이러 한 본 발명 에 의하 면 , 상기 제 1 , 제 2 및 제 3 패턴 부 중 적어도 둘 은 서로 대응 되 는 패턴 을 가짐 으로써 , 상기 실리콘 결정 화 마스크 가 오버랩 되 도록 이동 됨 에 따라 발생 되 는 상기 레이저 빔 의 조사량 의 차이 에 의한 경계선 의 형성 을 억제 할 수 있 고 , 그 결과 상기 기판 에 형성 된 실리콘 의 전기 적 인 특성 을 보다 향상 시킬 수 있 다 .