" 본 실시 형태 들 중 어떤 것 은 시스템 아키 텍 쳐 에 "" 초점 깊이 분석 모듈 "" ( 115 a ", 115 b ) 의 추가 를 고려 한다 . 몇몇 실시 형태 들 에서 , 모듈 은 전용 프로세서 ( 115 a ) , 또는 범용 프로세서 에 위치 된 프로세서 의 일 부분 의 형태 를 취할 수 도 있 다 . 몇몇 실시 형태 들 에서 , 모듈 은 메모리 ( 103 ) 와 같 은 컴퓨터 판독 가능 매체 에 저장 된 소프트웨어 코드 ( 115 b ) 를 포함 할 수 도 있 다 . 몇몇 실시 형태 들 은 모듈 의 부분 들 을 전용 프로세서 ( 115 a ) 및 메모리 ( 115 b ) 에 펌웨어 또는 소프트웨어 - 하드웨어 조합 으로서 배치 할 수 도 있 다 . 몇몇 실시 형태 들 에서 , 모듈 은 SIFT 피쳐 생성 시스템 과 같 은 피쳐 생성 시스템 에 , 그리고 센서 ( 101 a 및 101 b ) 에 의 액세스 를 허용 하 는 도 2 에서 의 임의 의 위치 에 상주 할 수 도 있 다 . 따라서 , 모듈 은 피쳐 생 성 및 / 또는 검출 을 위해 구성 된 이전 부터 존재 하 는 하드웨어 또는 소프트웨어 를 이용 할 수 도 있 다 . 당업자 는 후술 되 는 실시 형태 들 은 범용 프로세서 ( 113 ) 상 에 서브 프로세서 를 사용 하 여 구현 될 수 있 거나 , 또는 메모리 ( 103 ) 에 분리 된 애플리케이션 으로서 저장 될 수 있 음 을 인식 할 것 이 다 . 몇몇 실시 형태 들 에서 , SIFT 피쳐 생성 시스템 이 소프트웨어 에 있 을 수 도 있 는 반면 에 , 다른 실시 형태 들 에서 는 SIFT 피쳐 생성 시스템 이 하드웨어 에 있 을 수 도 있 다 .