본 발명 의 연속 기판 처리 시스템 ( 200 ) 에 구성 되 는 복수 개 의 공정 챔버 ( 210 , 220 , 230 ) 는 다중 분할 전극 어셈블리 ( 30 ) 가 상부 에 설치 되 는 구조 이 지만 , 하부 에 설치 되 는 구조 로 변형 되 어 실시 될 수 있 다 . 이러 한 경우 에 배기 배 플 ( 6 ) 과 가스 출구 ( 3 ) 는 상부 에 구성 될 것 이 고 , 다중 분할 전극 어셈블리 ( 30 ) 와 가스 공급 부 ( 20 ) 는 하부 에 구성 된다 .