본 발명 은 전자 기판 , 예 를 들 어 하드 디스크 매체 기판 , 또는 하드 디스크 매체 의 제작 시 에 사용 되 는 임프 린트 몰드 또는 재생 / 기록 해 드 어셈블리 부품 의 표면 및 / 또는 경사면 으로부터 서브 마이크 론 입자 를 제거 하 기 위한 세정 용액 및 이 를 위한 방법 이 기재 되 어 있 다 . 본 세정 용액 은 폴리 카르복실 레이트 폴리머 또는 에 톡 실화 된 폴리아민 을 포함 한다 . 본 방법 은 기판 의 표면 을 , 폴리 카르복실 레이트 폴리머 또는 에 톡 실화 된 폴리아민 을 포함 하 는 세정 용액 과 접촉 시키 는 단계 를 포함 한다 . 본 방법 에서 추가 적 인 임의 의 단계 는 음향 에너지 를 세정 용액 에 가하 는 단계 및 / 또는 음향 에너지 가 가하 여 지 거나 가하 여 지 지 않 는 린 싱 용액 으로 표면 을 린 싱하 는 단계 를 포함 한다 .