그 다음 도 5 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 캡 핑 산화 막 ( 140 ) 상 으로 제 2 포토레지스트 막 ( 210 ) 을 형성 한다 . 상기 캡 핑 산화 막 ( 140 ) 상 으로 형성 되 는 제 2 포토레지스트 막 ( 210 ) 은 그 상면 이 평탄 화 될 정도 로 두꺼운 두께 로 형성 하 여 상기 패드 오픈 부 ( 135 ) 를 채우 면서 평탄 화 되 도록 형성 하 는 것 이 바람직 하 다 . 예 를 들 어 1 ~ 10 ㎛ 의 두께 로 형성 하 여 상기 패드 오픈 부 ( 135 ) 를 채우 면서 그 표면 이 전체 적 으로 수평 을 이루 도록 형성 할 수 있 다 .