본 실시 예 에 따른 반응 로 ( 120 ) 는 제 1 내지 제 3 영역 ( 122 , 124 , 126 ) 으로 구획 되 는 것 을 예 로 들 어 설명 하 였으나 , 제 1 및 제 3 영역 ( 122 , 126 ) 은 최소한 의 영역 을 갖 는 것 이 바람직 하 다 . 이 는 제 1 및 제 3 영역 ( 122 , 126 ) 이 실질 적 은 탄소 나노 튜브 의 생 성 공간 이 아닌 반응 로 ( 120 ) 의 구역 별 온도 조절 을 위한 것 이 기 때문 이 다 . 특히 , 제 1 및 제 3 영역 ( 122 , 126 ) 각각 은 플랜지 ( 132 , 134 ) 에 의한 반응 로 ( 120 ) 의 온도 저하 를 방지 하 기 위한 것 이 며 , 만약 , 제 1 및 제 3 영역 ( 122 , 126 ) 이 최소한 의 영역 으로 도 플랜지 ( 132 , 134 ) 에 의한 반응 로 ( 120 ) 의 온도 저하 를 방지 할 수 있 다면 반응 챔버 ( 100 ) 의 풋 프린트 ( foot print ) 를 줄일 수 있 다 . 여기 서 , 상술 한 제 1 및 제 3 영역 ( 122 , 124 , 126 ) 의 크기 는 반응 로 ( 120 ) 의 크기 및 공정 조 건 에 따라 다양 하 게 변경 및 변형 될 수 있 다 .