또 , 청구 항 3 의 발명 은 , 원판 형상 의 기판 에 플래시 광 을 조사 함 으로써 당해 기판 을 가열 하 는 열처리 장치 에 있 어서 , 기판 의 방향 을 조정 하 는 얼라인먼트 기구 와 , 상기 기판 을 수용 하 여 가열 처리 를 행하 는 챔버 와 , 상기 챔버 내 에 설치 되 며 , 상기 기판 을 재치 하 여 유지 하 는 서 셉 터 와 , 상기 얼라인먼트 기구 로부터 상기 챔버 내 의 상기 서 셉 터 에 상기 기판 을 반송 하 는 반송 부 와 , 상기 챔버 의 상방 에 설치 되 며 , 상기 서 셉 터 에 재치 된 상기 기판 의 상면 에 플래시 광 을 조사 하 는 플래시 램프 와 , 상기 서 셉 터 에 재치 된 상기 기판 의 비스듬 한 상방 에 설치 되 며 , 상기 기판 의 상면 으로부터 방사 된 적 외광 을 수 광 하 여 당해 상면 의 온도 를 측정 하 는 방사 온도계 를 구비 하 고 , 상기 기판 은 면방 위가 ( 100 ) 면 인 단결정 실리콘 의 반도체 웨이퍼 이 며 , 상기 얼라인먼트 기구 는 , 상기 기판 의 ＜ 100 ＞ 방향 을 따른 2 개 의 직경 의 이등분선 이 상기 방사 온도계 의 광축 과 일치 하 도록 상기 기판 의 방향 을 조정 하 는 것 을 특징 으로 한다 .