한편 , 노광 장치 에서 는 해상력 과 함께 생산 성 의 향상 도 강력 하 게 진행 되 어 왔 다 . 특히 , 주사 형 노광 장치 의 생산 성 을 향상 시키 는 데 유효 한 것 은 , 웨이퍼 를 유지 하 는 스테이지 의 최고 이동 속도 를 올려 주사 노광 공정 중 의 스피드 를 높이 는 것 이 다 . 웨이퍼 스테이지 의 이동 속도 에 대해서 , 원판 인 레티 클 을 유지 하 는 레티 클 스테이지 는 , 렌즈 의 투영 배율 의 역비 의 속도 로 이동 한다 . 현 상황 에서 , 가장 일반 적 인 것 은 , 투영 배 율 이 1 / 4 x , 웨이퍼 스테이지 의 이동 속도 가 대체로 0 . 5 m / s , 레티 클 스테이지 의 이동 속도 가 2 m / s 이 다 . 향후 에 는 생산 성 향상 을 위해서 더욱 주사 속도 의 고속화 가 진행 될 것 이 다 .