이어서 , 도 2 b 에 도시 된 바 와 같이 , 게이트 ( 110 A , 110 B ) 를 포함 하 는 기판 ( 100 ) 의 단차 면 을 따라 식각 정지 막 으로 기능 하 는 자기 정렬 콘 택 ( Self Aligned Contact , 이하 SAC 라 함 ) 질화 막 ( 113 ) 을 형성 한다 . 이때 , SAC 질화 막 ( 113 ) 은 후속 화학 적 기계 적 연마 ( Chemical Mechanical Polishing , 이하 CMP 라 함 ) 공정 시 게이트 ( 110 A , 110 B ) 를 보호 하 는 연마 정지 막 으로 기능 하 는 한편 , 후속 소스 콘 택 플러그 ( 드레 인 콘 택 플러그 포함 ) 를 형성 하 기 위한 식각 공정 시 기판 ( 100 ) 이 손상 되 는 것 을 방지 하 기 위해 식각 정지 막 으로 기능 한다 .