이 화소 전극 ( 15 ) 의 형성 공정 에 있 어서 는 각 EL 소자 형성 영역 ( Rel ) 에 형성 되 는 반사 층 ( 15 a ) 이 투명 전극 층 ( 15 b ) 이 되 는 도전 성 산화금 속 층 에 의해 상면 및 측면 이 완전 하 게 피복 되 어 노출 되 지 않 도록 한 상태 에서 해당 도전 성 산화 금속 층 을 에칭 함 으로써 투명 전극 층 ( 15 b ) 의 패 터닝 이 실행 되 므로 , 도전 성 산화 금속 층 ( ITO 등 ) 과 반사 층 ( 15 a ) 사이 의 전지 반응 의 발생 을 방지 할 수 있 는 동시 에 , 반사 층 ( 15 a ) 이 오버 에칭 되 거나 에칭 데미지 를 받 거나 하 는 것 을 방지 할 수 있 다 .