본 발명 에 관계 되 는 반도체 장치 는 , 반도체 장치 의 제조 공정 시 나 완성 후 의 사용 시 에 있 어서 , 상기 반도체 장치 에 굴곡 등 의 외력 이 가해진 경우 에 도 , 트랜지스터 등 의 소자 에 생기 는 응력 을 억제 하 기 위해서 보 강막 이 형성 된다 . 보강 막 은 , 반도체 장치 의 두께 방향 에서 , 굴곡 등 의 변형 에 대하 여 인장 응력 이나 압축 응력 등 의 응력 변형 이 발생 하 지 않 는 중립면 ( 연장 수축 하 지 않 는 면 ) 의 위치 를 반도체 장치 에 있 어서 적합 한 위치 로 하 기 위해서 형성 한다 .