이것 에 의해 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 과 의 위치 관계 는 항상 원 하 는 상태 로 조정 되 며 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 의 상 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 의 상 을 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 내 의 원 하 는 위치 에 형성 할 수 있 다 .