조명 광학계 ( 102 ) 에 포함 되 는 광원 ( 도시 되 지 않 음 ) 으로부터 사출 된 광은 , 조명 광학계 ( 102 ) 에 포함 되 는 슬릿 ( 도시 되 지 않 음 ) 에 의해 , 예 를 들 면 , X 방향 으로 긴 원호 형 의 조명 영역 을 마스크 M 위 에 형성 할 수 있 다 . 마스크 M 및 기판 W 는 , 마스크 스테이지 ( 103 ) 및 기판 스테이지 ( 104 ) 에 의해 각각 보유 되 어 있 고 , 후술 하 는 투영 광학계 ( 11 ) 를 통해 광학 적 으로 거의 공역 위치 ( 투영 광학계 ( 11 ) 의 물체 면 및 상 ( image ) 면 의 위치 ) 에 배치 된다 . 그리고 , 마스크 스테이지 ( 103 ) 및 기판 스테이지 ( 104 ) 를 , 투영 광학계 ( 11 ) 의 물 체면 과 평행 한 방향 ( 예 를 들 면 도 1 의 Ｙ 방향 ) 으로 , 투영 광학계 ( 11 ) 의 투영 배 율 에 따른 속도 비 로 주사 시킨다 . 기판 위 에 는 감광 성 의 레지스 트 ( 이하 , 레지스 트라고 적 는다 ) 가 도포 되 어 있 고 , 노광 후 에 현상 처리 를 실시 하 는 것 으로 기판 위 에 마스크 M 의 패턴 을 작성 할 수 있 다 .