최근 에 는 , 1 개 의 광 주사 장치 가 복수 의 해상도 및 복수 의 인쇄 속도 를 처리 하 는 형태 도 많 다 . 그 로 인해 , 반사 미러 지지 시트 면 의 위치 를 시프트 시키 는 등 의 대책 에 의해 , 반사 미러 의 고유 진동수 가 구 동원 에 의해 발생 하 는 진동 주파수 와 일치 하 지 않 고 공진 을 유발 하 지 않 는 구성 으로 하 기 위해서 는 , 고정 밀도 로 부재 의 고유 진동수 를 제어 하 고 , 항상 고유 진동수 를 미리 결정 된 진동수 로 조정 할 필요 가 있 다 . 그 로 인해 , 반사 미러 를 지지 하 는 부재 의 지지 경계 조건 및 반사 미러 를 지지 하 는 시트 면 근방 의 구성 을 안정 적 으로 제어 할 수 있 는 것 이 과제 가 된다 .