리소그래피 투영 장치 에서 , 소스 는 패 터닝 디바이스 에 조명 ( 즉 , 방사선 ) 을 제공 하 고 , 투영 광학 기 는 패 터닝 디바이스 를 통해 기판 상 으로 상기 조명 을 지향 하 고 성형 한다 . 투영 광학 기 는 구성 요소 들 ( 14 A , 16 Aa , 16 Ab 및 16 Ac ) 중 적어도 일부 를 포함 할 수 있 다 . 에어리얼 이미지 ( AI ) 는 기판 레벨 에서 의 방사선 세기 분포 이 다 . 기판 상 의 레지스 트 층 이 노광 되 고 , " 그 안 에 잠재 적 인 "" 레지스 트 이미지 ""( RI ) 로서 에어리얼 이미지 가 레지스 트 층 으로 전사 된다 . 레지스 트 이미지 ( RI ) 는 레지스 트 층 에서 레지스 트 의 가용성 의 공간 분포 로서 정의 될 수 있 다 . 에어리얼 이미지 로부터 레지스 트 이미지 를 계산 하 기 위해 레지스 트 모델 이 사용 될 수 있 으며 ", 이 예시 는 본 명세서 에서 그 전문 이 인용 참조 되 는 미국 특허 출원 공개 공보 US 2009 - 0157360 호 에서 찾아볼 수 있 다 . 레지스 트 모델 은 레지스 트 층 의 속성 들 ( 예 를 들 어 , 노광 , 노광 후 베 이크 및 현상 시 일어나 는 화학 공정 들 의 효과 들 ) 에 만 관련 된다 . 리소그래피 투영 장치 의 광학 적 속성 들 ( 예 를 들 어 , 소스 , 패 터닝 디바이스 및 투영 광 학기 의 속성 들 ) 은 에어리얼 이미지 를 좌우 한다 . 리소그래피 장치 에서 사용 되 는 패 터닝 디바이스 는 바뀔 수 있 기 때문 에 , 패 터닝 디바이스 의 속성 들 을 , 예 를 들 어 적어도 소스 및 투영 광 학기 를 포함 한 리소그래피 장치 의 나머지 의 속성 들 과 분리 하 는 것 이 바람직 할 수 있 다 .