이 와 같 은 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 은 액체 상태 의 화학 물질 을 저장 하 여 공급 하 는 공급 탱크 와 , 이 공급 탱크 로부터 화학 물질 을 공급 받 아 반도체 의 제조 공정 장치 에 직접 공급 하 는 공정 탱크 로 이루어지 는 것 에 있 어서 , 상기 공급 탱크 에 일단 이 연결 되 어 화학 물질 이 배출 되 는 배출 배관 과 ; 상기 공정 탱크 에 일단 이 연결 되 어 화학 물질 이 유입 되 는 인입 배관 과 ; 상기 배출 배관 및 인입 배관 의 사이 에 연결 되 어 화학 물질 만 이 공급 되 고 , 열전도 는 차단 되 는 테 프론 재질 의 단 열 관 이 포함 되 어 이루어진다 .