상기 목적 은 , 본 발명 에 따라 , 프로세스 챔버 내 에 기판 처리 공간 을 형성 하 는 기판 처 리부 ; 와 , 상기 기판 처리 공간 과 연통 하 는 플라 즈 마 생 성 공간 을 형성 하 는 플라 즈 마 생 성부 ; 와 , 상기 기판 처리 공간 에 배치 되 어 이온 을 중화 하 는 뉴트럴 라이저 ; 와 , 상기 뉴트럴 라이저 에 RF 전원 을 인가 할 수 있 도록 RF 전원 라인 을 통해 상기 뉴트럴 라이저 와 연결 되 는 RF 전원 부 ; 와 , 상기 프로세스 챔버 에 설치 되 어 상기 RF 전원 라인 을 통과 시키 는 피드 스루 유닛 ; 및 상기 프로세스 챔버 의 외부 에서 상기 피드 스루 유닛 과 별도 로 배치 되 고 , 상기 뉴트럴 라이저 에 DC 전원 을 인가 할 수 있 도록 DC 전원 라인 을 통해 상기 뉴트럴 라이저 와 연결 되 는 DC 전원 부 ; 를 포함 하 는 플 라즈 마 소스 에 의해 달성 된다 .