상기 와 같이 본 발명 은 비대칭 광로 를 가지 는 서브 주사 광학계 의 선형 성 과 결상 위치 어긋남 이 소정 범위 의 편차 를 가지 도록 하 여 비대칭 광 주사 장치 에 유용 하 게 적용 할 수 있 다 . 예 를 들 어 본 발명 은 전사 드럼 의 곡면 에 복수 개 의 피 주사 면 이 배치 될 때 편 향기 의 반사면 을 공통 으로 사용 하 는 비대칭 서브 주사 광학계 에 유용 하 다 .