이제 도 1 을 참조 하 면 , 대표 적 인 실시 예 에서 , 하전 입자 빔 ( CPB ) 시스템 ( 100 ) 은 주사 전자 현미경 ( SEM ) 또는 투과 전자 현미경 ( TEM ) 과 같 은 CPB 현미경 ( 102 ) 을 포함 하 고 , CPB 소스 ( 106 ) 로부터 대물 렌즈 ( 108 ) 로 CPB 를 지향 시키 도록 위치 된 집속 렌즈 ( 104 ) 와 같 은 하나 이상 의 CPB 렌즈 를 포함 한다 . CPB 소스 ( 106 ) 는 예 를 들 어 , 전자 빔 을 생성 하 는 전계 방출 기 일 수 있 지만 , 다른 소스 들 이 사용 될 수 있 다 . 일부 실시 예 들 에서 , 하나 이상 의 부가 적 인 CPB 렌즈 가 제공 될 수 있 고 , 이 는 자기 렌즈 및 / 또는 정전 렌즈 일 수 있 다 . 주축 ( 110 ) 은 현미경 시스템 을 제조 하 는 동안 에 결정 될 수 있 다 . 대개 , CPB 는 작업 모드 동안 에 샘플 프로세싱 또는 샘플 이미 징 을 수행 하 는 동안 , 주축 ( 110 ) 과 정렬 된다 . 예 를 들 어 , 작업 모드 동안 , 빔 편향 장치 ( 122 ) 가 작업 편향 구동 과 함께 제공 되 는 경우 , CPB 는 샘플 을 향하 여 주축 을 따라 전파 된다 .