본 발명 의 실시 예 에 따르 면 , 기판 을 지지 하 는 기판 지지 유닛 과 ; 상기 기판 지지 유닛 에 의하 여 지지 된 상기 기판 으로 처리 액 을 토출 하 는 액 토출 유닛 과 ; 상기 액 토출 유닛 으로 상기 처리 액 을 공급 하 는 적어도 하나 이상 의 액 공급 유닛 을 포함 하 고 , 상기 액 공급 유닛 은 , 밀폐 된 액 저장실 을 제공 하 는 액 공급 탱크 와 ; 상기 액 저장실 에 기체 를 도입 하 여 상기 액 저장실 에 저장 된 처리 액 을 가압 하 는 기체 도입 배관 과 ; 상기 기체 도입 배관 으로부터 의 기체 에 의하 여 가압 된 상기 처리 액 을 액 토출 유닛 으로 공급 하 는 액 공급 배관 과 ; 상기 액 저장실 에 저장 된 상기 처리 액 내 로 기체 를 주입 하 여 상기 액 저장실 에 저장 된 상기 처리 액 을 교반 하 는 기체 주입 배관 을 포함 하 는 , 기판 처리 장치 가 제공 될 수 있 다 .