또한 , 이 처리 시스템 에서 는 , 주 웨이퍼 반송 아암 ( 21 ) 의 배부 측 에 도 도 1 에 점선 으로 나타내 는 바 와 같이 제 5 세트 ( G 5 ) 의 다단 유닛 을 배치 할 수 있 도록 되 어 있 다 . 이 제 5 세트 ( G 5 ) 의 다단 유닛 은 , 안내 레일 ( 27 ) 을 따라서 주 웨이퍼 반송 아암 ( 21 ) 에서 보 아 측방 으로 이동 할 수 있 도록 되 어 있 다 . 따라서 , 제 5 세트 ( G 5 ) 의 다단 유닛 을 설치 한 경우 라도 , 유닛 을 슬라이드 시킴 으로써 공간 부 가 확보 되 기 때문 에 , 주 웨이퍼 반송 아암 ( 21 ) 에 대하 여 배후 로부터 메인 터 넌 스 작업 을 용이 하 게 행할 수 있 다 . 또한 , 처리 스테이션 ( 20 ) 의 하부 측 에 는 , 예컨대 레지스 트 액 , 현상액 , 레지스 트 의 용제 등 을 저류 하 는 탱크 류 나 , 그 배관 계통 을 수납 하 는 케미컬 유닛 ( 29 ) 이 설치 되 어 있 다 .