본 발명 의 제 1 양태 는 , 기판 을 보유 지지 하 는 기판 보유 지지 기구 와 , 상기 기판 보유 지지 기구 에 보유 지지 된 상기 기판 을 회전 시키 는 회전 기구 와 , 상기 기판 을 세정 하 는 세정 기구 를 구비 하 고 , 상기 세정 기구 는 , 지주 와 , 상기 지주 로부터 연장 돌출 되 고 , 높이 위치 가 비 변동 인 암 과 , 상기 암 에 지지 되 고 , 상기 기판 의 표면 에 맞닿 음 으로써 상기 표면 을 세정 하 는 세 정구 와 , 상기 세 정구 를 , 상기 기판 으로부터 이격 된 상승 위치 와 상기 기판 에 맞닿 는 하강 위치 사이 에서 상기 암 에 대해 승강 시키 는 승강 기구 와 , 적어도 상기 세 정구 가 하강 할 때 의 속도 를 제어 하 는 제 어부 를 구비 하 는 기판 세정 장치 이 다 .