필름 의 화학 저항성 을 측정 하 기 위해 , 잔여 수소 함량 의 다이렉트 HFS 결정 에 부가 하 여 WER 이 결정 되 었 다 . 수중 1 % HF 용액 에서 불화 수소산 에칭 전 그리고 후 에 , 실리콘 질화물 필름 의 두께 를 측정 하 였 다 . 상기 습윤 에칭 프로세스 를 25 ℃ 에서 알려진 시간 동안 지속 하 였 고 이 에칭 속도 를 계산 하 였 다 . 필름 을 분석 하 였 고 그 결과 를 표 2 에 HDP 로 마크 된 칼럼 에 도시 하 였 다 . 종래 기술 결과 를 다른 칼럼 에 비교 를 위해 제시 하 였 다 . 1 % HF 용액 은 열 에 의해 성장 한 실리콘 산화물 을 36 Å / 분 의 속도 로 에칭 한다 .