수렴 적 합성 에 유용 한 화학식 의 제 1 주요 중간체 를 제조 하 기 위한 예시 적 절차 는 도 1 에 도시 되 어 있 다 . 도 1 에서 , 제 1 주요 중간체 는 화학식 ( a 5 ) 이 다 . 화학식 ( a 5 ) 의 제 1 주요 중간체 의 제조 는 페놀 ( a 1 ) 과 이 탈기 LG ( 여기 서 LG 는 예 를 들 어 Br 또는 I 임 ) 의 공급원 의 친전 자성 방향 족 치환 반응 으로 출발 하 여 관능 화 된 페놀 ( a 2 ) 을 제공 한다 . 도 1 에서 사용 된 특정 의 R 4 에 따라 , 페놀 ( a 1 ) 은 시판 공급 처 로부터 입수 가능 하 거나 당업자 에 의해 용이 하 게 제조 될 수 있 다 . 이 탈기 LG - Y 의 공급원 은 , 예 를 들 어 , Br 2 , N - 브로모 숙신 이미드 ( NBS ) , 또는 I 2 일 수 있 다 . 목적 하 는 경우 Br 2 및 I 2 는 특정 제조 에서 후술 된 절차 에 의해 그 와 같이 동일 반응계 내 에서 제조 될 수 있 다 . 그 다음 , 관능 화 된 페놀 ( a 2 ) 의 산소 는 히드록실 보호기 , PG , 예 를 들 어 메 톡 시 메틸 또는 테트라 히 드로 피란 - 2 - 일 메틸 등 으로 보호 되 어 보호 된 페놀 ( a 3 ) 을 형성 하 도록 할 수 있 고 , 이 는 또한 이 탈기 LG 를 갖 는다 . 보호 된 페놀 ( a 3 ) 은 아릴 커플링 반응 을 통해 R 5 의 공급원 ( 예 를 들 어 , ( C 1 - C 40 ) 히 드로 카르빌 또는 ( C 1 - C 40 ) 헤테로 히 드로 카르빌 의 공급원 ) , 예 를 들 어 , R 5 - H ( a 4 ) 등 과 커플링 되 어 제 1 주요 중간체 ( a 5 ) 를 제조 하 도록 할 수 있 다 . 이러 한 아릴 커플링 반응 은 다양 한 유형 의 R 5 의 공급원 에 관해 공지 되 어 있 고 구리 - 매개 된 질소 아릴 화 반응 ( 여기 서 R 5 - H ( a 4 ) 중 H 는 R 5 의 질소 원자 , 특히 헤테로 아릴기 의 질소 원자 에 결합 됨 ) ; 및 팔라듐 - 매개 된 아릴 화 반응 ( 여기 서 R 5 - H ( a 4 ) 중 H 는 R 5 의 방향 족 , 알케 닐 , 또는 알키 닐 탄소 원자 에 결합 됨 ) 을 포함 한다 . 도 1 에 기재 된 반응 은 바람직 하 게 는 , 무수 비 프로톤 성 용매 , 예 를 들 어 , 디 에틸 에테르 , 톨루엔 , 크실렌 , 테트라 히 드로 푸란 , 디 에틸렌 글리콜 디 메틸 에테르 , 또는 그 의 조합 등 중 에서 및 약 - 78 ℃ 내지 약 200 ℃ 범위 의 온도 에서 실질 적 으로 불활성 기체 분위기 하 에 수행 된다 . 바람직 하 게 는 , 반응 은 대기압 에서 수행 된다 .