이 머 젼 부 ( 102 ) 를 투과 하 는 ArF 등 의 광원 은 대기 중 을 투과 하 는 광원 보다 적 은 입사각 및 짧 은 파장 으로 마스크 상 의 이미지 를 웨이퍼 ( 106 ) 에 전사 한다 . 따라서 , DOF ( Depth Of Focus ) 마진 및 분해능 을 향상 시킬 수 있 고 , 분해능 이 좋 아지므로 일반 적 인 노광 장치 에서 구현 할 수 없 었 던 미세 패턴 을 구현 할 수 있 게 된다 .