플라스마 소스 ( 400 ) 는 고주파 유닛 을 구성 하 는 것 으로 , 공정 챔버 ( 100 ) 내부 의 처리 공간 내 에 공급 된 가스 로부터 플라스마 를 생성 한다 . 플라스마 소스 ( 400 ) 는 공정 챔버 ( 100 ) 의 처리 공간 의 외부 에 제공 된다 . 일 실시 예 에 따르 면 , 플라스마 소스 ( 400 ) 로 는 유도 결합 형 플라스마 ( ICP : inductively coupled plasma ) 소스 가 사용 될 수 있 다 .