추가 적 으로 , 반응 챔버 ( 3 ) 에 는 배기 라인 ( 7 ) 을 갖 는 원형 덕트 ( 13 ) 가 제공 되 고 , 이 를 통해 반응 챔버 ( 3 ) 의 내부 ( 11 ) 에 있 는 가스 가 배기 된다 . 추가 적 으로 , 예 를 들 어 반응 챔버 ( 3 ) 아래 에 배치 된 이송 챔버 ( 5 ) 는 , 이송 챔버 ( 5 ) 의 내부 ( 이송 구역 ) ( 16 ) 를 통해 반응 챔버 ( 3 ) 의 내부 ( 11 ) 로 밀봉 가스 를 유입 하 기 위한 밀봉 가스 라인 ( 24 ) 을 구비 하 며 , 반응 구역 과 이송 구역 을 분리 하 기 위한 분리 판 ( 14 ) 이 제공 된다 ( 기판 이 이송 챔버 ( 5 ) 로 또는 이송 챔버 로부터 이송 되 는 게이트 밸브 는 본 도면 에서 생략 됨 ) . 이송 챔버 는 또한 배기 라인 ( 6 ) 을 구비 한다 . 일부 구 현예 에서 , 다중 원소 막 의 증착 및 표면 처리 는 동일 한 반응 공간 에서 수행 되 어 , 모든 단계 들 은 기판 을 공기 또는 다른 산소 함유 대기 에 노출 시키 지 않 고 연속 적 으로 수행 될 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 원 격식 플 라즈 마 유닛 은 , 예 를 들 어 , 공급원 ( 21 , 22 , 25 , 및 / 또는 26 ) 중 하나 이상 으로부터 가스 를 여기 시키 기 위해 사용 될 수 있 다 .