즉 , 본 발명 에 따라 제조 되 는 실리카 나노 입자 들 의 균일 도 는 수십 nm 범위 내 에 있 다 . 구체 적 으로 , 본 발명 에 따라 제조 되 는 실리카 나노 입자 의 균일 도 는 도 3 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 음 이온 성 계면 활성제 인 소듐 도데 실 술포 네이트 ( SDS : sodium dodecyl sulfonate ) 를 10 mg 첨가 한 경우 에 는 44 nm 정도 의 균 일도 를 가지 고 , 음 이온 성 계면 활성제 인 소듐 도데 실 술포 네이트 ( SDS : sodium dodecyl sulfonate ) 를 200 mg 첨가 한 경우 에 는 80 nm 정도 의 균 일도 를 가지 는 것 을 실험 을 통하 여 알 수 있 기 때문 에 , 본 발명 에서 첨가 되 는 상기 음 이온 성 계면 활성제 의 양 이 1 ~ 1000 mg 인 경우 에 는 대략 적 으로 30 nm ~ 120 nm 범위 정도 에 해당 되 는 균 일도 를 가지 는 실리카 나노 입자 를 제조 할 수 있 을 것 이 다 .