이러 한 정보 는 도 4 에 제시 된 바 와 같이 , 리플 로우 과정 에 적용 된 온도 변수 들 에 대한 오프닝 선폭 ( CD ) , 즉 , 콘 택 홀 직경 에 대한 데이터 로 얻 어 지 며 , 도 4 에 제시 된 바 와 같 은 경향 을 보이 는 그래프 로 제시 될 수 있 다 . 이러 한 온도 변화 에 따른 선폭 변화 의 비 ( ratio ) 의 데이터 를 모델 링 제 2 변수 로 추출 할 수 있 다 . 이 와 함 께 , 리플 로우 된 포토레지스트 패턴 ( 255 ) 의 주사 전자 현미경 ( SEM ) 사진 과 같 은 영상 을 담 은 데이터 를 모델 링 제 2 변수 로 추출 할 수 도 있 다 . 이 와 같이 , 포토레지스트 패턴 ( 255 ) 을 리플 로우 하 는 과정 에 대한 모델 링 제 2 변수 는 실질 적 으로 리플 로우 온도 에 따른 콘 택 홀 패턴 의 축소 비율 을 의미 하 는 변수 로 추출 될 수 있 다 ( 도 1 의 105 ) .