상기 기판 처 리부 ( 10 ) 는 기판 처리 공간 ( 12 ) 을 둘러싸 는 프로세스 챔버 ( 11 ) 와 , 상기 프로세스 챔버 ( 11 ) 의 내부 에 배치 되 어 기판 을 고정 하 는 기판 홀더 ( 13 ) 와 , 상기 프로세스 챔버 ( 11 ) 내부 를 공정 진행 에 적합 한 소정 의 진공 상태 로 유지 시키 는 동시 에 공정 의 진행 과정 에서 발생 하 는 반응 부산물 등 을 외부 로 배기 하 는 진공 펌프 ( 14 ) 를 포함 한다 .