기판 지지대 ( 104 ) 상 에 는 기판 ( W ) 으로 공정 가스 를 분사 할 수 있 도록 샤워 헤드 ( 110 ) 가 배치 될 수 있 다 . 일 실시 예 에서 , 샤워 헤드 ( 110 ) 는 공정 챔버 ( 102 ) 의 상부 의 개방 부 에 결합 되 어 공정 챔버 ( 102 ) 의 일부분 으로 구성 될 수 있 다 . 샤워 헤드 ( 110 ) 는 공정 가스 를 공정 챔버 ( 102 ) 내부 로 전달 하 기 위한 가스 전달 라인 ( 112 ) 에 연결 될 수 있 다 . 샤워 헤드 ( 110 ) 는 기판 ( W ) 상 에 공정 가스 를 균일 하 게 분사 할 수 있 도록 내부 에 확산 구조 를 가질 수 있 고 나아가 바닥 면 에 복수 의 분사 홀 들 을 포함 할 수 있 다 .