묘화 처리 를 행할 때 , 설정 된 샷 위치 , 즉 , 각 빔 이 대응 하 는 화소 의 위치 에 각 빔 이 조사 되 는 것 이 이상 적 이 지만 , 전자 광학계 의 렌즈 의 왜곡 등 에 의하 여 각 샷 의 빔 조사 위치 가 설정 된 샷 위치 로부터 이탈 되 어 버린다 . 도 7 에 , 기판 ( 101 ) 에 조사 되 는 빔 어레이 전면 ( 全面 ) 에서 의 각 빔 의 위치 이탈 량의 X 좌표 , Y 좌표 에 대한 분포 의 예 를 나타낸다 . 도 7 에서 는 멀티 빔 어레이 내 의 대표 점 으로서 32 Х 32 점 을 배치 하 고 , 각 위치 에서 의 빔 의 위치 이탈 량 을 나타내 고 있 다 . 빔 어레이 중심 에서 는 위치 이탈 량 이 작 지만 , 빔 어레이 주변 에서 는 위치 이탈 량 이 증가 하 고 있 다 . 또한 , 빔 어레이 내 에서 의 위치 이탈 량 의 범위 분포 를 Y 좌표 ( Yindex ： 1 내지 32 ) 마다 정리 하 면 , 도 8 에 도시 한 바 와 같 은 것 이 된다 . x 방향 의 부호 가 붙 은 위치 이탈 량 의 최대 값 을 xmax , 최소 값 을 xmin , y 방향 의 부호 가 붙 은 위치 이탈 량 의 최대 값 을 ymax , 최소 값 을 ymin 로 하 고 있 다 .