반사 방지 막 은 포토레지스트 의 노광 과 현상 에 따른 패턴 형성 공정 에서 , 자외선 의 반사 에 의한 해상도 의 저하 를 억제 하 기 위해서 사용 되 며 , 또한 , 하드 마스크 의 패턴 을 형성 하 기 위한 마스크 로 도 작용 한다 . 일반 적 으로 하드 마스크 ( 탄소 재료 ) 의 산소 플 라즈 마 에칭 에 견뎌낼 수 있 는 실리콘 옥사이드 또는 실리콘 나이트 라이드 가 사용 된다 .