뿐 만 아니 라 , 상술 된 바 와 같이 , 간소 화 된 공정 으로 상기 산화물 반도체 박막 ( 100 ) 을 포함 하 는 활성 막 을 제조 하 는 경우 , 디스플레이 백 플레인 공정 , 반도체 소자 공정 등 반도체 소재 제조 공정 이 요구 되 는 다양 한 산업 분야 에 용이 하 게 적용 되 어 , 반도체 제조 공정 의 생산 수율 을 증가 시킬 수 있 다 .