여기 서 는 , 절 연막 ( 69 ) 위 에 스퍼터링 법 에 의하 여 두께 50 nm 의 티타늄 막 , 두께 100 nm 의 알루미늄 막 , 및 두께 5 nm 의 티타늄 막 을 순서 대로 형성 하 였 다 . 다음 에 , 포토 리소그래피 공정 에 의하 여 마스크 를 형성 한 후 , 상기 마스크 를 사용 하 여 티타늄 막 , 알루미늄 막 , 및 티타늄 막 을 드라이 에칭 하 여 배선 을 형성 하 였 다 . 다음 에 , 마스크 를 제거 하 였 다 .