포토 마스크 상부 에 전도 성 을 갖 는 투명 전도성 층 을 형성 시킴 으로써 크롬 패턴 사이 에 정전기 전하 가 이동 할 수 있 는 통로 가 형성 되 어 접촉 식 포토 리소그래피 공정 의 밀착 , 탈 착시 발생 하 는 정전기 에 의한 크롬 패턴 손상 을 방지 할 수 있 는 효과 를 제공 할 수 있 다 . 또한 , 가시 광 영역 에 대한 준수 한 투과율 을 갖 는 전도성 물질 을 이용 하 고 광학 설계 를 통해 최적 의 두께 를 구현 함 으로써 , 접촉 식 포토 리소그래피 의 노광 에너지 손실 을 최소 화 할 수 있 는 효과 를 제공 할 수 있 다 .