상기 전면 전극 ( 200 ) 은 ZnO , ZnO : B , ZnO : Al , SnO 2 , SnO 2 : F , ITO ( Indium Tin Oxide ) , 등 과 같 은 투명 한 도전 물질 을 스퍼터링 ( Sputtering ) 법 또는 MOCVD ( Metal Organic Chemical Vapor Deposition ) 법 등 을 이용 하 여 형성 할 수 있 다 .