상기 한 기술 적 과제 를 달성 하 기 위한 기술 적 수단 으로서 , 본원 의 제 1 측면 은 , 연마 대상 물질 을 피치 ( pithch ) 에 의해 고정 선반 상 에 고정 시키 는 단계 , 상기 고정 선반 상 에서 제 1 연마 정반 및 제 1 연마 입자 를 사용 하 여 상기 연마 대상 물질 을 1 차 연마 하 는 단계 , 상기 고정 선반 상 에서 제 2 연마 정반 및 제 2 연마 입자 를 사용 하 여 상기 1 차 연마 된 연마 대상 물질 을 2 차 연마 하 는 단계 를 포함 하 는 기계 적 - 화학 적 연마 방법 에 있 어서 , 상기 2 차 연마 된 연마 대상 물질 의 평면도 는 PV ( Peak to Valley ) 값 을 기준 으로 50 nm 내지 150 nm 이 고 , RMS ( Root Mean Square ) 값 을 기준 으로 10 nm 내지 25 nm 인 것 인 , 기계 적 - 화학 적 연마 방법 을 제공 한다 .