본 발명 은 플 라즈 마 처리 장치 에 관한 것 으로서 , 본 발명 에 따른 플 라즈 마 처리 장치 는 챔버 의 하부 에 구비 되 고 상부 에 기판 이 안착 되 는 하부 전극 부 ; 상기 하부 전극 부 에 측면 또는 상면 의 가장자리 를 감싸 고 형성 된 절 연부 ; 상기 절 연부 를 플 라즈 마 또는 공정 가스 로부터 보호 할 수 있 도록 상기 절 연부 전면 을 감싸 고 구비 된 세라믹 판 ; 및 상기 절 연부 하부 에 플라 즈 마 및 공정 가스 에 노출 되 지 않 도록 형성 된 커버 부재 를 포함 하 여 이루어진다 .