본 발명 에 관한 패턴 수정 장치 및 패턴 수정 방법 에서 는 , 띠 모양 의 필름 을 되접 어서 상하 에 배치 하 고 , 필름 을 기판 의 상방 에 공급 하 고 , 필름 중 의 상방 필름 의 일부 를 이 동시 켜 서 하방 필름 의 마스크 패턴 을 노출 시키 고 , 마스크 패턴 을 결함 부 에 소정 의 간극 을 두 고 대치 시키 고 , 마스크 패턴 을 포함 하 는 소정 범위 에서 하방 필름 을 기판 에 가압 함 과 함께 , 마스크 패턴 을 통하 여 결함 부 에 수정 액 을 도포 한다 . 따라서 필름 을 마스크 로 하 여 이용 하 기 때문 에 , 10 ㎛ 전후 의 세선 으로 전극 단선 부 등 을 수정 할 수 있 다 . 또한 , 수정 액 을 결함 부 에 도포 할 때 만 필름 을 기판 에 접촉 시키 기 때문 에 , 모세관 현상 에 의해 수정 액 이 필름 과 기판 의 간극 에 침입 하 는 것 을 방지 할 수 있 고 , 수정 액 에 의해 결함 부 주변 의 기판 이 오염 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 . 또한 , 상방 필름 의 일부 를 이 동시 켜 서 하방 필름 의 마스크 패턴 을 노출 시키 기 때문 에 , 마스크 패턴 과 결함 부 의 위치 맞춤 이나 수정 액 의 도포 를 용이 하 게 행할 수 있 다 .