또한 레지스 트 층 을 균일 한 박막 으로 형성 하 기 위해 용매 가 필요 한 경우 가 있 는데 이때 사용 할 수 있 는 용매 로 는 레지스 트 층 용 고분자 물질 을 용해 할 수 있 는 에탄올 , 이소프로판올 , 부탄올 같 은 알코올 류 , 에틸렌글리콜 , 글리세린 과 같 은 글리콜 류 , 에틸 아세테이트 , 부틸 아세테이트 , 메 톡 시프 로 필 아세테이트 , 카비 톨 아세테이트 , 에틸 카비 톨 아세테이트 와 같 은 아세테이트 류 , 메틸 세로 솔 브 , 부틸 셀 로 솔 브 , 디에틸에테르 , 테 트 하 히 드로 퓨란 , 디옥산 과 같 은 에테르 류 , 메틸에틸케톤 , 아세톤 , 디 메틸 포름 아미드 , 1 - 메틸 - 2 - 피 롤리 돈 과 같 은 케톤 류 , 헥산 , 헵탄 , 도데 칸 , 파라핀 오 일 , 미네랄 스프 릿 과 같 은 탄화수소 계 , 벤 전 , 톨루엔 , 자일렌 과 같 은 방향 족 , 그리고 클로로포름 이나 메틸렌 클로라이드 , 카본 테트라 클로라이드 와 같 은 할로겐 치환 용매 , 아 세토 니트릴 , 디 메틸 술 폭사 이 드 또는 이 들 의 혼합 용매 등 을 사용 할 수 있 다 .