상기 의 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 다른 측면 에 따른 기판 처리 방법 은 , 스테이지 와 플라 즈 마 차 폐부 사이 에 기판 을 배치 하 는 단계 와 , 상기 스테이지 상 에 기판 을 안착 시킨 상태 에서 상기 기판 과 상기 플 라즈 마 차 폐부 사이 를 제 1 간격 으로 조절 하 는 단계 와 , 상기 플 라즈 마 차 폐부 를 통해 상기 기판 의 에지 영역 으로 반응 가스 를 공급 하 여 상기 기판 에 대한 제 1 플 라즈 마 처리 를 수행 하 는 단계 와 , 상기 스테이지 와 상기 기판 을 이격 시킨 상태 에서 상기 기판 과 상기 플 라즈 마 차 폐부 사이 를 제 2 간격 으로 조절 하 는 단계 및 상기 스테이지 를 통해 상기 기판 의 배면 영역 으로 반응 가스 를 공급 하 여 상기 기판 에 대한 제 2 플 라즈 마 처리 를 수행 하 는 단계 를 포함 한다 .