고정 홀더 ( 620 ) 의 내부 에 는 상부 전극 ( 540 ) 이 설치 된다 . 상부 전극 ( 540 ) 은 분사 판 ( 622 ) 과 나란 하 도록 배치 되 며 , 버퍼 공간 ( 624 ) 의 상부 에 배치 된다 . 상부 전극 ( 540 ) 에 는 고주파 전원 ( RF power ) 이 연결 되 며 , 상부 전극 ( 540 ) 은 축전 결합 플라스마 ( Capacitively Coupled Plasma : CCP ) 소스 가 된다 . 한편 , 도 5 에 도시 한 바 와 같이 , 지지 플레이트 ( 220 ) 는 접지 되 며 , 상부 전극 ( 540 ) 과 대응 되 는 하부 전극 의 역할 을 한다 . 따라서 , 상부 전극 ( 540 ) 에 고주파 전원 이 인가 되 면 , 상부 전극 ( 540 ) 과 지지 플레이트 ( 220 ) 사이 에 는 전자기장 이 형성 되 며 , 전자기장 에 의해 처리 실 ( 100 ) 내부 의 소스 가스 는 방전 된다 .