배 치식 기판 처리 장치 는 공정 챔버 , 공정 챔버 내부 에 상호 평행 하 게 배치 되 며 , 복수 의 기판 들 의 이면 들 과 각각 접촉 하 여 기판 들 을 각각 지지 하 며 , 복수 의 관통 홀 들 이 각각 형성 된 복수 의 척 들 및 복수 의 관통 홀 들 을 각각 관통 하 며 , 척 들 에 의하 여 지지 되 는 기판 들 의 각각 을 상하 로 이동 키는 복수 의 서포터 들 을 포함 한다 . 따라서 , 배 치식 기판 처리 장치 가 복수 의 기판 을 동시 에 처리 할 수 있 다 .