본 발명 의 반도체 디바이스 용 기판 의 세정제 조성물 을 사용 함 으로써 , 반도체 디바이스 용 기판 의 세정 공정 에 있 어서 , 코발트 또는 코발트 합금 을 함유 하 는 배선 및 전극 의 부식 을 방지 하 고 , 또한 세정 공정 에서 의 잔류물 의 발생 및 기판 표면 에 대한 잔류물 의 부착 을 억제 하 여 , 효율 적 인 세정 을 실시 할 수 있 다 .