그러므로 , 피치 - 배가 된 마스크 피처 가 형성 되 었 다 . 도시 된 실시 예 에서 , 스 페이서 ( 175 ) 는 가늘 고 긴 루프 를 형성 하 고 , 그 단부 에서 연결 되 는 실질 적 으로 평행 한 레그 를 갖 는다 . 스 페이서 ( 175 ) 의 피치 는 포토 리소그래피 에 의해 처음 에 형성 된 포토레지스트 라인 ( 124 ) 및 공간 ( 122 ) ( 도 4 A 및 4 B ) 의 피치 의 대략 절반 이 다 . 포토레지스트 라인 ( 124 ) 이 약 200 nm 의 피치 를 갖 는 경우 에 , 약 100 nm 이하 의 피치 를 스 페이서 ( 175 ) 가 형성 될 수 있 다 . 스 페이서 ( 175 ) 는 피처 또는 라인 ( 124 b ) 의 측벽 상 에 형성 되 고 , 스 페이서 ( 175 ) 는 일반 적 으로 , 수정 된 광 정의 가능 층 ( 120 a ) 내 의 피처 또는 라인 ( 124 a ) 의 패턴 의 윤곽 을 따르 므로 , 라인 ( 124 a ) 사이 의 공간 ( 122 a ) 내 에 폐 루프 를 형성 한다는 것 을 알 수 있 을 것 이 다 .