제 2 플 라즈 마는 제 2 RF 전력 을 펄스 파 ( pulsed wave ) 로 공정 챔버 ( 40 ) 내 에 인가 하 여 형성 될 수 있 다 . 제 2 RF 전력 을 펄스 파로 인가 하 는 경우 연속파 로 인가 하 는 경우 에 비해서 증착 속도 는 감소 하나 , 수소 함유량 을 줄일 수 있 고 , 모서리 도포 성 ( step coverage ) 을 향상 시킬 수 있 다 . 이 에 따라 , 패턴 의 코너 부 에서 발생 되 는 벙커 결함 ( bunker defect ) 에 의한 문제 발생 이 감소 될 수 있 다 .