상기 목적 은 , 본 발명 에 따라 , 프로세스 챔버 내 에 기판 처리 공간 을 형성 하 는 기판 처 리부 ; 및 상기 기판 처리 공간 과 연통 하 는 플라 즈 마 생 성 공간 을 형성 하 는 플라 즈 마 생 성부 ; 를 포함 하 되 , 상기 플라 즈 마 생 성부 는 , 상기 플라 즈 마 생 성 공간 을 둘러싸 는 플 라즈 마 챔버 ; 및 상기 플 라즈 마 챔버 에 설치 되 는 가스 노즐 과 상기 가스 노즐 에 연결 되 어 반응 가스 를 공급 하 는 가스 라인 이 형성 된 가스 공급 부 ; 를 포함 하 고 , 상기 가스 노즐 은 세라믹 재질 로 이루어지 는 것 을 특징 으로 하 는 플 라즈 마 스러스터 에 의해 달성 된다 .