한편 , 질소 와 산소 의 합계 함유율 은 10 내지 23 원자 ％ 로 하 고 , 특히 10 내지 15 원자 ％ 인 것 이 바람직 하 다 . 질소 와 산소 의 합계 함유율 을 상기 범위 내 로 함 으로써 , 막 의 도전 성 과 화학 적 안정 성 을 양립 시킬 수 있 다 . 상술 한 바 와 같이 , 차광막 으로서 필요 한 높 은 흡수 계수 를 얻 기 위해서 는 , 경 원소 의 함유량 이 가능 한 한 적 은 것 이 바람직 한데 , 드라이 에칭 시 에 바람직 한 가공 형상 을 얻 기 위해서 는 , 중간층 의 질소 와 산소 의 합계 함유율 을 상기 범위 내 로 함 으로써 , 기판 측 조성 경사 층 및 후술 하 는 표면 측 조성 경사 층 사이 에 , 차광막 전체 의 막 두께 , 반사 제어 성능 및 가공 성능 의 측면 에서 균형 잡힌 차광막 으로 할 수 있 다 . 또한 , 상술 한 바 와 같이 , 후술 하 는 크롬 계 재료 로 형성 된 하드 마스크 막 과 조합 하 여 이용 할 때 에 는 , 질소 가 3 원자 ％ 이상 포함 되 는 것 이 바람직 하 고 , 5 원자 ％ 이상 포함 되 는 것 이 보다 바람직 하 다 .