이 때문 에 지환 식 탄화수소 구조 를 갖 는 수지 를 함유 하 는 레지스 트 는 ArF 엑 시머 레이저 용 으로 개발 되 어 왔 다 . ArF 엑 시머 레이저 용 수지 에 대해서 각종 개선 이 되 어 왔 고 , 예컨대 지환 식 산분 해성 반복 단위 에 있 어서 주 쇄 와 산분 해 성기 사이 에 스 페이서 부분 을 갖 는 반복 단위 를 도입 함 으로써 각종 특성 이 개선 되 어 왔 다 ( 일본 특허 공개 2005 - 331918 호 공보 , 일본 특허 공개 2004 - 184637 호 공보 및 일본 특허 공개 2003 - 330192 호 공보 참조 ) .