상술 한 방법 에 의하 면 , 상부 전극 ( 540 ) 과 지지 플레이트 ( 220 ) 사이 의 간격 ( d 1 ) 을 최적 의 간격 ( d 1 ) 으로 설정 할 수 있 으므로 , 더욱 완성 도 높 은 공정 이 이루어질 수 있 다 . 특히 , 하나 의 공정 챔버 ( 100 ) 내 에서 복수 의 공정 이 연속 적 으로 이루어지 는 경우 , 예 를 들 어 제 1 막 을 증착 한 후 다시 제 2 막 을 증착 하 는 경우 , 제 1 막 에 대한 간격 ( d 1 ) 과 제 2 막 에 대한 간격 ( d 1 ) 을 다르 게 조절 하 여 더욱 완성 도 높 은 공정 을 수행 할 수 있 다 . 또한 , 두 개 의 플라스마 소스 를 선택 적 으로 사용 할 수 있 으므로 , 작업자 는 다양 한 공정 조건 을 충족 시킬 수 있 다 .