즉 , 소자 분리 영역 ( 105 ) 에 의해 분리 된 다 수개 의 활성 영역 중 에서 일부 영역 만 을 오픈 하 는 마스크 패턴 ( 210 ) 을 형성 한다 . 이 때 , 사진 식각 공정 을 진행 하 여 다 수개 의 활성 영역 중 일부 만 을 오픈 하 는 마스크 패턴 ( 210 ) 을 형성 할 수 있 다 . 이 때 , 오픈 되 는 영역 은 마스크 패턴 ( 210 ) 에 의해 오픈 되 지 않 은 영역 에 대해 소자 분리 영역 ( 105 ) 에 의해 분리 되 어 있 다 .