이것 을 더욱 상세히 서술 하 면 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 웨이퍼 ( W ) 상 에 레티 클 ( R ) 의 패턴 을 전사 하 는 스텝 · 앤드 · 스캔 방식 의 노광 동작 중 에 는 , 헤드 유닛 ( 62 A ', 62 B ') 의 각 5 개 의 헤드 ( 165 , 164 ) 중 에서 이동 스케일 ( 39 A , 39 B ) 에 각각 대향 하 는 각 1 개 의 헤드 ( 165 , 164 ) 의 계측 값 을 사용 하 여 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 XY 평면 내 의 위치 및 회전 ( θ z 방향 의 회전 ) 을 제어 한다 .