도 22 를 참조 하 면 , 제 2 절연 층 ( 122 ) 상 에 마스크 패턴 ( 도시 생략 ) 을 형성 하 고 , 상기 마스크 패턴 을 식각 마스크 로 사용 하 여 제 2 절연 층 ( 122 ) , 복수 의 제 1 절연 층 ( 120 ) 및 복수 의 희생 층 ( 310 ) 의 일부분 을 식각 하 여 채널 홀 ( C 140 H ) 을 형성 할 수 있 다 . 채널 홀 ( C 140 H ) 은 기판 ( 110 ) 의 주면 ( 110 M ) 보다 낮 은 레벨 까지 연장 될 수 있 다 .