본 발명자 는 , 순도 가 99 . 95 질량 ％ 이상 이 고 , BET 비표 면적 이 5 ∼ 150 ㎡/ g 의 범위 에 있 는 고 순도 의 산화마그네슘 분말 또는 소성 에 의해 그 산화마그네슘 분말 을 생성 하 는 마그네슘 화합물 분말 ( 단 , 염화마그네슘 분말 을 제외 한다 ) 을 염소 원 의 존재 하 또는 염소 함유 기체 의 분위기 하 에 , 850 ℃ 이상 의 온도 에서 소성 함 으로써 , 염소 를 0 . 005 ∼ 10 질량 ％ 의 범위 에서 함유 하 는 , 염소 를 제외 한 총량 중 의 산화마그네슘 순도 가 99 . 8 질량 ％ 이상 이 고 , 또한 BET 비표 면적 이 0 . 1 ∼ 30 ㎡/ g 의 범위 에 있 는 염소 함유 산화마그네슘 분말 을 제조 할 수 있 고 , 또한 그 염소 함유 산화마그네슘 분말 이 Xe 가스 의 방전 가스 에 의해 생성 된 자 외광 에 의해 여기 되 면 , 높 은 효율 로 파장 250 ㎚ 부근 의 자 외광 을 방출 하 는 것 을 알아내 어 , 본 발명 을 완성 하 였 다 .