제한 애퍼처 부재 ( 206 ) 는 , 복수 의 블 랭 커 에 의하 여 빔 오프 의 상태 가 되 도록 편향 된 각 빔 을 차폐 한다 . 그리고 , 빔 온 이 되 고 나 서 빔 오프 가 될 때 까지 형성 된 , 제한 애퍼처 부재 ( 206 ) 를 통과 한 빔 에 의하 여 1 회 분 의 샷 의 멀티 빔 이 형성 된다 . 제한 애퍼처 부재 ( 206 ) 를 통과 한 멀티 빔 은 , 대물 렌즈 ( 207 ) 에 의하 여 초점 이 맞추 어 져 , 원 하 는 축소율 의 패턴 상 이 되 고 , 편 향기 ( 208 ) 에 의하 여 , 제한 애퍼처 부재 ( 206 ) 를 통과 한 각 빔 ( 멀티 빔 전체 ) 이 동일 방향 으로 한꺼번에 편향 되 어 , 기판 ( 101 ) 상 의 원 하 는 위치 에 조사 된다 . 빔 온 의 상태 에 있 는 멀티 빔 의 적어도 일부 가 기판 ( 101 ) 에 조사 되 어 , 패턴 이 묘화 된다 .