본 개시 내용 의 플 라즈 마 처리 장치 ( 1 ) 는 CVD ( Chemical Vapor Deposition ) 장치 , ALD ( Atomic Layer Deposition ) 장치 , Capacitively Coupled Plasma ( CCP ) , Inductively Coupled Plasma ( ICP ) , Radial Line Slot Antenna ( RLSA ) , Electron Cyclotron Resonance Plasma ( ECR ) , Helicon Wave Plasma ( HWP ) 중 어느 타입 에 도 적용 가능 하 다 .