은 , 기체 유로 ( 82 ) 를 지나 처리 공간 ( S ) 내 에 공급 되 는 기체 의 양 과 비교 하 여 충분히 커진다 . 또한 , 기체 유로 ( 81 ) 로부터 공급 되 는 기체 의 유량 ( L 3 ) 은 , 가스 토출 부 ( 50 ) 로부터 공급 되 는 가스 의 유량 ( L 1 ) 보다 커 지 도록 , 즉 L 3 > L 1 의 관계 를 만족 시키 도록 제어 된다 .