도 2 에 나타내 는 바 와 같이 , 처리 유닛 ( 2 ) 은 기판 ( W ) 에 처리 액 을 공급 하 는 습식 처리 유닛 이 다 . 처리 유닛 ( 2 ) 은 내부 공간 을 가지 는 박스 형 의 챔버 ( 4 ) 와 , 챔버 ( 4 ) 내 에서 1 매 의 기판 ( W ) 을 수평 으로 유지 하 면서 기판 ( W ) 의 중앙부 를 지나 는 연직 인 회전축 선 ( A 1 ) 방향 으로 회전 시키 는 스핀 척 ( 기판 유지 유닛 ) ( 5 ) 과 , 스핀 척 ( 5 ) 에 유지 되 는 기판 ( W ) 을 향해 처리 액 ( 처리 액 및 처리 가스 ) 을 토출 하 는 복수 의 노즐 과 , 기판 ( W ) 을 하방 에서 가열 하 기 위한 히터 ( 6 ) 와 , 회전축 선 ( A 1 ) 방향 으로 스핀 척 ( 5 ) 을 감싸 는 통 형상 의 처리 컵 ( 7 ) 을 포함 한다 .