상기 소오 스 및 드레 인 전도체 층 을 형성 하 는 단계 는 , 상기 마스크 패턴 을 덮 는 전도체 층 을 증착 하 는 단계 ; 상기 마스크 패턴 을 연마 정지 층 을 사용 하 여 상기 전도체 층 을 화학 기계 적 연마 하 는 단계 ; 및 상기 소자 분리 절연 층 의 상측 표면 이 노출 되 게 상기 전도체 층 을 식각 하 여 리세 스 ( recess ) 시키 는 단계 를 포함 할 수 있 다 .