이 에 , 최근 에 는 편광판 중 일부 영역 에 만 레이저 를 조사 함 으로써 편광 해소 영역 을 형성 하 는 방법 이 고려 되 고 있 다 . 레이저 로 는 펄스 폭 에 따라 밀리 초 , 나노 초 , 피코 초 또는 펨토 초 레이저 를 이용 할 수 있 다 . 특히 펨토 초 레이저 는 밀리 초 , 나노 초 , 피코 초 에 비하 여 펄스 폭 이 적 어 레이저 조사 시 편광자 의 외관 변형 등 을 줄일 수 있 다 . 한편 , 본원 발명 발명자 는 기존 의 펨토 초 레이저 로 편광 해소 영역 을 형성 하 더라도 편광판 을 고온 고습 에서 장기간 방치 할 경우 높 아 졌 던 단체 투과율 및 낮 아 졌 던 편 광도 가 다시 레이저 조사 전 상태 로 원복 됨 을 확인 하 였 다 . 이 를 막 기 위하 여 배리어 층 및 / 또는 배리어 필름 을 구비 하 면 되 지만 , 이것 은 제조 공정 성 , 경제 성 이 좋 지 않 다 . 최근 편광자 의 일면 에 만 보호 필름 을 형성 하 고 다른 일면 에 는 배리어 층 을 부가 한 편광판 이 개발 되 고 있 으나 , 상술 원복 을 해소 할 수 있 을 지 여부 는 분명 하 지 않 다 . 한편 , 최근 파장 500 nm 영역 에서 의 펨토 초 레이저 를 조사 함 으로써 투과 영역 을 형성 하 는 방법 이 개발 되 었 으나 상술 한 원복 문제 를 해결 할 수 없 었 다 .