본 발명 은 , 일면 에서 , 기판 에 배치 된 복수 의 마크 를 검출 하 는 검출 장치 로서 , 기판 을 지지 하 도록 구성 되 고 기판 의 위치 및 자세 를 변경 가능 한 스테이지 와 , 서로 이격 되 어서 배치 되 고 , 상기 스테이지 에 의해 지지 된 기판 에 배치 된 상기 복수 의 마크 중 서로 다른 마크 를 검출 하 도록 구성 된 복수 의 검출기 와 , 상기 복수 의 검출기 각각 의 계측 오프셋 값 을 구하 도록 구성 된 프로세서 를 구비 하 고 , 상기 복수 의 검출기 로부터 선택 되 는 검출기 들 의 소정 의 복수 의 조합 의 각각 에 대해 , 상기 프로세서 는 , 각 검출기 의 검출 영역 의 위치 및 초점 위치 의 정보 에 따른 기울기 에서 상기 스테이지 에 의해 지지 된 기준 부재 를 경사 시키 고 , 각 검출기 와 상기 기준 부재 위 에 배치 된 기준 마크 의 얼라인먼트 를 행하 고 , 상기 프로세서 는 , 상기 소정 의 복수 의 조합 의 각각 에 대해 행해진 상기 얼라인먼트 에 의해 각각 취득 된 계측 값 에 근거 하 여 상기 복수 의 검출기 각각 의 상기 계측 오프셋 값 을 구하 는 검출 장치 를 제공 한다 .