본 발명 의 일 구 현예 에 따른 환형 가스 분사 장치 를 이용 한 금속 분말 의 제조 장치 는 , 내부 에 금속 용탕 이 저장 되 고 , 그 하부 에 금속 용탕 을 배출 하 기 위한 오리피스 가 장착 되 는 턴 디쉬 와 , 턴 디쉬 의 하부 에 장착 되 고 오리피스 를 통하 여 배출 되 는 제 1 용탕 줄기 에 대하 여 원추형 의 제 1 가스 제트 를 1 단계 분사 하 기 위한 제 1 환형 가스 노즐 , 및 제 1 환형 가스 노즐 의 하부 에 장착 되 고 제 1 가스 제트 와 1 차 충돌 한 후 제 1 설정 거리 만큼 이동한 제 2 용탕 줄기 에 대하 여 원추형 의 제 2 가스 제트 를 2 단계 분사 하 기 위한 제 2 환형 가스 노즐 을 포함 할 수 있 다 .