이어서 , 상기 복수 개 의 콘 택 홀 이 매립 되 도록 도전 막 ( 203 ) 을 형성 한다 . 이때 , 도전 막 ( 203 ) 으로 는 폴리 실리콘 막 , 전이 금속 , 희토류 금속 또는 이 들 이 혼합 된 합금 막 으로 형성 하 거나 , 이 들 이 적어도 2 층 이상 적층 된 적층 구조 로 형성 할 수 있 다 . 예컨대 , 전이 금속 으로 는 철 ( Fe ) , 코발트 ( Co ) , 텅스텐 ( W ) , 니켈 ( Ni ) , 알루 미 늄 ( Al ) , 구리 ( Cu ) , 팔라듐 ( Pd ) , 백금 ( Pt ) , 몰리브덴 ( Mo ) 또는 티타늄 ( Ti ) 등 을 사용 하 고 , 희토류 금속 으로 는 어븀 ( Er ) , 이터 륨 ( Yb ) , 사마륨 ( Sm ) , 이트륨 ( Y ) , 란탄 ( La ) , 세륨 ( Ce ) , 테르븀 ( Tb ) , 디스프로슘 ( Dy ) , 홀뮴 ( Ho ) , 톨 륨 ( Tm ) 및 루테튬 ( Lu ) 등 을 사용 한다 .