상술 한 바 와 같이 다양 한 숙성 공정 조건 에 따른 슬러리 를 이용 하 여 피 연마재 에 대한 CMP 연마 성능 시험 을 실시 하 였 다 . CMP 연마 장비 는 미국 회사 스 트 라스 바우 ( Strasbaugh ) 의 6 EC 를 사용 하 였 고 , 대상 웨이퍼 는 PE - TEOS ( plasma enhanced chemical vapor deposition TEOS oxide ) 를 도포 하 여 8 인치 웨이퍼 전면 에 산화 막 이 형성 된 웨이퍼 와 Si 3 N 4 를 도포 하 여 8 인치 웨이퍼 전면 에 질화 막 이 형성 된 웨이퍼 를 대상 으로 실시 하 였 고 , 테스트 조건 ( test condition ) 및 소 모재 는 다음 과 같 았 다 .