상기 와 같이 고 선택 비 의 제 1 슬러리 조성물 과 저 선택 비 의 제 2 슬러리 조성물 을 이용 한 두 차례 의 연마 공정 을 통해서 상변화 물질 층 패턴 을 형성 하 는 방법 은 , 상변화 물질 층 패턴 의 상부 가 지나치 게 연마 되 어 리세 스 가 발생 하 는 것 을 억제 하 는 동시 에 우수 한 연마 효율 을 유지 할 수 있 다 . 또한 , 상변화 물질 층 패턴 의 상부 에 두꺼운 표면 산화 막 이 형성 되 는 것 을 방지 하 여 상변화 물질 층 패턴 의 전기 적 특성 의 저하 및 상변화 메모리 장치 의 불량 발생 을 크 게 감소 시킬 수 있 다 .