본 발명 은 저장 캐 패 시터 의 면적 을 증가 시키 지 않 고 저장 캐 패시 터 를 실린더 형 으로 형성 하 되 셀 영역 에 캐 패시 터 를 형성 하 는 공정 을 이용 함 으로써 , 별도 의 추가 공정 없이 저장 캐 패 시터 의 정정 용량 을 증가 시킬 수 있 고 , 반도체 소자 의 크기 가 감소 되 는 것 에 영향 을 받 지 않 고 용이 하 게 저장 캐 패 시터 의 특성 을 향상 시킬 수 있 도록 하 는 반도체 소자 의 저장 캐 패 시터 및 그 의 형성 방법 을 제공 하 는 것 을 그 목적 으로 한다 .