이때 , 여기 에서 는 차분 Δ A , Δ B , Δ b 1 을 사용 해서 계측 값 의 시프트 를 보정 하 는 방법 에 대해 설명 했 지만 , 본 발명 의 검출 장치 는 이것 에 한정 되 는 것 은 아니 다 . 예 를 들 면 , 1 차 근사식 25 A 내지 25 D 의 기울기 에 따른 복수 의 검출기 21 a , 21 b , 21 c 의 보정 정보 를 미리 요구 하 고 , 계측 대상 으로 설정 된 마크 를 검출 할 때 의 기울기 정보 와 검출기 의 조합 에 따른 계측 오프셋 을 계측 값 에 부가 해도 된다 . 이 에 따라 , 복수 의 검출기 를 사용 해서 웨이퍼 상 의 복수 의 마크 를 동시 에 검출 할 경우 에 , 적어도 2 개 의 검출기 의 검출 영역 및 초점 심도 내 에 놓이 도록 복수 의 마크 를 정렬 할 때 의 웨이퍼 의 자세 변화 에 따른 마크 의 계측 값 의 시프트 를 보정 할 수 있 다 .