상술 한 본 발명 에 따르 면 , 노광 장비 의 투영 렌즈 부 의 국부 적 가열 에 따른 국부 적 온도 상승 을 실질 적 으로 억제 하 거나 방지 할 수 있 다 . 따라서 , 국부 적 온도 상승 에 따른 렌즈 특성 변화 , 예컨대 , 수차 발생 을 억제 시킬 수 있 고 , 노광 과정 중 의 포커스 변동 ( focus shift ) 등 을 억제 하 여 패턴 전사 를 보다 신뢰 성 있 게 구현 할 수 있 다 . 또한 , 렌즈 가열 에 따른 노광 장비 의 가동 중단 을 배제 시킬 수 있 어 , 노광 장비 가동 효율 을 높일 수 있 다 . 따라서 , 반도체 소자 의 생산 성 및 수율 을 증대 를 구현 할 수 있 다 .