한편 , 레이저 빔 의 광 경로 상 에 위치 한 광학 요소 인 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 형상 에 오류 가 있 을 경우 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 상 에 조사 되 는 레이저 빔 의 궤적 을 개략 적 으로 도시 하 는 개념 도인 도 6 에 도시 된 것 과 같이 , 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 제 1 반사면 ( 31 ) 에서 반사 된 레이저 빔 이 조사 되 는 영역 ( 1 ) 과 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 제 2 반사면 ( 32 ) 에서 반사 된 레이저 빔 이 조사 되 는 영역 ( 2 ) 이 상호 평행 하 지 않 을 수 도 있 다 . 이 경우 에 는 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 제 2 반사면 ( 32 ) 에 레이저 빔 이 입사 하 는 동안 , 제 1 커셀 ( 21 ) 에 인가 되 는 전위차 가 특정 한 값 으로 일정 하 게 유지 되 는 것 이 아니 라 적절 하 게 가변 하 도록 함 으로써 , 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 제 2 반사면 ( 32 ) 에서 반사 된 레이저 빔 이 조사 되 는 영역 ( 2 ) 의 형태 를 변형 시켜 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 제 1 반사면 ( 31 ) 에서 반사 된 레이저 빔 이 조사 되 는 영역 ( 1 ) 과 평행 하 게 되 도록 할 수 있 다 .