측정 시스템 의 일 실시 예 는 미국 특허 제 6 934 005 호 로부터 알려져 있 다 . 공지 된 시스템 은 레티 클 표면 의 높이 및 경사 프로파일 과 관련 된 입력 데이터 를 제공 하 도록 구성 된 간섭계 를 포함 한다 . 이후 , 상기 데이터 는 레티 클 표면 의 높이 및 경사 프로 파일 을 선형 으로 근사 화 ( linearly approximate ) 하 는 적절 한 컴퓨터 프로그램 에 의해 처리 된다 . 상기 목적 을 위해 , 레티 클 은 실질 적 으로 레티 클 의 반대 쪽 에 배치 된 2 개 의 반사 경로 들 을 포함 하 며 , 레티 클 및 레티 클 스테이지 에 할당 된 좌표계 의 y - 방향 을 따라 연장 됨 을 유의 한다 ( 도 2 참조 ) . 간섭계 데이터 는 레티 클 표면 을 근사 화 하 는 데 사용 되 며 , 이 는 기판 의 적절 한 노광 시 에 레티 클 스테이지 의 선형 변위 ( linear displacement ) 를 제어 하 는 데 사용 된다 .