본 발명 에 따른 식각 액 조성물 은 알킬 아미노 테트라 졸 ; 불소 화합물 ; 과황산염 ; 무기산 , 이 의 염 또는 이 들 의 혼합물 ; 유기산 ; 유기 산염 ; 술 팜 산 ; 글라이신 ; 및 잔부 의 물 을 포함 함 으로써 적절 한 식각 속도 를 가지 고 , 이 에 따라 미세 패턴 에 대한 저 스큐 ( low skew ) 가 가능 하 게 하 는 이점 이 있 다 .