본 발명 에 따르 면 , 고가 의 아 세토 니트릴 을 전혀 사용 하 지 않 으면서 도 아세톤 과 메탄올 의 혼합 용매 만 으로 침전 중합 이 가능 하 고 , 그 결과 완전 가교 되 어 안정 화 된 구 형태 를 갖 고 평균 입경 이 1 . 0 ∼ 8 . 0 마이크 론 인 폴리스티렌 입자 를 제조 할 수 있 다 . 본 발명 에서 는 저가 의 새로운 혼합 용매 의 사용 과 반응 조건 의 완화 로 폴리스티렌 입자 의 생산 비용 을 크 게 낮출 수 있 으면서 도 종전 의 일반 적 인 침전 중합 에 비 해 평균 입경 이 증가 된 양질 의 폴리스티렌 입자 를 얻 을 수 있 다 . 본 발명 에 따라 제조 된 구형 의 완전 가교 된 폴리스티렌 입자 는 기기 검정 시 사용 되 는 표준물질 , 필터 기공 의 크기 와 효율 측정 , 크로마토그래피 용 칼럼 의 충 진물 , 생화학 에서 의 지 지체 , 생 의학 분야 , 코팅 , 잉크 , 복사 용 건조 토너 , 정보 산업 및 미세 전기 기기 등 고부 가 가치 의 다양 한 분야 에서 이용 될 수 있 다 .