본 실시 예 1 의 상기 광변조 층 ( 1 ) 의 밑판 의 두께 는 60 nm ~ 1200 nm 이 고 , 광변조 층 ( 1 ) 과 광전 검출 층 ( 2 ) 사이 는 직접 연결 되 거나 혹은 투광 매질 층 ( 4 ) 을 통하 여 연결 된다 . 광전 검출 층 ( 2 ) 과 신호 처리 회로 층 ( 3 ) 사이 는 전기 적 연결 된다 . 이중 , 도 3 에 도시 된 바 와 같이 , 광 검출 층 의 변조 홀 ( 6 ) 은 모두 타원 형 이 고 , 타원 형 변조 홀 ( 6 ) 의 장축 길이 와 단축 길이 는 각각 행 열 에 따라 커지 고 , 도 3 의 수평 방향 을 횡축 으로 하 고 수직 방향 을 종축 으로 할 경우 , 타원 형 의 변조 홀 ( 6 ) 은 행 열 에 따라 종축 에서 횡축 방향 으로 회전 하 며 , 그 회전각 도 는 점차 적 으로 커진다 . 변조 홀 ( 6 ) 은 하나 의 2 차원 그래픽 구조 를 구성 하 고 , 상기 2 차원 그래픽 구조 전체 는 매트릭스 구조 이 며 , 상기 매트릭스 구조 의 면적 범위 는 5 μ m 2 ~ 4 cm 2 이 다 .