제 3 절 연막 ( 322 ) 은 막 질 의 구조 가 조밀 하 지 않 고 , 윙 스 페이서 ( 320 ) 와 식각 선택 비 를 가지 는 물질 , 예 를 들 어 SOG 막 또는 PSG ( Phosphorus silicate glass ) 막 으로 형성 하 는 것 이 바람직 하 다 . 계속 해서 제 3 절 연막 ( 322 ) 상 에 평탄 화 공정 , 예컨대 화학 적 기계 적 연마 ( CMP ) 공정 또는 에치 백 공정 을 하드 마스크 막 패턴 ( 308 ) 의 표면 이 노출 될 때 까지 진행 한다 .