각 빔 의 조사 시간 은 , 패턴 밀도 또는 근접 효과 보정 의 변 조량 에 의하 여 바뀌 지만 , 멀티 빔 의 빔 어레이 면 에서 의 전류 밀도 의 분포 또는 빔 위치 이탈 에 도 의존 하 여 바뀐다 . 멀티 빔 의 빔 어레이 의 외주 부 에서 전류 밀도 가 낮 은 , 또는 빔 위치 이탈 량 이 큰 경우 에 는 , 각 빔 의 최장 의 조사 시간 은 빔 어레이 중앙부 에 비해 외주 부 에서 높 아 진다 .