한편 , 본 발명 은 , 도 7 에 도시 된 바 와 같이 , 제 2 퓨즈 라 인간 간격 ( D 3 ) 이 종래 의 퓨즈 라인 간격 ( D 1 ) 에 비해 넓 게 유지 된 상태 에서 , 동일 면적 내 에 종래 보다 많 은 수 의 퓨즈 라인 들 을 형성 시킬 수 있 다 . 그러므로 , 본 발명 은 퓨즈 영역 의 면적 을 종래 보다 감소 시켜 , 퓨즈 영역 이외 의 주변 회로 영역 에서 의 공정 마진 을 개선 할 수 있 다 .