상기 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 일 측면 에 따른 탐침 현미경 의 리소그래피 방법 은 , 샘플 에 나노 구조물 을 제조 하 기 위한 정보 및 샘플 의 디지털 또는 아 날로 그 위치 정보 를 입력 받 는 단계 와 ; 샘플 에 나노 구조물 을 제조 하 기 위한 정보 에 포함 된 샘플 의 위치 정보 입력 방법 에 따라 선택 된 디지털 또는 아 날로 그 위치 정보 를 이용 하 여 설정 된 리소그래피 알고리즘 에 따라 각각 디지털 리소그래피 신호 또는 아 날로 그 리소그래피 신호 를 생성 하 여 출력 하 는 단계 를 포함 하 며 , 샘플 에 나노 구조물 을 제조 하 기 위한 정보 는 아날로그 리소그래피 신호 를 증폭 하 기 위한 이득 값 을 포함 한다 .