침착 부위 의 수 는 동일 한 침착 디바이스 이용 하 고 특정 각도 또는 사브르 각 ( saber angle ) 로 회전 시킴 으로써 증가 될 수 있 다 . 침착 디바이스 를 회전 시킴 으로써 , 각각 의 노즐 은 사브르 각 에 대응 되 는 특정 양 의 지연 시간 으로 분사 된다 . 이 비 동기식 분사 는 노즐 간 에 크로스 토크 를 생성 한다 . 따라서 , 액적 이 0 도 와 는 상이 한 특정 사브르 각 으로 분사 되 는 경우 , 노즐 로부터 의 액 적 부피 는 상이 할 수 있 다 .