상술 한 바 와 같이 본 발명 에 따르 면 , 목표 선폭 과 소정 의 차이 를 갖 도록 제작 된 테스트 마스크 를 통해 웨이퍼 를 패 터닝 하 여 각 테스트 마스크 별로 목표 선폭 과 실제 선폭 의 차이 를 산출 함 으로써 마스크 패턴 상 의 에러 와 웨이퍼 패턴 상 의 에러 와 의 관계 를 정의 할 수 있 어 마스크 패턴 을 보다 정확 하 게 보정 할 수 있 다는 효과 가 있 다 .