본 발명 은 다 이 샷 을 적용 하 는 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 를 구현 하 기 위한 것 이 나 , 이 는 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 에 한정 되 는 것 은 아니 며 , 다 이 샷 을 적용 하 는 모든 패턴 에 적용 가능 하 다 . 또한 , 본 노광 마스크 는 KrF , ArF , F 2 및 E - Beam 으로 노광 공정 을 수행 하 는 것 에 관한 것 이 나 , 이 는 상술 한 노광 광원 에 한정 되 는 것 은 아니 다 . 그리고 상술 한 바 와 같 은 본 발명 은 바람직 한 실시 예 에 따라 기술 되 어 있 으나 , 상기 한 실시 예 는 그 설명 을 위한 것 이 며 제한 하 기 위한 것 이 아님 을 주의 하 여야 한다 .