최근 들 어 , 건식 ( UV , 산소 플 라즈 마 ) 방법 을 이용 한 표면 개질 과 습식 담금법 의 SAM ( self - assembled molecular monolayer ) 을 통한 투명 전극 의 일함수 증가 에 관한 연구 가 진행 되 고 있 다 . 그러나 건식 방법 의 경우 일함수 증가 폭 이 비교 적 작 고 , 진공 장비 등 고가 의 장비 를 사용 해야 하 는 단점 이 있 다 . 또한 , 습식 담금법 의 경우 유기 용매 에 의한 표면 의 오염 과 반복 적 담금 으로 인한 화학 적 손상 을 초래 할 수 있 다 .