나노 패턴 ( 14 ) 은 위상 반전 노출 을 실시 하 도록 설계 될 수 있 고 , 이러 한 경우 나노 그루브 , 포스트 또는 컬럼 어레이 로서 제작 되 거나 , 또는 임의 형상 의 피쳐 를 함유 할 수 있 다 . 대안 적 으로 , 나노 패턴 은 플라스몬 프린팅 을 위한 나노 금속 성 아일랜드 의 어레이 또는 패턴 으로서 제작 될 수 있 다 . 롤링 마스크 상 의 나노 패턴 은 크기 가 약 1 나노미터 ∼ 약 100 미크론 , 바람직 하 게 는 약 10 나노미터 ∼ 약 1 미크론 , 더욱 바람직 하 게 는 약 50 나노미터 ∼ 약 500 나노미터 범위 인 피쳐 를 가질 수 있 다 . 롤링 마스크 는 크기 가 약 1 나노미터 ∼ 약 1000 나노미터 , 바람직 하 게 는 약 10 나노미터 ∼ 약 500 나노미터 , 더욱 바람직 하 게 는 약 50 나노미터 ∼ 약 200 나노미터 범위 인 피쳐 를 인쇄 하 는 데 사용 될 수 있 다 .