이 실시 형태 의 글래스 기판 은 소망 의 글 래스 조성 이 되 는 바 와 같이 조합 한 글래스 원료 를 연속 용융 노 에 투입 하 고 , 글래스 원료 를 1450 ~ 1650 ℃ 에서 가열 용융 하 고 , 청징 한 후 성형 장치 에 공급 하 고 나 서 용융 글 래스 를 판 형상 으로 성형 하 고 , 서 냉 함 으로써 제조 할 수 있 다 . 또한 , 파장 500 ~ 800 ㎚ 에 있 어서 의 글래스 기판 의 투과율 을 80 % 이상 으로 하 는 방법 으로서 , ( 1 ) 투과율 을 저하 시키 는 불순물 이 적 은 글래스 원료 , 특히 Fe 2 O 3 가 적 은 글래스 원료 를 사용 한다 , ( 2 ) 글래스 기판 의 제조 공정 으로 Fe 2 O 3 등 이 혼입 하 지 않 도록 한다 , ( 3 ) 글래스 의 용융 조건 , 예 를 들 면 용융 온도 , 용융 분위기 , 용융 시간 을 조정 하 는 등 의 방법 이 열거 된다 .