광차 단막 ( 230 ) 상 에 광차 단막 의 선택 적 으로 노출 시키 는 제 1 레지스 트 패턴 ( 240 ) 을 형성 한다 . 구체 적 으로 , 광차 단막 ( 230 ) 상 에 레지스 트 막 ( 도시 되 지 않 음 ) 을 도포 한 후 , 전자 빔 을 이용해 레지스 트 막 에 웨이퍼 상 에 구현 하 고자 하 는 회로 패턴 을 전사 한다 . 회로 패턴 이 전사 된 레지스 트 막 을 현상 하 여 제 1 레지스 트 패턴 ( 240 ) 을 형성 한다 .