근접 헤드 ( 200 ) 는 또한 제 3 도관 ( 116 A ) 에 의해 이산 홀 ( 116 B ) 에 연결 된 제 3 챔버 ( 208 ) 를 포함 한다 . 진공 소스 ( 116 ') 가 상술 된 제 3 공급 챔버 ( 208 ) 에 결합 된다 . 제 3 챔버 ( 208 ) 는 진공 을 제 3 도관 ( 116 A ) 으로 그리고 대응 하 는 이산 홀 ( 116 B ) 을 통해 헤드 표면 ( 210 ) 으로 분배 한다 . 진공 은 헤드 표면 ( 210 ) 으 로부터 ( 예 를 들 어 , 메니스커스 ( 102 ) 로부터 및 / 또는 헤드 표면 ( 210 ) 과 기판 표면 ( 108 A ) 간 의 공간 으로부터 ) 제 1 액체 ( 112 ) 및 제 2 유체 ( 114 ) 를 끌어당길 수 있 다 .