제 1 마스크 ( M 1 ) 는 , 기판 ( P ) 위 에 제 1 패턴 의 상 을 형성 하 기 위한 부재 이 다 . 제 2 마스크 ( M 2 ) 는 , 기판 ( P ) 위 에 제 2 패턴 의 상 을 형성 하 기 위한 부재 이 다 . 제 1 마스크 ( M 1 ) 에 는 , 제 1 패턴 이 형성 되 어 있 다 . 마찬가지 로 제 2 마스크 ( M 2 ) 에 는 , 제 2 패턴 이 형성 되 어 있 다 . 제 1 마스크 ( M 1 ) 및 제 1 마스크 스테이지 ( 6 A ) 는 , 기판 ( P ) 위 의 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 제 1 패턴 의 상 을 형성 하 기 위해서 이용 되 며 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 및 제 2 마스크 스테이지 ( 6 B ) 는 , 기판 ( P ) 위 의 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 제 2 패턴 의 상 을 형성 하 기 위해서 이용 된다 .