제 1 및 제 2 주요 중간체 로부터 화학식 Q 의 리간드 를 제조 하 기 위한 예시 적 절차 는 도 3 에 도시 되 어 있 다 . 도 3 에서 , 화학식 Q 의 리간드 의 제조 는 제 1 주요 중간체 ( a 5 ) ( 도 1 에 도시 된 바 와 같이 제조 됨 ) 와 제 2 주요 중간체 ( b 4 ) ( 도 2 에 도시 된 바 와 같이 제조 됨 ) 의 이중 스즈키 커플링 ( double Suzuki coupling ) 으로 출발 하 여 화학식 Q 의 리간드 의 이중 PG - 보호 된 유사 체 ( 도시 되 지 않 음 ) 를 제공 한 후 , 화학식 Q 의 리간드 의 이중 PG - 보호 된 유사 체로 부터 보호기 PG 둘 다를 제거 하 는 당해 유사 체의 이중 탈 보호 에 의해 화학식 Q 의 리간드 를 제공 한다 . 도 3 에 기재 된 반응 은 바람직 하 게 는 , 무수 비 프로톤 성 용매 , 예 를 들 어 , 디 에틸 에테르 , 톨루엔 , 크실렌 , 테트라 히 드로 푸란 , 디 에틸렌 글리콜 디 메틸 에테르 , 또는 그 의 조합 등 중 에서 및 약 - 78 ℃ 내지 약 200 ℃ 범위 의 온도 에서 실질 적 으로 불활성 기체 분위기 하 에 수행 된다 . 이중 - 탈 보호 반응 은 또한 극성 유기 용매 , 예 를 들 어 , 아세트산 , 아세톤 , 에틸 아세테이트 , 아 세토 니트릴 , 에탄올 , 그 의 혼합물 , 및 그 의 물 - 함유 혼합물 등 중 에서 수행 될 수 있 고 , 바람직 하 게 는 탈 보호제 , 예 를 들 어 산 ( 예 를 들 어 , 에탄올 중 HCl 또는 메틸렌 클로라이드 중 트리플 루 오로 아세트산 ) 등 , 수소 기체 및 팔라듐 촉매 를 사용 하 는 가수 소분 해 반응 ( 예 를 들 어 , PG 가 예 를 들 어 벤질 또는 CBZ 인 경우 ) 을 추가 로 사용 한다 . 바람직 하 게 는 , 반응 은 대기압 에서 수행 된다 .