전술 한 것 은 본 발명 의 예시 적 인 실시 예 들 의 상세 한 설명 이 다 . 다양 한 수정 들 및 추가 들 은 본 발명 의 사상 및 범주 를 벗어나 지 않 고 이루어질 수 있 다 . 위 에서 기술 한 다양 한 실시 예 들 의 각각 의 특징 들 은 , 관련 된 새로운 실시 예 들 에서 다수 의 특징 조합 들 을 제공 하 기 위하 여 적절 한 다른 설명 된 실시 예 들 의 특징 들 과 결합 될 수 있 다 . 또한 , 상술 한 것 이 본 발명 의 장치 및 방법 의 다수 의 개별 실시 예 들 을 기술 하 지만 , 본 명세서 에 기재 된 것 은 본 발명 의 원리 들 의 응용 을 단순히 설명 하 기 위한 것 이 다 . 예 를 들 어 , " "" 테스트 포인트 "" 및 / 또는 "" 프로브 "" 라는 용어 들 의 사용 은 이미지 좌표 공간 에서 다른 유형 의 기하학 적 구조 들 ( 평균 컬러 ", 그레이 스케일 레벨 및 / 또는 범위 / 높이 가 다각형 내 에서 계산 되 는 다각형 과 같 은 ) 을 포함 하 도록 폭넓 게 이해 되 어야 한다 . 마스크 가 런타임 시 사용 될 수 있 어서 정렬 프로세스 가 마스크 의 경계 외부 에 있 는 영역 을 생략 할 수 있 다는 것 도 또한 고려 된다 . 이것 은 관계없 는 특징 들 또는 관심없 는 특징 들 을 제거 함 으로써 정렬 을 촉진 한다 . 일반 적 으로 이미지 의 영역 들 은 이미지 분석 에 중요 하 지 않 은 것 으로 간주 되 면 , 컬러 / 그레이 스케일 / 범위 테스트 포인트 들 의 위치 로부터 마스킹 되 어 제외 될 수 있 다 . 또한 , " "" 수직 """," "" 수평 """," "" 위 """," "" 아래 """," "" 바닥 """," "" 상부 """," "" 측면 """," "" 전 """," "" 후 """," "" 좌측 """," "" 우측 """," "" 전방 """," "" 후방 "" 등 과 같이 본 명세서 에서 사용 되 는 다양 한 방향 및 방위 용어 들 ( 및 그 문법 적 변형 들 ) 은 중력 의 작용 방향 과 같 은 고정 된 좌표계 에 대하 여 절대 적 인 방위 로서 가 아닌 ", 상대 적 관례 들 로서 만 사용 된다 . 또한 , 도시 된 프로세스 또는 프로세서 는 다른 프로세스 들 및 / 또는 프로세서 들 과 결합 되 거나 , 또는 다양 한 하위 - 프로세스 들 또는 프로세서 들 로 분할 될 수 있 다 . 이러 한 하위 - 프로세스 들 및 / 또는 하위 - 프로세서 들 은 본 명세서 의 실시 예 들 에 따라 다양 하 게 조합 될 수 있 다 .