처리 모듈 ( 14 ) 은 , 액 처리 유닛 ( U 1 ) 및 열처리 유닛 ( U 2 ) 에 의해 , 노광 후 의 레지스 트 막 의 현상 처리 를 행한다 . 액 처리 유닛 ( U 1 ) 은 , 노광 완료 된 웨이퍼 ( W ) 의 표면 상 에 현상액 을 도포 한다 . 또한 , 액 처리 유닛 ( U 1 ) 은 , 도포 된 현상액 을 린스 액 에 의해 씻 어 낸다 . 열처리 유닛 ( U 2 ) 은 , 현상 처리 에 수반 하 는 각종 열처리 를 행한다 . 열처리 의 구체 예 로서 는 , 현상 처리 전 의 가열 처리 ( PEB : Post Exposure Bake ) , 현상 처리 후 의 가열 처리 ( PB : Post Bake ) 등 을 들 수 있 다 .