초점 예 로 돌아가 서 , 본 기술 은 본질 적 으로 두 가지 주요 부분 을 포함 하 고 있 다 . 제 1 부분 은 추정 공정 에서 특정 기판 에 대한 초점 의 추정 을 결정 하 기 위해 사용 되 는 하나 이상 의 유형 의 리소그래피 장치 처리 변수 에 반영 되 지 않 는 리소그래피 장치 의 기본 적 인 초점 기여 도 를 효과 적 으로 결정 하 기 위한 설정 공정 이 다 . 제 2 부분 은 특정 기판 에 대한 초점 의 추정 을 결정 하 기 위해 고려 중 인 기판 에 대한 하나 이상 의 유형 의 리소그래피 장치 처리 변수 와 관련 된 초점 기여 도 를 이용 하 는 추정 공정 이 다 .