본 발명 은 상기 와 같 은 목적 을 달성 하 기 위해서 , 복수 개 의 포토다이오드 가 형성 된 반도체 기판 상 에 컬러 필터 층 및 마이크 로 렌즈 를 형성 하 는 공정 ( 제 1 공정 ) ; 상기 마이크 로 렌즈 상부 에 표면장력 완화제 를 도포 하 는 공정 ( 제 2 공정 ) ; 상기 마이크 로 렌즈 상부 에 테이프 를 부착 하 는 공정 ( 제 3 공정 ) ; 상기 반도체 기판 의 하면 을 연마 하 는 공정 ( 제 4 공정 ) ; 상기 마이크 로 렌즈 상부 에 부착 된 테이프 를 제거 하 는 공정 ( 제 5 공정 ) ; 및 상기 마이크 로 렌즈 를 세정 하 는 공정 ( 제 6 공정 ) 을 포함 하 여 이루어지 는 것 을 특징 으로 하 는 이미지 센서 제조 방법 을 제공 한다 .