패턴 측정 방법 의 제 1 양태 는 , 포토 마스크 의 패턴 의 형상 을 측정 하 는 방법 으로서 , 상기 포토 마스크 로부터 소정 의 광학계 를 경유 한 광 을 촬상 면 에서 결상 하 여 , 촬상 화상 을 취득 하 는 제 1 공정 과 , 어느 패턴 형상 을 갖 는 패턴 을 투과 한 광 의 분포 를 나타내 는 모델 데이터 를 , 제 1 양태 에 관련 된 모델 데이터 의 생성 방법 을 사용 하 여 생성 하 는 제 2 공정 과 , 상기 모델 데이터 에 의해 나타나 는 광이 상기 광학계 를 경유 하 여 상기 촬상면에 결상 되 었 을 때 의 상기 촬상면 상 의 광 강도 분포 인 시뮬레이션 강도 분포 를 , 상기 모델 데이터 에 대해 고속 푸리에 변환 및 역고 속 푸리에 변환 을 실시 하 여 산출 하 는 제 3 공정 과 , 상기 시뮬레이션 강도 분포 와 상기 촬상 화상 에 있 어서 의 광 의 강도 분포 의 차이 가 기준 값 보다 큰 지 의 여부 를 판정 하 는 제 4 공정 과 , 상기 차이 가 상기 기준 값 보다 클 때 에 , 상기 모델 데이터 의 패턴 형상 을 수정 하 여 상기 제 2 공정 내지 상기 제 4 공정 을 반복 하 는 제 5 공정 과 , 상기 차이 가 상기 기준 값 이하일 때 , 상기 모델 데이터 의 패턴 형상 을 측정 형상 으로 간주 하 는 제 6 공정 을 구비 한다 .