산화 인듐 주석 ( ITO ) 피복 된 유리 플레이트 를 기판 으로서 사용 하 였 다 . 사이클 로 펜탄 온 중 의 고체 함량 이 2 중량 % 인 블 렌 드 1 의 용액 의 스핀 코팅 에 의해 , 무수 두께 가 약 60 nm 인 정렬 층 이 60 초 동안 2000 rpm 의 회전 파 라메 터로 제조 됐 다 . 이어서 , 정렬 층 은 180 ℃ 의 온도 에서 10 분 동안 열 판 상 에서 열 처리 하 였 다 . 그 후 , 광 정렬 층 을 선편광 된 UVB 광 ( 파장 : 280 내지 320 nm ) 에 수직 으로 노출 시켰 다 . 조사량 150 mJ / ㎠ 를 3 mW / ㎠ 의 강도 로 인가 하 였 다 . 다음 단계 에서 , 사이크 로 펜탄 온 중 의 배합 물 M 1 ( 실시 예 1 ) 25 중량 % 를 60 초 동안 회전 파라미터 800 rpm 으로 작용 화 된 광 정렬 층 의 상부 에 스핀 코팅 시켰 다 . 약 800 nm 의 무수 필름 두께 를 이런 방식 으로 달성 하 였 다 . 이어서 , 열 판 상 에서 40 ℃ 의 온도 에서 의 열 처리 를 10 분 동안 수행 하 였 다 .