상기 샤워 헤드 ( 10 ) 에 는 상기 소스 영역 ( 110 , 120 ) 으로 상기 소스 가스 ( S 1 , S 2 ) 를 제공 하 는 소스 라인 ( 115 , 125 ) 과 상기 퍼지 영역 ( 130 ) 으로 상기 퍼지 가스 ( PG ) 를 제공 하 는 퍼지 라인 ( 135 ) 이 각각 연결 된다 . 그리고 , 상기 각 소스 영역 ( 110 , 120 ) 과 상기 퍼지 영역 ( 130 ) 에서 상기 프로세스 챔버 ( 20 ) 내측 에 구비 된 부분 에 는 상기 소스 가스 ( S 1 , S 2 ) 와 상기 퍼지 가스 ( PG ) 를 균일 하 게 분사 하 기 위한 복수 의 분사 홀 ( 106 ) 이 형성 된 배 플 플레이트 ( 105 ) 가 각각 구비 된다 .