발명자 들 은 , 이러 한 노치 는 , ( 1 ) 유전율 등 방성 ( 等方 性 ) 의 유전체 베이스 기판 을 사용 하 고 , 또한 초전 도 디스크 패턴 위 에 적층 체 를 배치 하 지 않 는 경우 에 는 , 실측 결과 에 도 발생 하 지 않 는 것 , ( 2 ) 유전율 등방 성 의 유전체 베이스 기판 을 사용 한 경우 에 도 , 유전 율 또는 자화율 이 이방성 인 적층 체 를 초전 도 공진기 패턴 위 에 배치 했 을 때 에 는 , 배치 방향 에 따라서 는 노치 가 발생 하 기 때문 에 , 노치 의 발생 은 유전율 의 이방성 의 방향 에 기인 한다고 생각 하 기 에 이르 렀다 . 그래서 , 유전율 의 이방성 을 등가 적 으로 고려 한 전자계 시뮬레이션 을 , 이하 와 같이 하 여 행했 다 .