제어 장치 ( 7 ) 에 의해 제 1 및 제 2 조명계 ( IL 1 , IL 2 ) 를 제어 하 고 , Y 축 방향 의 다른 위치 에 규정 된 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 과 의 각각 에 노광 광 ( EL ) 을 조사 한다 ( S 2 ) . 이 조사 와 함께 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 이 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 대해서 상대 이동 되 도록 기판 스테이지 ( 4 ) 를 제어 해 기판 ( P ) 을 Y 축 방향 으로 이동 한다 ( S 3 ) . 이 기판 의 이동 에 의해서 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 으로 형성 되 는 제 1 패턴 의 상과 , 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 으로 형성 되 는 제 2 패턴 의 상 으로 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 ( 이중 노광 ) 한다 ( S 3 ) . 즉 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 조사 된 노광 광 ( EL ) 으로 노광 된 기판 ( P ) 의 감광층 을 , 현상 공정 등 을 통하 지 않 고 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 조사 된 노광 광 ( EL ) 으로 재차 노광 ( 이중 노광 ) 한다 .