시일 링 구 조체 ( 210 , 220 ) 위 에 는 제 1 부동태 층 , 즉 전면 부동태 층 ( 222 ) 이 배치 된다 . 하나 의 예 에서 , 제 1 부동태 층 또는 전면 부동태 층 ( 222 ) 은 고 종횡비 프로세스 ( high aspect ratio process : HARP ) 및 / 또는 고밀 도 플 라즈 마 ( HDP ) CVD 프로세스 에 의해 성막 된다 . 하나 의 예 에서 , 제 1 부동태 층 또는 전면 부동태 층 ( 222 ) 은 유전 재료 를 포함 하 는 것 으로 , 산화물 로 이루어진다 .