로 표시 되 는 이온 성 관능기 밀도 가 10 ％ 초과 이 다 . 본 발명 의 일 형태 에 따른 표면 처리 조성물 은 , 연마 완료 연마 대상물 의 표면 에 있 어서 의 잔사 를 저감 하 는 데 바람직 하 게 사용 된다 . 그리고 , 본 발명 의 일 형태 에 따르 면 , 연마 완료 연마 대상물 의 표면 에 잔류 하 는 잔사 를 충분히 제거 시킬 수 있 는 수단 이 제공 된다 .