적어도 제 1 방향 에서 소정 의 각도 분포 를 갖 고 발산 하 는 입사 빔 을 성형 하 기 위한 광학 시스템 은 , 적어도 하나 의 제 1 방향 에서 의 상기 각도 분포 를 클 리핑 하 기 위한 적어도 하나 의 각도 선택 광학 소자 ( 26 , 28 ) 를 포함 한다 . 본 발명 에 따른 접근 방법 은 , 예컨대 시야 조리개 또는 슬릿 과 같 은 부분 선택 장치 와 는 반대 로 , 입사 빔 의 발산 을 감소 시키 기 위해 전반사 의 원리 를 의해 동작 하 는 각도 선택 장치 ( 25 , 32 ) 를 이용 하 는 것 에 기초 한다 . 본 발명 에 따른 방법 은 고 에너지 밀도 에 노출 되 어야 하 는 물리 적 으로 날카로운 에지 가 없 다는 이점 을 갖 는다 . 따라서 , 열 충격 및 고 출력 레이저 빔 을 유지 하 기 위한 광학 소자 에 대한 수요 는 상당히 감소 한다 .