밀폐 된 공간 을 제공 하 는 공정 챔버 에 가스 를 공급 하 여 , 공정 챔버 내부 의 전극 에 RF 전력 을 인가 하 여 전기장 을 형성 하 면 , 가스 는 전기장 에 의해 활성 화 되 면서 플 라즈 마 상태 로 변환 되 고 , 플라 즈 마 상태 의 이온 은 전극 에 위치 하 는 웨이퍼 상 의 박막 과 반응 하 여 이 웨이퍼 상 의 박막 을 원하 는 소정 의 형상 으로 식각 시킬 수 있 다 .