또한 , 본 발명 의 조성물 에 는 경화 조제 를 가할 수 있 다 . 경화 조제 는 패턴 의 형상 을 강고 하 게 하 거나 , 현상 의 콘트 라스트 를 높임 으로써 해상도 를 개량 할 수 있 다 . 본 발명 에 사용 되 는 경화 조제 로 는 , 방사선 을 조사 하 면 분해 되 어 조성물 을 광경 화 시키 는 활성 물질 인 산 을 방출 하 는 광산 발생 제 , 염기 를 방출 하 는 광 염기 발생 제 , 또한 , 열 에 의해 분해 되 어 조성물 을 열 경화 시키 는 활성 물질 인 산 을 방출 하 는 열 산 발생 제 , 염기 를 방출 하 는 열 염기 발생 제 등 을 들 수 있 다 . 여기 에서 , 방사선 으로 는 , 가시 광 , 자외선 , 적외선 , X 선 , 전자선 , α 선 , γ 선 등 을 들 수 있 다 .