상기 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 양태 ( aspect ) 에 따른 플 라즈 마 화학 기상 증착 설비 는 , 외부 로부터 밀폐 된 공간 을 제공 하 는 반응 챔버 ; 상기 반응 챔버 내부 의 공기 를 소정 의 진공 압 으로 펌핑 하 는 진공 펌프 ; 상기 진공 펌프 의 펌핑 에 의해 소정 의 진공 압 을 갖 는 상기 반응 챔버 의 하단 에서 웨이퍼 를 지지 하 면서 소정 의 온도 로 가열 시키 는 히터 블록 ; 상기 히터 블록 에 대향 되 는 상기 반응 챔버 의 상단 에 형성 된 샤워 헤드 ; 상기 샤워 헤드 를 통해 상기 반응 챔버 내 에 소정 유량 의 이소프렌 가스 와 질소 가스 를 혼합 하 여 공급 하 는 반응 가스 공급 부 ; 및 상기 반응 가스 공급 부 에서 공급 되 는 상기 이소프렌 가스 와 상기 질소 가스 를 플 라즈 마 상태 로 여기 시키 고 일정 혼합비 이상 으로 혼합 시키 기 위해 고주파 파워 및 저 주파 파워 가 동시 에 인가 되 도록 상기 샤워 헤드 의 상부 에 형성 된 플 라즈 마 전극 을 포함 함 을 특징 으로 한다 .