한편 , 하드 마스크 ( 103 ) 형성 전 에 플로팅 게이트 ( 102 ) 상 에 완충 막 ( 미 도시 ) 을 더 형성 할 수 있 는데 , 그 이유 는 후속 하드 마스크 ( 103 ) 형성 공정 시 가해 지 는 스트레스 로부터 플로팅 게이트 ( 102 ) 를 보호 하 는 동시 에 후속 하드 마스크 ( 103 ) 제 거공 정시 인산 ( H 3 PO 4 ) 과 같 은 식각 용액 으로부터 플로팅 게이트 ( 102 ) 를 보호 하 기 위함 이 다 .