가스 전달 조립 체 ( 220 ) 가 가스 분배 플레이트 ( 225 ) 또는 샤워 헤드 를 포함 할 수 있 다 . 가스 공급 패널 ( 도시 되 지 않 음 ) 은 통상 적 으로 하나 또는 그 이상 의 가스 들 을 프로세싱 챔버 ( 100 ) 에 제공 하 기 위해 사용 된다 . 사용 되 는 특정 가스 또는 가스 들 은 챔버 ( 100 ) 내 에서 수행 될 프로세스 에 의해 좌우 된다 . 예 를 들 어 , 통상 의 가스 들 은 하나 또는 그 이상 의 전구체 들 , 반응물 들 , 촉매 들 , 캐리어 들 , 정화 제 , 세정제 , 또는 이 의 임의 의 혼합물 또는 조합 물 을 포함 한다 . 통상 적 으로 , 하나 또는 그 이상 의 가스 들 은 리드 조립 체 ( 200 ) 내측 으로 그리고 그 다음 가스 전달 조립 체 ( 200 ) 를 통해 챔버 바디 ( 112 ) 내측 으로 챔버 ( 100 ) 에 도입 된다 . 전 자식 으로 작동 되 는 밸브 및 / 또는 유동 제어 메커니즘 ( 도시 되 지 않 음 ) 은 가스 공급원 으로부터 처리 챔버 ( 100 ) 내측 으로 가스 의 유동 을 제어 하 는 데 이용 될 수 있 다 .