대한민국 공개 특허 제 10 - 2011 - 0124955 호 , 대한민국 공개 특허 제 10 - 2014 - 0028962 호 및 대한민국 공개 특허 제 10 - 2015 - 0102354 호 등 은 포토레지스트 제거 용 박리 액 으로 아민 화합물 , 알킬렌 글리콜 알킬 에 테르 화합물 , 비 양자 성 극성 용매 및 부식 방지 제 와 같 은 유기 화합물 이 사용 되 었 으며 , 이중 박리 성 및 부식성 이 우수 한 N - 메틸 포름 아미드 ( N - methylforamide ; NMF ) , N - 메틸 피 롤리 돈 ( N - methylpyrrolidone ; NMP ) 등 의 비 양자 성 용매 를 주 용매 로 사용 하 여 왔 다 . 이러 한 용매 류 는 뛰어난 박리 력 을 가지 고 있 는 장점 은 있 으나 , 생식 독성 을 나타내 는 물질 로서 , 환경 과 인체 에 유해 한 단점 을 갖 고 있 어 점차 그 사용 이 규제 되 고 있 다 . 따라서 NMF 및 NMP 를 사용 하 지 않 고 도 우수 한 박리 력 을 갖 는 박리 액 조성물 의 개발 이 요구 되 고 있 는 실정 이나 , 아직 까지 충분 한 박리 력 및 린스 력 을 나타내 는 박리 액 조성물 은 개발 되 지 못한 실정 이 다 .