우선 , 멀티 빔 의 각 빔 의 샷 위치 의 위치 이탈 량 을 측정 한다 ( 스텝 S 1 ) . 예 를 들 면 , 멀티 빔 의 일부 를 그룹 화 하 고 , XY 스테이지 ( 105 ) 에 설치 된 마크 ( 106 ) 를 스캔 하 여 , 마크 ( 106 ) 에서 반사 된 전자 를 검출기 ( 211 ) 로 검출 한다 . 검출 회로 ( 132 ) 는 , 검출기 ( 211 ) 에서 검출 된 전자 량 을 제어 계산기 ( 110 ) 로 통지 한다 . 빔 위치 측 정부 ( 111 ) 는 , 검출 된 전자 량 으로부터 스캔 파형 을 취득 하 고 , XY 스테이지 ( 105 ) 의 위치 를 기준 으로 , 그룹 화 한 빔 의 위치 를 산출 한다 . XY 스테이지 ( 105 ) 의 위치 는 , 스테이지 위치 검출기 ( 139 ) 에 의하 여 검출 되 어 있 다 .