다음 으로 , 도 7 c 에 도시 한 바 와 같이 , 상기 형성 된 제 1 및 제 2 포토레지스트 패턴 ( 104 a , 104 b ) 을 마스크 로 하 여 , 그 하부 에 형성 된 금속 층 ( 102 ) 을 선택 적 으로 제거 하 게 되 면 , 기판 ( 100 ) 상 에 제 1 및 제 2 금속 패턴 ( 102 a , 102 b ) 이 형성 되 게 된다 .