본 발명 은 또한 , 상기 에서 기술 되 는 바 와 같 은 본 발명 에 따른 컴퓨터 프로그램 과 조합 하 여 , 타 겟 구 조체 상 에 방사선 의 빔 을 제공 하 도록 그리고 타 겟 에 의해 회절 되 는 방사선 을 검출 하 여 패턴 화 프로세스 의 파라미터 를 결정 하 도록 구성 되 는 검사 장치 를 포함 하 는 시스템 을 제공 한다 . 시스템 은 , 방사선 빔 을 변조 하 기 위해 패턴 화 디바이스 를 유지 하 도록 구성 되 는 지지 구조 체 및 변조 된 방사선 빔 을 방사선 감응 기판 상 으로 투영 하 도록 배열 되 는 투영 광학 시스템 을 포함 하 는 리소그래피 장치 를 더 포함 할 수 도 있 다 .