도 3 은 기판 ( 240 ) ; 확산 기 표면 ( 220 ) ; 및 확산 기 표면 ( 220 ) 을 캡슐 화 하 는 캡슐 화 층 ( 230 ) 을 포함 하 는 , 광학 디바이스 ( 200 ) , 예컨대 , 확산 기 를 예시 한다 . 광학 디바이스 ( 200 ) 는 약 2 . 2 초과 의 굴절 률 을 가질 수 있 다 . 기판 ( 240 ) 및 캡슐 화 층 ( 230 ) 은 각각 독립 적 으로 평면 의 외부 면 을 포함 할 수 있 다 . 평탄 화 단계 는 평면 의 외부 면 을 획득 하 도록 수행 될 수 있 다 . 이 방식 으로 , 광학 디바이스 ( 200 ) 는 오염 물질 에 의한 굴절 률 정합 의 영향 을 받 지 않 을 수 있 다 . 부가 적 으로 , 확산 기 표면 ( 220 ) 이 환경 에 노출 되 지 않 아서 , 직접 적 인 물리 적 손상 을 억제 한다 . 명확히 하 기 위해 , 기판 ( 240 ) 및 캡슐 화 층 ( 230 ) 의 평면 의 외부 면 이 물리 적 으로 손상 될 수 있 지만 , 물리 적 손상 은 광학 디바이스 ( 200 ) 의 성능 에 영향 을 주 지 않 을 것 이 다 .