아울러 , X 선 광전자 분광법 ( x - ray photoelectron spectroscopy : XPS ) 으로 제조 된 필름 의 표면 특성 을 확인 하 였 다 . PHI 5000 VersaProbe ( Physical Electronics , USA ) 에 필름 을 적재 하 고 , 제조 된 필름 의 표면 특성 , 구조 분석 , 및 표면 에서 원자 간 의 결합 에너지 ( eV ) 를 측정 하 였 다 . 측정 된 결합 에너지 ( eV ) 에 대한 피크 강도 ( c / s ) 의 그래프 를 도 6 c 에 나타내 었 다 . 도 6 c 에 나타난 바 와 같이 , S 2 p ( 황 원자 의 2 p 오비탈 ) 는 166 eV 의 피크 를 나타내 고 N 1 s ( 질소 원자 의 1 s 오비탈 ) 는 402 eV 의 피크 를 가지 므로 , 기능 성 을 갖 는 양쪽 이온 성 작용기 가 필름 의 표면 에 많이 존재 한다는 것 을 확인 하 였 다 . 또한 , 건조 된 필름 과 수화 된 필름 의 피크 강도 를 비교 한 결과 , 수화 된 필름 의 피크 강도 가 더 높 았 다 . 따라서 , 양쪽 이온 성 작용기 가 건조 필름 에 비해 수화 시킨 필름 의 표면 에 더 많 은 존재 하 고 , 양쪽 이온 성 작용기 가 수화 조건 에서 필름 의 표면 을 노출 되 어 더욱 친수성 을 띤다는 것 을 확인 하 였 다 .