상기 뱅크 부 ( 160 ) 는 SiO 2 , TiO 2 등 의 무기 막 재료 를 스퍼터링 , 코팅 법 , 화학 기상 증착 법 등 을 통해 형성 한다 . 또는 , 아크릴 수지 , 폴리 이미드 수지 등 의 내열성 , 내용 제성 을 갖 는 재료 를 베이스 기판 위 에 도포 한 후 포토 리소그래피 기술 등 에 의해 패 터닝 하 여 형성 한다 . 일례 로 , 상기 뱅크 층 ( 160 ) 은 비 발광 영역 을 정의 하 는 개구 패턴 ( 310 ) 과 발광 영역 을 정의 하 는 차광 패턴 ( 320 ) 이 형성 된 마스크 ( 300 ) 를 통해 패 터닝 된다 .