대안 적 인 구성 예 에서 , 광학 방법 은 적응 형 광학 방법 으로부터 선택 될 수 있 다 . 이 경우 , " "" 적응 형 광학 방법 "" 이 라는 용어 는 ", 이미 징 특성 을 갖 는 빔 경로 를 포함 하 는 이미 징 광학계 가 이미 징 특성 의 변화 를 통해 빔 경로 에서 발생 하 는 광 변화 를 보정 하 도록 구성 되 는 광학 방법 을 의미 하 며 , 이미 징 특성 의 변화 로부터 빔 경로 에서 의 광 변화 에 관한 결론 을 도출 하 는 것 이 가능 하 다 . 결과 적 으로 , 본 발명 에 따라 , 맥락막 의 층 두께 의 변화 가 광학계 의 이미 징 특성 을 변경 하 는 방식 으로 , 맥락막 이 광학계 내 에 통합 되 는 경우 , 맥락막 의 층 두께 를 추정 하 는 것 이 가능 하 다 . 바람직 하 게 는 , 적응 형 광학 방법 은 , 광 투과율 을 결정 하 기 위한 방법 또는 광 반사 율 을 결정 하 기 위한 방법 으로부터 선택 될 수 있 으며 , 이 에 따라 , " 바람직 하 게 는 소위 "" 안저 반사율 ( fundus reflectivity ) "" 에 의해 ", 맥락막 의 광 투과율 또는 반사율 의 변화 가 광학계 의 이미 징 특성 을 변경 시킴 으로써 , 맥락막 의 층 두께 의 원 하 는 포착 을 가능 하 게 한다 . 그러나 , 다른 유형 의 적응 형 광학 방법 및 장치 도 안출 가능 하 다 .