상기 목적 은 , 본 발명 에 따라 , 하우징 내부 에 마련 된 조리실 과 , 스팀 을 생산 하 여 공급 하 는 스팀 공급 부 와 , 상기 스팀 공급 부 에서 공급 된 상기 스팀 을 상기 조리 실 내부 로 분사 하 는 분사 노즐 을 포함 하 는 가열 조리 장치 에 있 어서 , 상기 분사 노즐 에 는 상기 스팀 공급 부 에서 상기 스팀 을 생산 하 고 남 은 잔수 ( 殘 水 ) 를 배출 하 는 잔수 배출구 가 일체 로 마련 된 것 을 특징 으로 하 는 가열 조리 장치 에 의하 여 달성 된다 .