프로세스 챔버 ( 110 ) 는 챔버 내부 하측 에 위치 하 는 척 ( 111 ) ( Chuck ) , 챔버 내부 상측 에 위치 하 며 가스 공급 부 ( 160 ) 로부터 공급 된 가스 를 챔버 ( 110 ) 내부 에 주입 시키 는 가스 주입 홀 ( 115 ) 이 위치 한다 . 척 ( 111 ) 위 에 는 고주파 전력 발생기 ( 120 ) 로부터 의 고주파 전력 이 공급 되 는 하부 전극 ( 135 ) 이 위치 하 고 , 하부 전극 ( 135 ) 위 에 는 박막 이 형성 되 어 있 는 기판 ( 132 ) 이 위치 하 게 된다 .