레티 클 ( 20 ) 은 원판 이 다 . 예 를 들 면 , 레티 클 ( 20 ) 은 석영 제 로 이루어져 있 다 . 전사 되 어야 할 패턴 이 레티 클 ( 20 ) 위 에 형성 되 어 있 다 . 레티 클 ( 20 ) 은 레티 클 스테이지 ( 25 ) 에 의해 지 지 되 고 , 레티 클 스테이지 ( 25 ) 에 의해 구동 된다 . 레티 클 ( 20 ) 로부터 의 노광 광은 , 투영 광학계 ( 30 ) 에 의해 웨이퍼 ( 40 ) 상 에 투영 된다 . 레티 클 ( 20 ) 은 웨이퍼 ( 40 ) 와 , 광학 적 으로 공역 의 관계 에 있 는 위치 에 배치 된다 . 노광 장치 ( 1 ) 는 , 스텝 · 앤드 · 스캔 방식 을 이용 이 기 때문 에 , 노광 장치 ( 1 ) 는 레티 클 ( 20 ) 과 웨이퍼 ( 40 ) 를 주사 시키 는 것 으로 , 레티 클 ( 20 ) 상 에 형성 된 패턴 을 웨이퍼 ( 40 ) 상 에 전사 한다 .