이때 , 플라 즈 마 표시 장치 에서 는 방전 셀 내 에 위치 하 는 주사 전극 ( Y ) 과 유지 전극 ( X ) 간 의 간격 이 60 ～ 120 ㎛ 정도 의 작 은 방전 갭 을 형성 한다 . 이러 한 플라 즈 마 표시 장치 는 방전 셀 내 의 방전 공간 의 크기 가 작 기 때문 에 발광 효율 을 향상 시키 는 데 있 어 한계 가 있 다 . 따라서 , 전극 간 의 길이 를 길 게 하 여 장방전 ( 롱 갭 ( long gap ) 방전 ) 을 유도 하 여 방전 효율 을 높이 기 위한 연구 가 활발 하 게 진행 되 고 있 다 . 그 중 하나 로 양 광주 ( positive column ) 방전 특성 을 이용 한 기술 을 들 수 있 다 . 이 기술 은 방전 셀 내 에 위치 하 는 주사 전극 ( Y ) 과 유지 전극 ( X ) 사이 의 간격 이 대략 250 ㎛ 이상 의 큰 방전 갭 을 형성 하 여 양 광주 방전 을 발생 시킨다 . 그러나 주사 전극 ( Y ) 과 유지 전극 ( X ) 사이 의 간격 이 넓 은 구조 에서 는 주파수 가 높 아 지 는 것 에 따라 휘도 포화 현상 이 많이 일어나 기 때문 에 효율 이 감소 한다 . 즉 , 주사 전극 ( Y ) 과 유지 전극 ( X ) 사이 의 간격 이 주사 전극 ( Y ) 과 어드레스 전극 ( A ) 사이 의 간격 보다 넓 은 롱 갭 ( long gap ) 구조 에서 , 일반 적 인 유지 방전 펄스 를 주사 전극 및 유지 전극 에 인가 하 는 경우 저주파 에서 는 효율 이 높 지만 고주파 에서 는 효율 이 감소 하 는 문제점 이 있 다 .