이 와 동시 에 순수 공급 용 샤워 파이프 로부터 순수 를 기판 W 의 상면 을 향하 여 분사 하 고 , 이 순수 공급 용 샤워 파이프 를 기판 W 의 길 이 방향 을 따라 구동 한다 . 이 에 따라 , 기판 W 의 상면 전체 에 순수 가 공급 되 므로 , 기판 W 의 상면 이나 상부 측 벽부 ( 5 ) 의 비 접촉면 ( 25 ) 등 에 잔류 되 는 처리 액 을 세정 제거 할 수 있 다 .