일본국 특개 2009 - 54736 에 는 , 계측 오프셋 을 구해서 , 복수 의 검출기 의 성능 의 차이 에 기인 하 는 계측 오차 를 보정 하 는 방법 이 기재 되 어 있 다 . 그러나 , 마크 검출 장치 에 대한 기판 의 자세 변화 에 따라 계측 값 이 시프트 하 면 , 계측 오프셋 에 오 차 가 발생 해서 , 기판 의 얼라인먼트 정밀도 가 저하 한다 . 또한 , 일본국 특개 2017 - 215556 에 기재 된 것 같 은 , 광학계 의 텔레 센트리 성과 디 포커스 에 기인 하 는 계측 값 의 시프트 를 추정 해서 보정 하 는 방법 에서 는 , 기판 의 자세 변화 에 기인 한 계측 값 의 시프트 는 고려 되 지 않 아 , 계측 정밀도 가 저하 할 수 있 다 . 또한 , 일본국 특허 제 5120691 호 에 기재 된 것 같 은 , 복수 의 검출기 에 대하 여 기준 부재 위 의 복수 의 마크 를 초점 맞춤 시켜서 마크 를 계측 하 는 방법 에서 는 , 마크 의 차이 에 기인 하 는 오차 가 생겨 , 복수 의 검출기 의 성능 의 차이 에 기인 하 는 계측 값 의 시프트 를 정밀 하 게 보정 하 는 것 은 어렵 다 .