도 1 내지 도 3 은 일반 적 인 기판 건조 장치 를 개략 적 으로 보여 주 는 도면 들 이 다 . 도 1 을 참조 하 면 , 건조장 치 는 배스 ( 3 ) 내 하부 에 이소프로필 원액 ( 9 ) 을 채우 고 , 배스 ( 3 ) 하부 에 위치 하 는 히터 ( 11 ) 를 이용 하 여 이소프로필 알코올 의 끊 는 점 ( 82 . 4 ℃) 까지 가열 하 여 생성 되 는 이소프로필 알코올 증기 를 배스 ( 3 ) 내 의 기판 ( W ) 에 공급 함 으로써 반도체 기판 ( W ) 을 건조 한다 .