미국 특허 등록 제 6 , 492 , 522 호 에서 는 분자 내 고리 화 반응 을 포함 한 일련 의 합성 공정 을 통해 도 네 페질을 제조 하 는 방법 들 을 소개 하 고 있 다 . 반응식 4 에 나타나 있 는 반응 공정 은 미국 특허 등록 제 6 , 492 , 522 호 에 소개 된 공정 들 중 하나 로서 다음 과 같이 다수 의 반응 공정 을 거쳐 화학식 ( I ) 로 표시 되 는 도네 페질을 제조 하 고 있 다 . 이 특허 에서 는 최종 단계 에서 99 . 9 % 의 높 은 순도 로 화학식 ( I ) 로 표시 되 는 도네 페질 을 얻 을 수 있 다고 설명 하 고 있 으나 실질 적 으로 전체 반응 수율 은 59 . 35 % 에 불과 하 고 , 지나치 게 많 은 반응 공정 과 최종 단계 에서 사용 되 는 실리 카겔 컬럼 정제 는 여전히 심각 한 문제점 으로 남 아 있 다 .