CVD 는 목적 으로 하 는 박막 의 구성원 자 를 포함 하 는 원료 가스 를 기판 이 놓여진 공간 에 공급 하 여 원료 가스 분자 의 화학 반응 혹은 분해 를 통하 여 기상 및 기판 표면 에서 의 화학 반응 으로 박막 을 형성 하 는 기술 이 다 . CVD 에서 는 대기압 하 에서 증착 하 는 연소열 을 에너지원 으로 하 여 전구체 의 기화 , 분해 , 산화 하 여 증착 하 는 기술 로 연소 화학 기상 증착 법 ( 이하 , 간단히 CCVD 라고 도 표기 함 ) 이 있 다 .