하나 의 예시 적 실시 형태 에 있 어서 , 플라 즈 마 처리 장치 는 , 바이어스 전원 을 더 구비 한다 . 바이어스 전원 은 , 기판 에 대한 플 라즈 마 처리 를 위하 여 챔버 내 에 있 어서 플 라즈 마가 생성 되 고 있 을 때 에 , 하부 전극 에 바이어스 를 공급 하 도록 구성 되 어 있 다 . 바이어스 는 , 고주파 바이어스 전력 또는 하부 전극 에 주기 적 으로 인가 되 는 펄스 상 의 음극 성 의 전압 이 다 . 도전 성 부재 는 , 기판 을 둘러싸 도록 연재 되 는 에지 링 이 다 . 전원 장치 는 , 기판 의 전위 가 0 이상 인 기간 에 있 어서 에지 링 에 양극 성 의 전압 을 인가 하 여 , 그 기간 에 있 어서 에지 링 의 전위 를 기판 의 전위 보다 높 은 전위 로 설정 하 도록 구성 되 어 있 다 .