상기 공급 탱크 ( 1 ) 는 액체 상태 의 증착 용 화학 물질 을 저장 하 여 반도체 칩 제조 공정 장치 에 직접 적 으로 화학 물질 을 공급 하 는 공정 탱크 ( 2 ) 에 화학 물질 을 계속 공급 하 며 , 공정 작업 중 에 화학 물질 이 중단 되 지 않 고 지속 적 으로 공급 될 수 있 도록 하 기 위해 공급 탱크 ( 1 ) 와 공정 탱크 ( 2 ) 두 부분 으로 분리 하 여 설치 하 고 , 공급 탱크 ( 1 ) 의 화학 물질 이 다 소모 되 어 공급 탱크 ( 1 ) 를 교체 하 는 동안 공정 탱크 ( 2 ) 내부 의 잔여 화학 물질 이 제조 공정 장치 에 공급 됨 으로써 작업 이 중단 되 지 않 고 지속 적 으로 진행 된다 .