본 발명 의 일 실시 예 에 따른 노광 장치 를 이용 한 노광 방법 은 다음 과 같 다 . 노광 마스크 에서 노광 패턴 의 방향 에 따라 위상 지 연기 를 변경 한 후 , 편광 조명계 에서 제공 된 편광 방향 을 위상 지 연기 를 통해 변경 한다 . 이후 , 위상 지 연기 를 통해 변경 된 편광 방향 을 갖 는 노광 광원 을 이용 하 여 노광 마스크 에 구비 된 노광 패턴 을 웨이퍼 상 에 전사 하 여 웨이퍼 상 에 원하 는 패턴 을 형성 할 수 있 다 .