X - 선 산란 패턴 ( X - ray diffraction ( XRD ) patterns ) 는 theta / 2 theta 구성 으로 XRD 3003 ( SEIFERT ) 을 사용 하 여 수득 하 였 다 . 주사 전자 현미경 ( Scanning electron microscopy , SEM ) 사진 은 FE - SEM ( field emission scanning electron microscope , Hitachi S - 4300 / S - 4800 ) 을 통하 여 수득 하 였 다 . Pt 코팅 은 이온 스퍼터 ( ion sputter , Hitachi E - 1030 ) 을 사용 하 였 다 . 에너지 분산 X - 선 ( Energy dispersive X - ray , EDX , Hitachi S - 4800 ) 분석 은 분리 막 의 표면 부터 α - Al 2 O 3 지 지체 의 접점 까지 분리 막 과 SSZ - 13 분리 막 의 두께 를 따른 원소 의 양 에 대한 정보 를 얻 기 위하 여 수행 되 었 다 . SSZ - 13 분리 막 의 결함 구조 를 시각 화 하 기 위하 여 , 고체 레이저 ( solid - state laser , 555 nm 파장 ) 을 사용 하 여 형광 공 초점 광학 현미경 ( fluorescence confocal optical microscopy , FCOM , Zeiss LSM - 700 ) 분석 을 하 였 다 . 이 를 위하 여 , 분리 막 표본 은 삼투압 - 타입 염료 접촉기 ( osmosis - type dye contactor ) 를 사용 하 여 플루오레세인 나트륨 염 ( fluorescein sodium salt , C 20 H 10 Na 2 O 5 , Sigma - Aldrich ( Product No . : F 6377 ) ) 으로 염색 되 었 다 . 삼투압 타입 모듈 ( Osmosis type module ) 에 대한 자세 한 정보 는 T . Lee et al . , J . Membr . Sci . 436 ( 2013 ) 79 - 89 에서 찾 을 수 있 다 . 개념 적 으로 , 염색 분자 의 지름 은 결함 크기 ( 1 nm 보다 크 거나 같 음 ) 보다 작 지만 제올라이트 의 기공 크기 ( 1 nm 이하 ) 보다 큰 ~ 1 nm 이 기 때문 에 ( J . Choi et al . , Science 325 ( 2009 ) 590 - 593 ) . 선택 적 으로 제올라이트 에 있 는 결함 에 만 투과 할 수 있 다 . 본 발명 에서 는 결함 구조 에 대해 집중 적 으로 조사 하 기 위하 여 분리 막 을 12 , 24 , 60 시간 으로 다른 기간 동안 염색 하 였 다 . 결과 로 나온 FCOM 사진 은 SSZ - 13 분리 막 에 존재 하 는 결함 구조 의 정량 적 성질 을 얻 기 위하 여 사진 처리 와 1 - D 투과 모델링 분석 에 사용 되 었 다 .