도 1 에 도시 된 실시 형태 에 따른 부분 연마 장치 ( 1000 ) 는 , 연마 패드 ( 502 ) 의 컨 디셔 닝 을 행하 기 위한 컨 디셔 닝 부 ( 800 ) 를 구비 한다 . 컨 디셔 닝 부 ( 800 ) 는 , 스테이지 ( 400 ) 의 밖 에 배치 되 어 있 다 . 컨 디셔 닝 부 ( 800 ) 는 , 드레서 ( 820 ) 를 보유 지지 하 는 드레스 스테이지 ( 810 ) 를 구비 한다 . 도 1 의 실시 형태 에 있 어서 , 드레스 스테이지 ( 810 ) 는 , 회전축 ( 810 A ) 을 중심 으로 회전 가능 하 다 . 도 1 의 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에 있 어서 , 연마 패드 ( 502 ) 를 드레서 ( 820 ) 에 가압 하 고 , 연마 패드 ( 502 ) 및 드레서 ( 820 ) 를 회전 시킴 으로써 , 연마 패드 ( 502 ) 의 컨 디셔 닝 을 행할 수 있 다 . 또한 , 다른 실시 형태 로서 , 드레스 스테이지 ( 810 ) 는 , 회전 운동 이 아니 라 , 직선 운동 ( 왕복 운동 을 포함 함 ) 을 하 도록 구성 해도 된다 . 또한 , 도 1 의 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에 있 어서 , 컨 디셔 닝 부 ( 800 ) 는 , 주로 기판 Wf 의 어떤 점 에 있 어서 의 부분 연마 를 종료 하 고 , 다음 점 혹은 다음 기판 의 부분 연마 를 행하 기 전 에 연마 패드 ( 502 ) 를 컨 디셔 닝 하 기 위해서 사용 한다 . 여기 서 , 드레서 ( 820 ) 는 , 예 를 들 어 ( 1 ) 표면 에 다이아몬드 의 입자 가 전착 고정 된 다이아 드레서 , ( 2 ) 다이아몬드 지 립 이 연마 패드 와 의 접촉면 의 전체 면 혹은 일부 에 배치 된 다이아 드레서 , 및 ( 3 ) 수지 제 의 브러시 모 가 연마 패드 와 의 접촉면 의 전체 면 혹은 일부 에 배치 된 브러시 드레서 , ( 4 ) 이 들 중 어느 하나 또는 이 들 의 임의 의 조합 으로 형성 할 수 있 다 .