바람직 하 게 , 상기 화학 적 식각 방법 과 조건 에 따라 광소자 를 이루 는 글 래스 를 식각 하 는 경우 , 플루오르화 수소 ( HF ) 용액 또는 플루오르화 수소 ( HF ) 와 염산 ( HCl ) 의 혼합 용액 을 사용 하 거나 이 들 용액 을 물 ( H 2 O ) 과 혼합 한 용액 을 이용 할 수 있 고 , 버 퍼드 옥사이드 에치 ( Buffer Oxide Etch , BOE ) 만 이용 하 거나 플루오르화 수소 ( HF ) 와 혼합 하 여 화학 적 식각 할 수 있 다 .