본 발명 의 실시 예 에서 는 웨이퍼 후면 에 잔류 하 는 수분 에 의해 액침 리소그래피 의 노광 시 오버레이 불량 이 발생 하 는 것 을 소수성 ( hydrophobic ) 레지스 트 ( resist ) 의 표면 층 을 도입 하 여 억제 하 는 방법 을 제시 한다 . 웨이퍼 상 에 주된 레지스 트 층 을 형성 하 고 , 레지스 트 층 상 에 침윤 매질 과 의 반응 을 억제 하 여 침윤 매질 을 변 성 을 억제 하 고 보호 하 는 상측 코팅 층 ( top coating ) 을 형성 한 후 , 웨이퍼 의 후면 에 소수성 표면 층 을 형성 한다 . 이때 , 소수성 표면층 은 웨이퍼 의 앞면 상 으로 연 장 되게 형성 될 수 도 있 다 . 이러 한 소수성 표면층 에 의해 웨이퍼 의 후면 에 수분 이 잔류 되 는 것 을 억제 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 액침 리소그래피 장비 의 웨이퍼 척 상 에 수분 이 잔류 하 는 억제 할 수 있 다 .