본 발명 의 다른 일면 은 플 라즈 마 처리 장치 에 관한 것 이 다 . 본 발명 의 플 라즈 마 처리 장치 는 : 내부 에 기판 이 놓이 는 서 셉 터 가 마련 되 고 , 상부 면 에 적어도 두 개 의 홀 이 형성 된 프로세스 챔버 ; 프로세스 챔버 상부 의 두 개 의 홀 에 연결 되 는 양단 이 외부 방전관 ; 제 1 주파수 를 갖 는 제 1 전원 공급원 ; 제 2 주파수 를 갖 는 제 2 전원 공급원 ; 서 셉 터로 바이어스 전원 을 공급 하 기 위한 제 3 전원 공급원 ; 외부 방전관 에 장착 되 는 페라이트 코어 ; 페라이트 코어 에 권선 되 고 제 1 전원 공급원 에 연결 되 는 제 1 유도 코일 ; 및 페라이트 코어 에 권선 되 고 제 2 전원 공급원 에 연결 되 는 제 2 유도 코일 을 포함 하 여 , 제 1 주파수 에 의해 제 1 유도 코일 로부터 발생 되 는 제 1 유도 기전력 과 제 2 주파수 에 의해 제 2 유도 코일 로부터 발생 되 는 제 2 유도 기전력 에 의해 외부 방전관 과 프로세스 챔버 로 플 라즈 마가 발생 된다 .