상기 분말 의 형성 은 1 단계 의 수 나노미터 크기 의 미세 한 핵 입자 의 형성 후 , 2 단계 입자 의 성장 과정 , 3 단계 1 차 입자 들 과 의 충돌 에 의한 표면 응집 과정 의 관여 하 게 되 는데 , 이 중 2 단계 와 3 단계 를 초음파 에 의해 억제 함 으로 1 차 입자 를 50 ㎚ 크기 로 균일 하 게 분산 된 산화 주석 분말 을 제조 할 수 있 음 을 알아내 었 다 .