" 리소그래피 장치 ( 또는 간단히 "" 리 소 툴 ( litho tool ) ""( 100 ) ) 내 에서 ", 측정 스테이션 ( MEA ) 은 102 에서 도시 되 고 노출 스테이션 ( exposure station ) ( EXP ) 은 104 에 도시 된다 . 제 어 유닛 ( LACU ) 은 106 에서 도시 된다 . 이 예 에서 , 각각 의 기판 은 패턴 이 적용 되 게 하 기 위해 측정 스테이션 및 노출 스테이션 을 방문 한다 . 광학 리소그래피 장치 에서 , 예 를 들 면 , 조정 된 방사선 및 투영 시스템 을 사용 하 여 제품 패턴 을 패턴 화 디바이스 ( MA ) 로부터 기판 상 으로 전달 하 기 위해 투영 시스템 이 사용 된다 . 이것 은 , 방사선 감응 레지스 트 재료 의 층 에 패턴 의 이미지 를 형성 하 는 것 에 의해 수행 된다 .