그리고 , 화상 형성 공정 을 수행 하 여 포토 레지스 트 ( 450 a , 450 b ) 에 비 아홀 ( 420 ) 에 대응 되 는 부분 을 제거 하 여 비 아홀 ( 420 ) 의 홀 내벽 을 노출 시키 며 , 이때 의 동박 적 층판 ( 410 ) 의 평면도 가 도 4 k 에 도시 되 어 있 으며 , 배면도 가 도 4 l 에 도시 되 어 있 다 . 도 4 k 를 보 면 비 아홀 ( 420 ) 의 내벽 만 이 노출 되 어 있 음 을 알 수 있 으며 , 도 4 l 를 보 면 동박 적 층판 ( 410 ) 의 비 아홀 ( 420 ) 의 내벽 만 이 노출 되 어 있 음 을 알 수 있 다 .