이 경우 , SLM 의 2 차원 픽셀 배치 에서 입사 각도 는 수평 성분 및 수직 성분 으로 세분 된다 . 그런 다음 , 상기 주어진 방정식 이 국부 적 인 수평 격 자 주 기 및 수직 격자 주기 를 결정 하 기 위해 각각 사용 된다 . 국부 적 인 격자 주기 로부터 , 복소수 픽셀 의 픽셀 피치 가 p 인 경우 2 * π * p / g 의 관계식 으로부터 인접 한 픽셀 의 위상 차이 가 결정 된다 . 예 를 들 어 SLM 상 의 광 빔 의 입사 각도 가 회절 각도 의 절반 에 대응 하 면 , 인접 한 픽셀 들 사이 의 위상 차이 ( π ) 가 생성 된다 . SLM 상 으로 의 광 빔 의 입사 각도 가 예 를 들 어 회절 각도 의 1 / 4 에 대응 하 는 경우 , π / 2 의 위상 차이 가 생성 된다 . 따라서 , 위상 차이 및 선택 가능 한 오프셋 위상 값 에 의해 서브 홀로그램 에서 의 위상 곡선 이 결정 된다 . 예 를 들 어 이러 한 오프셋 위상 값 은 서브 홀로그램 의 좌측 상부 가장자리 에 있 는 픽셀 의 위상 값 이 0 으로 설정 되 도록 결정 될 수 있 다 . 서브 홀로그램 에서 의 국부 적 인 격자 주기 가 일반 적 으로 연속 적 으로 변하 기 때문 에 , 마찬가지 로 각 픽셀 의 쌍 에 대해 개별 적 으로 계산 될 필요 는 없 고 , 샘플 지점 에 기초 하 여 보 간 될 수 있 다 . 이렇게 확인 된 위상 은 평면파 로 조명 된 SLM 에 대한 서브 홀로그램 에서 의 위상 에 대응 한다 . 조명 파면 이 평면파 로부터 벗어난 경우 , 이러 한 조명 파면 은 여전히 서브 홀로그램 에 대한 위상 값 에 의해 감산 된다 .