본 발명 에 따른 또 다른 특징 은 CVD 반응 로 용 웨이퍼 캐리어 를 제공 한다 . 상기 웨이퍼 캐리어 는 바람직 하 게 , 대향 하 고 있 는 상류 표면 과 하류 표면 을 가지 고 있 고 , 중앙 영역 과 주변 영역 을 가지 고 있 는 플레이트 를 포함 한다 . 상기 플레이트 는 , 상기 주변 영역 에서 상기 플레이트 의 상기 상류 표면 에 복수 의 웨이퍼 를 노출 된 상태 로 유지 할 수 있 는 웨이퍼 유지 부 를 가지 고 있 다 . 본 발명 에 따른 상기 웨이퍼 캐리어 는 바람직 하 게 또한 , 상기 중앙 영역 에서 상기 플레이트 의 상기 상류 표면 으로부터 돌출 되 고 있 는 가스 흐름 촉진 ( facilitating ) 부재 를 포함 한다 . 상기 플레이트 는 중 앙축 을 가질 수 있 고 , 상기 가스 흐름 촉진 부재 는 바람직 하 게 상기 중 앙축 에 관한 회전면 형태 의 둘레 면 을 가지 고 있 다 .