본 발명 은 , 기판 상 에 박막 을 형성 하 는 성막 장치 및 성막 방법 등 에 관한 것 으로 , 특히 , 성막 장치 내 에서 의 마스크 클리닝 을 가능 하 게 하 는 기술 에 관한 것 이 다 . 본 발명 은 , 평행 평판 의 기판 표면 에 진공 증착 에 의해 소망 의 패턴 박막 ( 재료 층 ) 을 형성 하 는 장치 에 바람직 하 게 적용 할 수 있 다 . 기판 의 재료 로서 는 , 유리 , 수지 , 금속 등 의 임의 의 재료 를 선택 할 수 있 고 , 또한 , 증착 재료 로서 도 , 유기 재료 , 무기 재료 ( 금속 , 금속 산화물 등 ) 등 의 임의 의 재료 를 선택 할 수 있 다 . 본 발명 의 기술 은 , 구체 적 으로 는 , 유기 전자 디바이스 ( 예 를 들 면 , 유기 EL 표시 장치 , 박막 태양 전지 ) , 광학 부재 등 의 제조 장치 에 적용 가능 하 다 .