상기 메가 소닉 에너지 가 상기 질소 가 용해 된 세정 용액 에 제공 되 면 메가 소닉 에 의해 제공 된 파동 에 의해 세정 용액 내부 에 존재 하 는 탈 이 온수 의 기포 를 파열 시키 고 , 상기 파열 압력 및 온도 에 의해 물리 적 으로 반도체 기판 상 에 잔류 하 는 폴리머 및 식각 부산물 로 이루어진 제 1 및 제 2 불순물 을 제거 하 게 된다 .