도 1 을 참조 하 면 , 게이트 절 연막 의 손상 회복 을 위한 게이트 재산 화 공정 은 열 적 산화 공정 이 기 때문 에 , 이러 한 게이트 재산 화 공정 시 게이트 전극 으로 이용 되 는 폴리 실리콘 막 및 / 또는 금속 실리사이드 막 에 이상 산화 현상 이 발생 한다 . 이러 한 이상 산화 현상 은 폴리 실리콘 막 및 / 또는 금속 실리사이드 막 의 폭 을 감소 시켜 게이트 전극 의 저항 이 증가 되 는 문제점 을 초래 하 고 , 또한 , 게이트 사이 의 간격 ( spacing ) 을 감소 시켜 후속 랜딩 플러그 콘 택 ( landing plug contact ) 공정 시 낫 오픈 ( not open ) 등 의 문제점 을 초래 한다 .