이어서 , 제 어 장치 ( 100 ) 는 , 선반 유닛 ( U 10 ) 의 웨이퍼 ( W ) 를 처리 모듈 ( 11 ) 내 의 액 처리 유닛 ( U 1 ) 및 열처리 유닛 ( U 2 ) 에 반송 하 도록 반송 장치 ( A 3 ) 를 제어 한다 . 또한 , 제 어 장치 ( 100 ) 는 , 이 웨이퍼 ( W ) 의 표면 상 에 하층 막 을 형성 하 도록 액 처리 유닛 ( U 1 ) 및 열처리 유닛 ( U 2 ) 을 제어 한다 . 그 후 제어 장치 ( 100 ) 는 , 하층 막 이 형성 된 웨이퍼 ( W ) 를 선반 유닛 ( U 10 ) 으로 되돌리 도록 반송 장치 ( A 3 ) 를 제어 하 고 , 이 웨이퍼 ( W ) 를 처리 모듈 ( 12 ) 용 셀 에 배치 하 도록 반송 장치 ( A 7 ) 를 제어 한다 .