또한 , 본 발명 의 방법 은 모델 캘 리브레 이 션 ; 리소그래피 디자인 검사 ; 공통 공정 윈도우 들 의 평가 에 기초 한 산출량 추정 ; 핫 스폿 ( hot spot ) 들 ( 또는 문제 의 스폿 들 ) 의 확인 및 공정 윈도우 의식 OPC 를 이용 한 이러 한 핫 스폿 들 의 보정 ; 및 ( 예 를 들 어 , 리소그래피 공정 에서 주어진 리소그래피 층 에 대한 공통 공정 윈도우 의 중심 을 결정 ( center ) 하 기 위한 ) 모델 - 기반 공정 제어 보정 들 과 같 은 다른 적용 들 에 도 용이 하 게 적용 되 며 , 이 에 제한 되 지 는 않 는다 .