본 발명 의 실시 예 들 은 높 은 챔버 - 세정 속도 에서 원 하 지 않 는 증착 물 들 을 제거 하 는 세정 기능 을 수행 하 는 플 라즈 마 CVD 장치 및 공정 처리 되 는 반응 챔버 또는 웨이퍼 의 크기 에 무관 하 게 이러 한 세정 을 수행 하 는 방법 을 제공 한다 . 높 은 챔버 - 세정 속도 를 가짐 에 따라 , 반응기 다운 시간 ( downtime ) 은 감소 되 고 , 장치 의 쓰루 풋 은 증가 된다 .