이상 과 같이 하 여 배선 패턴 을 묘화 한 후 는 , 기술 한 본 발명 의 구리 도체 막 의 제조 방법 과 동일 하 게 처리 를 한다 . 즉 , 필요 에 따라서 건조 시킨 후 , 형성 된 배선 패턴 에 대해서 , 기술 한 처리 액 에 의해서 처리 를 실시 한다 . 그러면 , 기술 한 구리 도체 막 의 제조 방법 과 동일 하 게 , 구리 계 입자 함유층 에 있 어서 금속 구리 가 석출 하 여 도체 화 하 고 , 더구나 , 입자 간 이나 층 의 심부 에 있 어서 도 금속 구리 가 석출 하 기 때문 에 , 치밀 한 구리 의 도체 배선 이 얻 어 진다 . 따라서 , 원리 적 으로 는 기술 한 본 발명 의 구리 도체 막 이 치밀 하 고 저 저항 인 것 과 동일 하 게 , 본 발명 의 패 터닝 된 구리 도체 배선 은 치밀 하 고 저 저항 인 배선 이 다 .