기판 의 국지 적 및 / 또는 전역 곡 률 로 역 추적 될 수 있 는 에러 가 본 발명 에 따른 방법 에 의해 정정 되 는 경우 , 렌즈 시스템 의 시야 에 의해 커버 될 수 있 는 영역 의 정렬 마크 의 집중 된 생 성 이 더 방해 가 된다 . 정렬 정확도 는 서로 멀리 떨어져 있 는 복수 의 정렬 마크 의 본 발명 의 측정 에 의해 증가 될 것 이 다 .