한편 , 웨이퍼 ( W ) 의 외주 에서 의 상승류 가 어느 정도 정돈 된 상태 로 흐르 고 있 는 경우 , 웨이퍼 ( W ) 표면 상 의 가스 가 웨이퍼 ( W ) 의 외주 부근 에 있 어서 배기 구멍 ( 71 ) 으로 원활 하 게 흐르 기 쉬워 진다고 생각 된다 . 그 를 위해서 는 , 기체 유로 ( 81 ) 의 단부 ( 81 a ) 에 있 어서 의 기체 의 유속 을 어느 정도 크 게 하 여 , 기체 유로 ( 81 ) 로부터 의 기체 가 처리 공간 ( S ) 내 에 도입 되 었 을 때 의 상승류 의 유속 을 어느 정도 크 게 하 는 것 이 고려 된다 . 열처리 유닛 ( U 8 ) 에서 는 , 상기 한 상태 를 실현 하 기 위해서 서포트 링 ( 44 ) 이 정류부 로서 기능 하 고 있 다 .