이 프로토콜 에서 사용 된 상태 조절 절차 는 시험 프로토콜 1 에 기재 된 것 과 동일 하 였 다 . 상태 조절 후 에 , OCV 에서 시작 하 는 적용 된 전류 밀도 를 1 . 5 분 동안 조절 한 다음 하 기 전류 밀도 및 시간 간격 을 따라 단계 적 으로 올림 으로써 일련 의 편광 곡선 을 취하 였 다 : 10 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 20 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 35 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 65 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 100 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 200 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 400 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 600 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 800 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 , 1000 mA / cm 2 에서 1 . 5 분 . 이어서 , 하 기 포 텐 셜 을 단계 적 으로 적용 하 였 다 : 500 mV 1 . 5 분 , 450 mV 1 . 5 분 , 400 mV 1 . 5 분 , 350 mV 1 . 5 분 , 300 mV 1 . 5 분 , 250 mV 1 . 5 분 , 200 mV 1 . 5 분 , 매 단계 에서 정상 상태 전류 밀도 를 기록 . 이어서 , 전압 을 역 으로 단계 화 , 다시 말 해서 200 mV 1 . 5 분 , 250 mV 1 . 5 분 등 으로 올리 면서 정상 상태 전류 밀도 를 기록 하 였 다 . 각각 의 포 텐 셜 에서 2 개 의 정상 상태 전류 의 평균 을 기록 된 값 으로 사용 하 였 다 .