본 발명 에 관한 다공질 실리카 계 입자 의 제조 방법 은 , 입자 의 전체 표면 을 10000 배 의 주사 형 전자 현미경 으로 찍 은 사진 ( SEM 사진 ) 으로 관찰 했 을 때 , 그 표면 에 이 물 의 부착 이 대부분 인지 되 지 않 을 정도 의 표면 평활 성 을 구비 한 , 평균 입자 지름 이 0 . 5 ∼ 30 ㎛ 의 범위 에 있 는 다공질 실리카 계 입자 의 제조 방법 으로서 ,