방전 등 을 사용 한 광원 장치 는 반도체 제조 프로세스 나 프린트 기판 작성 프로세스 에서 의 포토레지스트 의 노광 프로세스 와 같이 , 광 을 사용 하 여 물건 을 가공 하 는 공업 프로세스 에서 활발 하 게 이용 되 고 있 다 . 이러 한 공업 프로세스 에서 사용 되 는 광원 장치 에 는 특히 「 장시간 에 걸쳐 균일 한 조도 의 광 을 출사 할 수 있 는 것 」 이 요구 되 지만 , 광원 장치 에 사용 되 는 방전 등 은 사용 시간 이 길 어 지 는 동시 에 열화 되 어 조도 가 저하 되 기 때문 에 , 이러 한 요구 에 응하 는 것 은 용이 하 지 않 았 다 .