본 발명 의 다양 한 실시 형태 에서 , 제 1 및 제 2 플레이트 ( 21 , 23 ) 는 추가 특징 부를 포함 할 수 있 다 . 일부 실시 형태 에서 , 제 1 주 표면 ( 24 ) 은 실질 적 으로 평면형 이 고 , 제 2 주 표면 ( 26 ) 은 실질 적 으로 평면형 이 거나 또는 둘 모두 는 실질 적 으로 평면형 이 다 . 대안 으로 , " 일 측면 은 2008 년 12 월 17 일자 로 출원 되 고 발명 의 명칭 이 "" 리세 스 된 표면 을 갖 는 접시 형 연마 입자 ( Dish - Shaped Abrasive Particles With A numberRecessed Surfaces ) "" 인 공계 류 중 인 미국 특허 출원 번호 제 12 / 336 ", 961 호 에서 보다 상세 하 게 논의 되 는 바 와 같이 오목 할 수 있 거나 또는 리세 스 될 수 있 다 . 오목 한 또는 리세 스 된 표면 ( 50 ) 은 졸 겔 에 대해 건조 조건 을 선택 하 고 , 미국 특허 출원 번호 제 12 / 336 , 961 호 에서 논의 된 바 와 같이 몰드 의 측면 위 로 졸 겔 의 에지 를 위킹 하 는 ( wick ) 경향 의 졸 겔 내 에 메니스커스 ( meniscus ) 를 형성 하 는 몰드 공동 내 에 잔류 시킴 으로써 형성 될 수 있 다 . 오목 한 표면 은 중공 그라운드 치즐 블레이드 ( hollow ground chisel blade ) 와 유사 한 일부 응용 에서 절단 성능 을 향상 시키 는 데 도움 이 될 수 있 다 .