도전 층 ( 5050 ) 내지 도전 층 ( 5054 ) 에 사용 되 는 도전 재료 에 는 인 등 불순물 원소 를 도핑 한 다결정 실리콘 으로 대표 되 는 반도체 , 니켈 실리사이드 등 의 실리사이드 , 몰리브데넘 , 타이타늄 , 탄탈럼 , 텅스텐 , 알루미늄 , 구리 , 크로뮴 , 네오디뮴 , 스칸듐 등 의 금속 , 또는 상술 한 금속 을 성분 으로 하 는 금속 질화물 ( 질화 탄탈럼 , 질화 타이타늄 , 질화 몰리브데넘 , 질화 텅스텐 ) 등 이 있 다 . 또한 인듐 주석 산화물 , 산화 텅스텐 을 포함 하 는 인듐 산화물 , 산화 텅스텐 을 포함 하 는 인듐 아연 산화물 , 산화 타이타늄 을 포함 하 는 인듐 산화물 , 산화 타이타늄 을 포함 하 는 인듐 주석 산화물 , 인듐 아연 산화물 , 산화 실리콘 이 첨가 된 인듐 주석 산화물 등 의 도전 성 재료 를 사용 할 수 있 다 .