주사 형 노광 장치 에서 는 , 전술 한 레티 클 을 투과 한 노광 광이 , 투영 렌즈 를 통해서 정확 하 게 웨이퍼 의 칩 상 에 투영 되 어야 한다 . 레티 클 스테이지 및 웨이퍼 스테이지 는 , 각각 레이저 간섭계 를 이용 한 독립 한 위치 계측 시스템 을 가지 고 있 고 , 미리 결정 한 스캔 프로파일 에 따라 구동 된다 . 주사 노광 공정 중 에 는 , 그 스테이지 의 이동 에 의해 발생 하 는 진동 이나 , 스테이지 안 내면 의 하중 변형 , 불 균일 한 구동력 등 에 의해 , 위치 의 오 차 가 생긴다 . 각각 의 스테이지 상 에 발생 한 오차 는 , 각각 의 스테이지 의 목표 위치 에 대한 편차 의 지표 로 평가 된다 . 또 , 본래 서로 동기 해 얼라인 되 어야 하 는 스테이지 의 상대 위치 의 얼라인먼트 오 차 를 평가 하 기 위해서 , 레티 클 의 편차 와 웨이퍼 의 편차 의 차분 을 나타내 는 동기 정밀도 라고 하 는 지표 를 이용 한다 .