여기 서 , 상기 질산 이 포함 되 지 않 거나 3 중량 % 미만 으로 포함 될 경우 , 식각 이 안 되 거나 충분 한 식각 속도 가 발휘 되 지 않 으며 , 또한 10 중량 % 초과 될 경우 포토레지스트 의 과도 한 리프팅 현상 에 의해서 필링 오프 ( peeling off ) 현상 이 발생 하 게 된다 . 또한 , 후속 공정 에 의한 금속 막 의 단락 및 과도 한 식각 에 의한 금속 막 의 면적 이 감소 되 어 전극 으로써 역할 수행 이 어렵 게 될 수 있 다 .