도전 조제 로서 2 차원 적 으로 확장 되 는 재료 를 사용 하 는 데 에 , 그 전형 적 ( 典型 的 ) 인 길이 는 100 nm 이상 100 μ m 이하 , 바람직 하 게 는 1 μ m 이상 20 μ m 이하 로 하 면 좋 다 . 특히 , 2 차원 카본 을 사용 하 는 경우 에 는 , 전형 적 인 길이 가 100 nm 이하 인 경우 에 는 반도체 적 인 성질 이 되 어 도전 율 이 저하 한다 . 또한 , 100 nm 이상 에서 는 , 전기 특성 은 양도체 ( 良導體 ) 와 같 은 정도 이 지만 , 도약 전도 ( hopping conduction ; 2 차원 카본 으로부터 다른 2 차원 카본 의 전자 이동 ) 의 횟수 를 저감 시키 기 위하 여 1 μ m 이상 이 바람직 하 다 .