제 1 내지 제 4 게이트 구조물 들 ( 222 a , 224 a , 226 a , 228 a ) 이 측벽 일부 및 이 들 에 인접 한 기판 ( 100 ) 상 에 는 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 이 형성 된다 . 하지만 , 제 4 게이트 구조물 ( 228 a ) 의 측벽 상 에 형성 된 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 부분 의 상면 은 제 1 게이트 구조물 ( 222 a ) 의 측벽 상 에 형성 된 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 부분 의 상면 과 다른 높이 를 가질 수 있 으며 , 일 실시 예 에 있 어서 , 더 낮 은 높이 를 갖 는다 . 한편 , 각 제 2 및 제 3 게이트 구조물 들 ( 224 a , 226 a ) 의 일 측벽 에 형성 된 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 부분 의 상면 은 제 1 게이트 구조물 들 ( 222 a ) 의 측벽 상 에 형성 된 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 부분 의 상면 과 동일 한 높이 를 가질 수 있 으며 , 각 제 2 및 제 3 게이트 구조물 들 ( 224 a , 226 a ) 의 타 측벽 에 형성 된 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 부분 의 상면 은 제 4 게이트 구조물 들 ( 228 a ) 의 측벽 상 에 형성 된 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 부분 의 상면 과 동일 한 높이 를 가질 수 있 다 .