도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 본 발명 의 제 1 실시 예 에 따른 기판 처리 장치 는 평판 표시 패널 을 제조 하 기 위한 글라스 기판 의 포토 리소그래피 공정 을 처리 하 는 설비 이 다 . 기판 처리 장치 는 기판 을 처리 하 기 위한 복수 의 기판 처리 유닛 ( 또는 단위 모듈 ) 을 포함 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 복수 의 기판 처리 유닛 은 , 인 덱 서 ( 110 ) , 세정 장치 ( 120 ) , 제 1 내지 제 3 베 이킹 장치 ( 131 , 132 , 133 ) , 코터 ( 140 ) , 건조 장치 ( 150 ) , 제 1 노광 장치 ( 181 ) , 제 2 노광 장치 ( 182 ) , 타이틀 러 ( 190 ) , 현상 장치 ( 200 ) , 검사 장치 ( 210 ) 를 포함 할 수 있 다 . 복수 의 기판 처리 유닛 은 인라인 타입 으로 배치 될 수 있 다 .