상기 표 2 에 나타난 바 와 같이 , 실시 예 1 내지 실시 예 4 에 따라 제작 된 시편 은 열처리 온도 가 800 ℃ 까지 높 아 짐 에 따라 상대 적 인 세기 가 점차 증가 함 을 알 수 있 다 . 이러 한 낮 은 각 ( low angle ) XRD 피크 의 세기 는 서로 다른 두 층 사이 에 존재 하 는 혼합 층 이 두꺼워 질수록 낮 게 나타나 는데 , 위 와 같 은 결과 로부터 TiAlN / BN 다층 박막 은 열처리 에 의해 TiAlN 막 층 과 BN 막 층 사이 의 혼합 층 의 두께 가 얇 아 진 것 임 을 알 수 있 다 . 즉 , 조성 적 샤프 니스 ( shrpness ) 를 얻 게 된 것 이 다 .