도 6 은 교번 하 는 에칭 챔버 와 냉각 스테이션 을 갖 는 시스템 의 실시 형태 를 예시 한다 . 각 측면 에서 3 개 의 점 으로 표시 된 바 와 같이 , 장치 는 자체 반복 할 수 도 있 거나 다른 프로세스 를 수행 하 는 다른 챔버 또는 냉각 또는 전달 챔버 에 커플링 될 수 도 있 다 . 특히 , 챔버 ( 600 ) 는 디스크 ( 650 ) 의 일 표면 을 에칭 하 기 위해 위치 된다 . 그 후 , 차단 밸브 ( 602 ) 가 개방 되 며 , 디스크 는 냉각 챔버 ( 600 ') 로 이동 된다 . 다음 의 라운드 밸브 ( 602 ') 가 개방 되 고 디스크 는 에칭 챔버 ( 605 ) 로 이동 된다 . 에칭 챔버 ( 605 ) 는 디스크 의 반대 측 을 에칭 하 기 위해 위치 된다 . 그 후 , 디스크 는 다른 냉각 스테이션 ( 605 ') 으로 이동 된다 .