상기 전자 공여 화합물 공급 장치 ( 60 a ) 는 전자 공여 화합물 ( 14 ) 을 액체 상태 로 유량 제어 장치 ( 64 ) 로 공급 할 수 있 고 , 유량 제어 장치 ( 64 ) 에서 유량 을 일정 하 게 제어 한 후 기화기 ( 70 a ) 에서 기화 되 기 때문 에 상기 반응 챔버 ( 10 ) 로 공급 되 는 개질 제 ( 14 ) 의 양 을 균일 하 게 조절 할 수 있 다 .