다음 으로 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 투영 광학계 ( PL ) 에 의해 투영 된 레티 클 ( R ) 상의 1 쌍 의 계측 마크 의 투영 이미지 ( 공간 이미지 ) 를 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 계측 플레이트 ( 30 ) 를 포함 하 는 전술 한 공간 이미지 계측 장치 ( 45 A ) 를 사용 하 여 계측 한다 . 예 를 들 어 전술 한 미국 특허 출원 공개 제 2002 / 0041377 호 명세서 등 에 개시 된 방법 과 동일 하 게 , 1 쌍 의 공간 이미지 계측 슬릿 패턴 ( SL ) 을 사용 한 슬릿 스캔 방식 의 공간 이미지 계측 동작 으로 1 쌍 의 계측 마크 의 공간 이미지 를 각각 계측 하 고 , 그 계측 결과 ( 웨이퍼 테이블 ( WTB 1 ) 의 XY 위치 에 따른 공간 이미지 강도 ) 를 메모리 에 기억 한다 . 이 레티 클 ( R ) 상의 1 쌍 의 계측 마크 의 공간 이미지 의 계측 처리 시 에 는 , 웨이퍼 테이블 ( WTB 1 ) 의 XY 평면 내 의 위치 는 , X 스케일 ( 39 B , 39 A ) 에 대향 하 는 2 개 의 2 D 헤드 ( 164 i , 165 j ) ( 인코더 ( 170 B , 170 A ) ) 에 기초 하 여 제어 되 고 있 다 .