본 체부 ( 46 a ) 의 내부 에 는 , 가스 확산 실 ( 46 c ) 이 마련 되 고 , 이 가스 확산 실 ( 46 c ) 의 하부 에 위치 하 도록 , 본 체부 ( 46 a ) 의 저부 에 는 , 다수 의 가스 통류 구멍 ( 46 d ) 이 형성 되 어 있 다 . 또한 , 상부 천 장판 ( 46 b ) 에 는 , 해당 상부 천 장판 ( 46 b ) 을 두께 방향 으로 관통 하 도록 가스 도입 구멍 ( 46 e ) 이 상기 한 가스 통류 구멍 ( 46 d ) 과 중첩 하 도록 마련 되 어 있 다 . 이러 한 구성 에 의해 , 가스 확산 실 ( 46 c ) 에 공급 된 처리 가스 는 가스 통류 구멍 ( 46 d ) 및 가스 도입 구멍 ( 46 e ) 을 거쳐서 처리 용기 ( 30 ) 내 에 샤워 형상 으로 분산 되 어서 공급 된다 .