상부 서브 - 챔버 ( 402 ) 및 하부 서브 - 챔버 ( 403 ) 가 모두 있 도록 플 라즈 마 그리드 ( 450 ) 가 사용 되 면 , 상부 서브 - 챔버 ( 402 ) 내 에서 전자 - 이온 플 라즈 마 를 생성 하 도록 유도 전류 는 상부 서브 - 챔버 ( 402 ) 내 에 존재 하 는 가스 에 작용 한다 . 선택 가능 한 내부 플 라즈 마 그리드 ( 450 ) 는 하부 서브 - 챔버 ( 403 ) 내 핫 ( hot ) 전자 들 의 양 을 제한 한다 . 일부 실시 예 들 에서 , 장치 ( 400 ) 는 하부 서브 - 챔버 ( 403 ) 내 에 존재 하 는 플 라즈 마가 이온 - 이온 플 라즈 마 이 도록 설계 되 고 동작 된다 .