본 발명 의 다른 특징 은 , 반응 챔버 , 대체로 상류 방향 으로부터 하 류 방향 으로 연장 된 축 주위 로 회전 하 기 위해 상기 반응 챔버 내 에 장착 되 어 있 는 스핀들 , 상기 반응 챔버 내 로 하나 이상 의 반응 가스 를 도입 하 기 위한 주입 헤드 , 및 상기 스핀들 을 둘러싸 고 있 는 하나 이상 의 가열 부재 와 같 은 추가 적 부재 와 함께 , 상술 한 웨이퍼 캐리어 를 포함 하 는 화학 기상 증착 장치 를 제공 한다 . 상기 웨이퍼 캐리어 의 상기 스핀들 연결부 는 , 상기 플레이트 의 상기 상류 표면 이 상기 주입 헤드 를 향하 고 상기 플레이트 의 상기 하 류 표면 이 하나 이상 의 상기 가열 부재 를 향한 상태 에서 , 상기 웨이퍼 캐리어 를 상기 스핀들 상 에 장착 시킬 수 있 다 . 바람직 하 게 , 상기 웨이퍼 캐리어 가 상기 스핀들 상 에 장착 되 었 을 때 , 상기 플레이트 의 상기 주변 영역 의 상기 하 류 표면 은 상기 가열 부재 와 직접 대면 한다 . 다시 말 해서 , 상기 허브 는 바람직 하 게 상기 플레이트 의 상기 하 류 표면 의 상기 주변 영역 과 상기 가열 부재 사이 에서 연장 되 지 않 는다 . 따라서 , 상기 허브 는 상기 가열 부재 와 상기 플레이트 사이 의 방사 열전달 에 간섭 하 지 않 는다 .