그 밖 에 , 페놀 노볼락 형 에폭시 화합물 , 비페닐 노볼락 형 에폭시 화합물 , 크레졸 노볼락 형 에폭시 화합물 , 비스 페놀 A 노볼락 형 에폭시 화합물 , 디시 클로 펜 타 디 엔 노볼락 형 에폭시 화합물 등 의 노볼락 형 에폭시 화합물 ; 3 , 4 - 에폭시 - 6 - 메틸 시클 로 헥 실 메틸 - 3 , 4 - 에폭시 - 6 - 메틸 시클로헥산 카르복실 레이트 , 3 , 4 - 에폭시 시클 로 헥 실 메틸 - 3 , 4 - 에폭시 시클로헥산 카르복실 레이트 , 1 - 에폭시 에틸 - 3 , 4 - 에폭시 시클로헥산 등 의 지환 식 에폭시 화합물 ; 프탈 산디 글 리시 딜 에스테르 , 테트라 하이드로 프탈 산디 글 리시 딜 에스테르 , 다 이 머 산 글 리시 딜 에스테르 등 의 글 리시 딜 에스테르 류 ; 테트라 글 리시 딜 디 아미노 디페닐메탄 , 트리 글 리시 딜 P - 아미노페놀 , N , N - 디 글 리시 딜 아닐린 등 의 글 리시 딜 아민류 ; 1 , 3 - 디 글 리시 딜 - 5 , 5 - 디 메틸 히단토인 , 트리 글 리시 딜 이 소시 아누 레이트 등 의 복소 환식 에폭시 화합물 ; 디시 클로 펜 타 디 엔디 옥사이드 등 의 디 옥사이드 화합물 ; 나프탈렌 형 에폭시 화합물 ; 트리 페닐 메탄 형 에폭시 화합물 ; 디시 클로 펜 타 디 엔 형 에폭시 화합물 등 을 사용 할 수 도 있 다 .