본 발명 에 따른 제 6 공정 단계 에서 , 하부 외부 정렬 마크 가 상부 렌즈 시스템 의 시야 에 위치 되 도록 광학 그룹 의 이동 이 발생 한다 . 하부 외부 정렬 마크 가 측정 되 면 하부 샘플 홀더 위치 와 하부 외부 정렬 마크 사이 에 고유 한 할당 이 존재 하 게 된다 . 이전 에 검출 된 하부 의 외부 정렬 마크 에 대한 참조 를 잃 지 않 기 위해 , 상부 렌즈 시스템 의 위치 는 바람직 하 게 는 광학 측정 수단 , 더욱더 바람직 하 게 는 간섭계 에 의해 여기 서 정밀 하 게 모니터링 되 는 것 이 바람직 하 다 . 따라서 렌즈 시스템 에 의해 커버 되 는 경로 가 검출 될 수 있 다 .