도 3 에서 , 입사광 은 레이저 소스 ( 미 도시 ) 로부터 발사 되 는 레이 저광 을 콜리 메이팅 시켜 평행 광 의 형태 로 회절격자 ( 40 ) 에 입사 된다 . 입사광 은 회절격자 ( 40 ) 에 조사 되 면 회절격자 ( 40 ) 에서 반사 되 는 0 차 성분 의 반사광 이 미러 ( 30 ) 로 입사 된다 . 미러 ( 30 ) 는 반사 율 을 조절 하 기 위해 코팅 처리 가 되 어 있 으며 반사율 ( R ) 에 해당 하 는 광 만큼 만 미러 ( 30 ) 에서 반사 되 고 나머지 투과율 ( T ) 에 해당 하 는 광이 미러 를 투과 하 여 기판 ( 10 ) 상 의 포토 레지스터 ( 20 ) 에 입사 된다 .