당업자 라면 측정 조건 ( 사용 되 는 장비 , 샘플 제제 또는 기계 ) 에 따라 하나 이상 의 측정 오류 를 포함 하 는 X - 선 분말 회절 패턴 을 수득 할 수 있 음 을 안다 . 특히 , 일반 적 으로 X - 선 분말 회절 패턴 의 강도 는 측정 조건 및 샘플 제제 에 따라 변동 될 수 있 는 것 이 알려져 있 다 . 예컨대 , 당업자 라면 상대 적 인 피크 강도 는 예컨대 30 마이크 론 이상 의 과립 및 샘플 의 분석 에 영향 을 줄 수 있 는 불 균일 종횡비 및 30 마이크 론 초과 의 과립 에 의하 여 영향 을 받 을 수 있 음 을 이해 할 것 이 다 . 당업자 라면 반사 위치 는 샘플 이 회절계 에서 위치 하 는 정확 한 높이 및 회절계 의 영점 조정 에 의하 여 영향 을 받 을 수 있 음 을 이해 할 것 이 다 . 샘플 의 표면 평활 성 은 또한 적 은 효과 를 가질 수 있 다 . 따라서 , 당업자 라면 본원 에 나타낸 회절 패턴 데이터 는 절대 적 인 것 으로 해석 되 지 않 음 을 이해 할 것 이 다 ( 추가 의 정보 에 대해서 는 Jenkins , R & Snyder , R . L . ' Introduction to X - Ray Powder Diffractometry ' John Wiley & Sons , 1996 참조 ) . 따라서 , 상기 결정형 은 도 A 내지 D 에 도시 된 X - 선 분말 회절 패턴 과 동일 한 X - 선 분말 회절 패턴 을 제공 하 는 결정 에 한정 되 지 않 으며 도 A 내지 D 에 도시 된 것 과 실질 적 으로 동일 한 X - 선 분말 회절 패턴 을 제공 하 는 임의 의 결정 이 본 발명 범위 내 에 포함 되 는 것 으로 이해 된다 . X - 선 분말 회절 업계 의 당업자 는 X - 선 분말 회절 패턴 의 실질 적 인 정체 를 판단 할 수 있 다 .