도 1 및 도 2 에 나타나 있 는 바 와 같이 , 기판 처리 장치 ( 10 ) 는 진공 상태 등 대기압 미만 의 압력 [ 부압 ( 負壓 ) ] 에 견딜 수 있 는 로드 록 챔버 ( loadlock chamber ) 구조 로 구성 된 제 1 반 송실 ( 103 ) 을 구비 하 고 있 고 , 제 1 반 송실 ( 103 ) 의 광체 ( 101 ) 는 평면도 가 육각형 으로서 상하 양단 이 폐색 한 상자 형상 으로 형성 되 어 있 다 . 제 1 반 송실 ( 103 ) 에 는 부압 하 에서 2 매 의 웨이퍼 ( 200 ) 를 동시 에 반송 하 는 제 1 웨이퍼 이재기 ( 112 ) 가 설치 되 어 있 다 . 제 1 웨이퍼 이재기 ( 112 ) 는 , 엘리베이터 ( 115 ) 에 의하 여 , 제 1 반 송실 ( 103 ) 의 기밀 성 을 유지 하 면서 승강 할 수 있 도록 구성 되 어 있 다 .