공동 ( 18 ) 의 아래 에 있 는 실리콘 기판 ( 10 ) 의 제 2 주면 상 에 실리콘 기판 ( 10 ) 의 표면 에 수직 인 방향 으로 보강 용 수지 마스크 패턴 ( 31 ) 이 형성 된다 . 이것 은 공동 ( 18 ) 의 아래 에 있 는 실리콘 기판 의 강도 를 제 1 실시 예 에 비하 여 더 증가 시키 고 , 공동 ( 18 ) 의 아래 에 있 는 실리콘 기판 ( 10 ) 이 파괴 되 거나 , 이 영역 의 실리콘 기판 이 구부러져 정상 적 인 이미지 표시 를 불 가능 하 게 하 는 문제 를 방지 할 수 있 다 . 나머지 구성 및 효과 들 은 제 1 실시 예의 구성 및 효과 들 과 동일 하 다 .