위치 보 정부 ( 114 ) 가 위치 이탈 량 으로부터 구해진 위치 보정 량 에 기초 하 여 패턴 을 시프트 하 고 , 조사량 산 출부 ( 115 ) 가 , 각 스트라이프 영역 ( 34 ) 을 소정 의 사이즈 로 메 쉬 형상 으로 분할 한다 . 이 때 , 패턴 과 메 쉬 의 상대 위치 를 시프트 시키 면 되 며 , 메 쉬 를 시프트 해도 된다 . 또한 , 이 때 , 기판 상 에 정의 한 화소 의 위치 는 서브 어레이 마다 에 는 시프트 하 지 않 는다 . 분할 한 각 메 쉬 에 중첩 되 는 패턴 의 패턴 면적 밀도 ( ρ ) 와 , 그 맵 인 면적 밀도 맵 ( 면적 밀도 분포 ) 을 산출 한다 . 이 때 , 메 쉬 사이즈 는 , 예 를 들 면 , 멀티 빔 의 빔 1 개 의 x 방향 및 y 방향 에 대한 사이즈 의 평균값 이 다 . 조사량 산 출부 ( 115 ) 가 , 패턴 면적 밀도 맵 으로부터 각 화소 에 조사 되 는 빔 의 조사량 ( ρ D 0 ) 을 산출 한다 . 예 를 들 면 , 패턴 면적 밀도 ( ρ ) 에 기준 조사량 ( D 0 ) 을 곱하 여 , 각 화소 에 조사 되 는 빔 의 조사량 을 산출 한다 ( 스텝 S 6 ) . 조사량 산 출부 ( 115 ) 는 , 이 조사량 을 더 변조 해도 된다 . 예 를 들 면 , 근접 효과 를 보정 하 기 위한 보정 계수 를 곱한 값 을 조사량 으로 해도 된다 . 조사량 산 출부 ( 115 ) 는 , 스트라이프 단위 로 화소 마다 의 조사량 을 정의 한 조사량 맵 을 작성 한다 .