편심 벡터 Pv ' 가 결정 된 후 , 도 24 에 도시 하 는 바 와 같이 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 제 1 기판 보유 지지 면 ( 10 a ) 이 참조 웨이퍼 RW 의 하면 의 중심 측 영역 에 접촉 할 때 까지 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 가 상승 한다 . 이 상태 에서 , 제 1 진공 라인 ( 15 ) 에 진공 을 형성 하 고 , 이 에 따라 참조 웨이퍼 RW 의 하면 의 중심 측 영역 이 센터 링 스테이지 ( 10 ) 에 진공 흡인 에 의해 보유 지지 된다 . 그 후 , 제 2 진공 라인 ( 25 ) 이 대기 로 개방 되 고 , 참조 웨이퍼 RW 는 프로세스 스테이지 ( 20 ) 로부터 해방 된다 . 이 에 의해 , 참조 웨이퍼 RW 가 센터 링 스테이지 ( 10 ) 로부터 프로세스 스테이지 ( 20 ) 로 전달 된다 ( 도 21 의 스텝 5 참조 ) . 참조 웨이퍼 RW 가 프로세스 스테이지 ( 20 ) 로부터 센터 링 스테이지 ( 10 ) 로 넘겨진 후 , 참조 웨이퍼 RW 가 상술 한 편심 검지 위치 에 도달 할 때 까지 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 가 참조 웨이퍼 RW 와 함께 상승 한다 .