도 1 을 계속 참조 하 면 , EUV 광원 ( 10 ) 은 또한 예 를 들 면 , 몰리브덴 과 실리콘 이 교대 로 있 는 층 으로 단계 적 인 다층 코팅 을 가진 꼭대기 를 자른 타원체 의 형태 로 된 컬렉터 미러 와 같 은 광학 기기 ( 30 ) 를 포함 한다 . 도 1 은 상기 광학 기기 ( 30 ) 가 시스템 ( 12 ) 에 의해 생성 된 광 펄스 가 통과 하 여 조사 영역 에 도달 하 는 것 을 허용 하 는 애퍼처 로 형성 된다 . 도시 된 바 와 같이 , 광학 기기 ( 30 ) 는 예 를 들 면 , 조사 영역 내 에 또는 그 에 근접 한 제 1 초점 과 EUV 광이 EUV 광원 ( 10 ) 으로부터 출력 되 고 EUV 광 을 활용 하 는 예 를 들 면 집적회로 리소그래피 툴 ( 도시 되 지 않 음 ) 과 같 은 디바이스 로 입력 되 는 소위 중간 영역 ( 40 ) 에서 제 2 초점 을 가지 는 타원 형 미러 가 될 수 있 다 . EUV 광 을 활용 하 는 디바이스 로 의 후속 하 는 전달 을 위해 광 을 중간 위치 로 수집 및 지향 시키 는 타원 형 미러 의 위치 에 다른 광학 기기 가 사용 될 수 있 다는 것 이 이해 될 것 이 고 , 예 를 들 면 , 상기 광학 기기 는 포물선 형 또는 중간 위치 에 대해 링 형태 의 단면 을 가지 는 빔 을 전달 하 기 위해 구성 될 수 있 다 . 본문 에 그 내용 이 참조 에 의해 통합 된 , Attorney Docket 번호 2006 - 0027 - 01 의 , " "" EUV 광학 기기 "" 라는 제하 의 ", 2006 년 8 월 16 일 출원 된 , 공동 계류 중 인 미국 특허 출원 번호 제 11 / 505 , 177 을 참조 하 라 .