반도체 를 제조 하 기 위한 공정 장비 가 작동 되 면 챔버 내 의 온도 가 상승 하 게 되 고 그 에 따른 챔버 내부 의 불 규칙 한 온도 변화 는 반도체 제조 시 의 수율 에 나쁜 영향 을 미치 므로 , 챔버 내부 의 척 ( chuck ) 과 월 ( wall ) 에 형성 된 냉각 유로 를 통하 여 열매체 ( coolant ) 를 순환 시켜 반도체 제조 장비 의 온도 를 적정 온도 로 일정 하 게 유지 시켜야 하 며 , 따라서 , 반도체 제조 장비 에 는 이 를 위한 온도 조절 시스템 이 필수 적 으로 구비 된다 .