또한 , 챔버 ( 60 ) 의 내부 의 공정 공간 ( 80 ) 에 는 웨이퍼 , 마스크 또는 LCD 등 의 가공물 ( 50 ) 을 올려 놓 기 위한 가공 대 ( 70 ) 가 구비 되 어 있 으며 , 챔버 ( 60 ) 의 상부 에 는 RF 전력 을 공급 하 는 전원 ( 30 ) 이 설치 되 어 있 고 , 전원 ( 30 ) 으로부터 공급 받 은 RF 전력 을 조정 하 는 정합 기 ( 40 ) 와 안테나 ( 20 ) 가 접속 되 어 있 다 .