본 발명 의 일 측면 에 따르 면 유리 전이 온도 가 350 ° C 이상 500 ° C 이하 인 플라스틱 기판 ; 및 상기 플라스틱 기판 상 에 하나 이상 의 산화 실리콘 층 ( SiOx ) 및 하나 이상 의 질화 실리콘 층 ( SiNx ) 이 교대 로 적층 된 다층 구조 이 며 , 상기 산화 실리콘 층 과 상기 질화 실리콘 층 에 의한 막스 트레스 의 평균 이 - 200 내지 200 MPa 인 배리 어막 ; 을 포함 하 는 플렉서블 디스플레이 용 기판 을 제공 한다 .