장치 ( 400 ) 의 동작 동안 , H 2 - 함유 가스 와 같 은 하나 이상 의 프로세스 가스 들 은 가스 플로우 유입 구들 ( 460 및 / 또는 470 ) 를 통해 공급 될 수 도 있 다 . 특정 한 실시 예 들 에서 , 프로세스 가스 들 은 주 가스 플로우 유입 구 ( 460 ) 를 통해서 만 , 또는 측면 가스 플로우 유입 구 ( 470 ) 를 통해서 만 공급 될 수 도 있 다 . 일부 경우 들 에서 , 도면 에 도시 된 가스 플로우 유입 구들 은 보다 복잡 한 가스 플로우 유입 구들 , 예 를 들 어 하나 이상 의 샤워 헤드 들 로 대체 될 수 도 있 다 . Faraday 차 폐부 ( 449 a ) 및 / 또는 선택 가능 한 그리드 ( 450 ) 는 프로세스 챔버 ( 424 ) 로 의 프로세스 가스 들 의 전달 을 허용 하 는 내부 채널 들 및 홀 들 을 포함 할 수 도 있 다 . Faraday 차 폐부 ( 449 a ) 및 선택 가능 한 그리드 ( 450 ) 중 하나 또는 모두 는 프로세스 가스 들 의 전달 을 위한 샤워 헤드 로서 역할 을 할 수 도 있 다 . 일부 실시 예 들 에서 , 일단 액체 반응 물질 또는 전 구체 가 기화 되 면 , 기화 된 반응 물질 또는 전 구체 는 가스 플로우 유입 구 ( 460 및 / 또는 470 ) 를 통해 프로세스 챔버 ( 424 ) 내 로 도입 되 도록 , 액체 기화 및 전달 시스템 이 프로세스 챔버 ( 424 ) 의 업 스트림 에 위치 될 수 도 있 다 .