이어서 , 제 2 절 연막 ( 111 ) 에 대해 평탄 화 공정 , 예컨대 CMP 공정 을 실시 한다 . 이때 , CMP 공정 은 도전 막 ( 102 A ) 을 연마 정지 막 으로 사용 하 며 , 예컨대 도전 막 ( 102 A ) 이 폴리 실리콘 막 으로 이루어지 고 , 제 2 절 연막 ( 111 ) 이 HDP 막 으로 이루어진 경우 폴리 실리콘 막 과 HDP 막 간 의 연마 선택 비 를 1 : 50 ~ 1 : 100 으로 실시 한다 . 이 를 위해 세리 아 연마제 를 탈 이온 수 에 1 : 10 ~ 1 : 200 비율 ( 세리아 연마제 : 탈 이온 수 ) 로 혼합 하 여 사용 한다 . 이때 , 도전 막 ( 102 A ) 또한 50 Å 이하 로 연마 되 도록 한다 .