도면 을 참조 하 면 , 본 발명 에 따른 반도체 제조 설비 의 웨트 스테이션 ( 100 ) 은 내부 에 일정 공간 을 갖 는 배 쓰 ( 110 ) ; 웨이퍼 ( W ) 를 홀딩 하 여 상기 배 쓰 ( 110 ) 내 외부 로 출입 시키 는 척 ( 120 ) ; 상기 배 쓰 ( 110 ) 의 내부 에 설치 되 는 다수 의 노즐 ( 130 ) ; 상기 노즐 ( 130 ) 과 연결 되 는 배관 ( 140 ) ; 상기 배관 ( 140 ) 과 연결 되 며 , 내부 에 디아이 워터 , 케미컬 , 질소 가스 가 내장 되 는 저장 탱크 ( 150 ) ; 및 상기 척 ( 120 ) 의 작동 을 제어 하 고 , 상기 저장 탱크 ( 150 ) 내 의 디아이 워터 , 케미컬 , 질소 가스 를 선택 적 으로 상기 노즐 ( 130 ) 로 분사 시키 는 제 어부 ( 160 ) 를 포함 한다 .