또한 , 도 4 c 와 같이 광 의 성분 을 조절 필터 로 광 의 성분 에 따라 투영 되 는 영역 을 미세 한 단위 로 조절 할 수 있 으므로 , 120 nm CD 를 가진 포토 마스크 를 이용 해 패턴 을 형성 하 는 경우 , 포비 든 피치 영역 를 억제 하 여 웨이퍼 상 에 형성 되 는 패턴 의 CD 균 일도 를 향상 시킬 수 있 다 . 또한 , ID 바이어스 를 조절 하 고 MEEF 현상 을 억제 시 켜 노광 공정 마진 을 향상 시킬 수 있 다 .