처리 실 ( 100 ) 의 내부 에 공급 된 소스 가스 는 플라스마 생성 부재 ( 500 ) 에 의해 방전 되 며 , 방전 에 의해 플라스마 가 생성 된다 . 플라스마 생성 부재 ( 500 ) 는 코일 ( 522 ) 을 고정 하 는 코일 고 정체 ( 520 ) 및 상부 전극 ( 540 ) 을 포함 한다 . 코일 ( 522 ) 은 처리 실 ( 100 ) 의 측벽 에 처리 실 ( 100 ) 을 감싸 도록 설치 되 며 , 코일 ( 522 ) 은 코일 고 정체 ( 520 ) 의 내부 에 실장 되 어 고정 된다 . 코일 고 정체 ( 520 ) 는 유도 결합 플라스마 ( Inductively Coupled Plasma : ICP ) 소스 이 며 , 처리 실 ( 100 ) 의 측벽 을 통해 처리 실 ( 100 ) 의 내부 에 공급 된 소스 가스 에 에너지 를 인가 한다 . 인가 된 에너지 에 의하 여 소스 가스 는 고주파 방전 ( radio frequency discharge ) 된다 .