또한 , 트렌치 절 연막 ( 210 ) 에 트렌치 를 형성 하 기 위하 여 식각 공정 을 실시 할 때 , 트렌치 절 연막 ( 210 ) 상부 에 형성 되 는 식각 마스크 막 은 아몰 퍼스 카본 막 으로 형성 할 수 도 있 다 . 그런데 , 아몰 퍼스 카본 막 은 형성 공정 중 에 파티클 ( particle ) 이 발생 할 수 있 어 미세 한 공정 을 실시 하 는 데 어려움 이 있 으며 , 아몰 퍼스 카본 막 을 보호 하 기 위하 여 상부 에 SiON 막 을 추가 로 형성 해야 하 기 때문 에 공정 이 번거롭 고 비용 이 많이 드 는 문제점 이 있 다 . 반면 에 , 본 발명 은 드레 인 콘 택 플러그 를 형성 할 때 사용 되 는 도전 물질 로 식각 마스크 를 형성 하 기 때문 에 , 공정 이 단순 하 고 비용 이 절감 될 수 있 다 .