본 발명 에 의한 반사 방지 하드 마스크 조성물 은 필름 형성 시 ArF ( 193 nm ) , KrF ( 248 nm ) 파장 영역 등 DUV ( Deep UV ) 영역 에서 의 반사 방지 막 으로써 유용 한 범위 의 굴절 율 및 흡수도 를 가짐 으로써 레지스 트 와 이면 층 간 의 반사 성 을 최소 화 할 수 있 으며 , 리 쏘 그래픽 기술 수행 시 에칭 선택 비 가 　 높 고 다중 에칭 에 대한 내성 이 충분 하 여 , 패턴 프로 파일 이나 마진 면 에서 우수 한 패턴 평가 결과 를 가지 는 리 쏘 그래픽 구조물 을 제공 할 수 있 다 .