또한 , 본 발명 은 상기 실시 형태 그대로 한정 되 는 것 은 아니 며 , 실시 단계 에서 는 그 요지 를 일탈 하 지 않 는 범위 에서 구성 요소 를 변형 하 여 구체 화 할 수 있 다 . 예 를 들 면 , 스트라이프 묘화 중 의 스테이지 속도 는 일정 하 지 않 고 , 스트라이프 묘화 중 에 변화 하 도록 제어 해도 된다 . 상기 실시 형태 에서 는 하전 입자 빔 을 블 랭킹 애퍼처 어레이 로 제어 하 는 하전 입자 멀티 빔 장치 에 대하 여 서술 했으나 , 블 랭킹 애퍼처 를 이용 하 지 않 는 하전 입자 빔 묘화 장치 또는 디지털 마이크 로 미러 디바이스 ( DMD ) 를 이용 한 멀티 레이저 빔 묘화 장치 에 대해서 도 마찬가지 로 적용 할 수 있 다 . 레이저 빔 의 경우 , 상기 실시 형태 에서 의 빔 의 전 류량 측정 은 레이저 광 의 강도 측정 으로 치환 한다 . 또한 , 상기 실시 형태 에 개시 되 어 있 는 복수 의 구성 요소 의 적절 한 조합 에 의하 여 , 다양 한 발명 을 형성 할 수 있 다 . 예 를 들 면 , 실시 형태 에 나타낸 전체 구성 요소 로부터 몇 가지 구성 요소 를 삭제 해도 된다 . 또한 , 상이 한 실시 형태 에 걸친 구성 요소 를 적절히 조합 해도 된다 .