도 4 에 도시 된 용액 은 , 반응 구역 의 유동 화 층 으로 공급 되 는 가능 하 게 는 균일 한 중질 의 입자 및 조 립자 ( the coarse ) 가 반응기 안 으로 공급 되 는 용액 과 반응 하 는 경우 에 더 미세 하 고 더 경질 ( light ) 로 연마 될 수 있 도록 준비 된다 . 본 발명 에 따른 구성 에 의한다고 하 여도 , 반응기 로부터 의 용액 의 유동 과 함께 과 - 미립 고형물 ( 대체로 400 메시 또는 37 ㎛ 이하 ) 이 상승 되 는 것 을 완전히 방지 할 수 는 없 다 . 이 경우 에 , 배 출물 내 에 소량 의 고형물 이 수용 되 어야 할 필요 가 있 다 . 이 는 , 편평 한 유동 방지 판 이 , 배출 유닛 ( 23 ) 에 부착 되 는 경우 에 깔대 기 형상 을 이루 는 원뿔형 판 ( 27 ) 으로 대체 된다는 것 을 의미 한다 . 필요시 , 배출 유닛 의 경사 는 바뀔 수 도 있 다 .