STI CMP 용 슬러리 를 제조 하 기 위한 종래 기술 로 히타 찌 의 미국 특허 공보 제 6 , 221 , 118 호 및 미국 특허 공보 제 6 , 343 , 976 호 에 는 세리아 입자 의 합성 방법 과 이 를 이용 한 고 선택 비 슬러리 제조 방법 이 제시 되 어 있 다 . 여기 에서 는 STI CMP 용 슬러리 특성 에서 요구 되 는 입자 의 특성 과 고분자 를 포함 한 첨가제 의 종류 , 또한 이 들 을 이용 한 제조 방법 및 공정 에 관하 여 매우 까다롭 고 광범위 한 영역 에 걸쳐 설명 되 어 있 다 . 특히 평균 결정립 크기 ( average grain size ) , 평균 1 차 입자 ( average primary particle ) 및 평균 2 차 입자 ( average secondary particle ) 의 크기 에 대하 여 광범위 한 범위 를 제시 하 고 있 다 . 또 다른 종래 의 기술 로 는 히타 찌 의 미국 특허 공보 제 6 , 420 , 269 호 등 에 기재 된 다양 한 세리아 입자 의 합성 방법 및 이 를 이용 한 고 선택 비 슬러리 제조 방법 이 있 다 .