제 2 실시 형태 에 나타내 는 로봇 ( 6 ) 은 로봇 ( 6 ) 에 의해 웨이퍼 ( 9 ) 가 얼라 이너 ( 7 ) 의 턴테이블 ( 71 ) 에 재치 되 면 , 로봇 ( 6 ) 은 대기 하 고 있 는 것 이 아니 라 , 다른 일 을 하 고 있 도록 설정 되 어 있 고 , 그 사이 에 , 얼라 이너 ( 7 ) 는 웨이퍼 ( 9 ) 의 위치 맞춤 을 행하 도록 하 고 있 다 . 이 때문 에 , 얼라 이너 ( 7 ) 의 위치 맞춤 정밀도 는 처리 량 ( throughput ) 향상 의 면 에서 중요 한 팩터 가 되 고 있 다 . 구체 적 으로 는 , 얼라 이너 ( 7 ) 에 는 불과 3 초 의 위치 결정 시간 에 있 어서 , 0 . 02 도 ( 度 ) 의 위치 맞춤 정밀도 가 요구 되 고 있 다 . 이 위치 결정 요구 시간 ( 3 초 ) 내 에 , 웨이퍼 ( 9 ) 의 위치 결정 을 완료 시키 기 위해서 , 얼라 이너 ( 7 ) 는 웨이퍼 ( 9 ) 를 100 ( rpm ) 으로 회전 시킬 필요 가 있 다 . 그러나 통신 주기 4 ( msec ) 의 통신 회선 ( 5 ) 을 이용 한 염가 인 시스템 구성 에서 는 , 최대 오차 가 0 . 02 도 를 초과 해 버린다 . 얼라 이너 ( 7 ) 가 반도체 웨이퍼 ( 9 ) 를 100 ( rpm ) 으로 회전 시켰 을 경우 에 , 최대 오차 를 0 . 02 도 이내 로 억제 하 려면 , 500 ( us ) 의 분해능 으로 센서 입력 을 모니터 하 여 추정 제어 할 필요 가 있 다 .