이 후 , 제 2 도금 단계 에서 는 안정 화 된 Ni - Co 박막 의 두께 를 증가 시키 기 위해 제 1 도금 단계 에서 의 도금 용액 과 같 은 조건 에서 40 분 간 다양 한 constant current 조건 ( - 30 mA , - 50 mA , - 100 mA , 및 - 200 mA ) 으로 도금 을 진행 하 였 다 . 이때 도금 욕 의 온도 는 금속 이온 의 활성 을 높여 자성 박막 의 두께 를 증가 시키 기 위해 40 ℃ 로 유지 하 였 고 다양 한 constant current 조건 에 따른 자성 박막 을 수득 하 였으며 , 두께 변화 및 자성 특성 변화 를 확인 하 는 실험 을 실시 하 였 다 .