도 5 ~ 8 을 참조 한다 . 도 5 ~ 8 은 본 발명 의 제 3 실시 예 에 따른 부호기 ( 500 ) , 본 발명 의 제 3 실시 예 에 따른 복호 기 ( 600 ) , 본 발명 의 제 4 실시 예 에 따른 부호기 ( 700 ) , 및 본 발명 의 제 4 실시 예 에 따른 복호 기 ( 800 ) 각각 의 도면 이 다 . 각 실시 예 와 의 차이 는 FE 블록 의 위치 이 다 . 각 도면 에서 FE 블록 은 위너 필터링 을 포함 한 충실 도 향상 기법 들 을 수행 할 수 있 다 . 일부 실시 예 들 에서 , 4 진 - 트리 파티션 이 채용 되 고 , 재 사용 방법 은 계산 시간 을 더 줄일 수 있 다 . 예 를 들 면 , 위너 필터링 이 더 작 은 영역 에 대해 수행 된 다음 상기 더 작 은 영역 을 포함 하 는 더 큰 영역 에 대해 수행 될 때 , 이미 생성 된 상호 및 자기 상관 매트 릭 들 은 필터링 을 위해 다시 사용 될 수 있 다 . 더욱이 , 각각 의 개시 된 부호기 는 비트스트림 에서 충실 도 향상 정보 의 위치 를 나타내 기 위해 부호 화 된 비트스트림 의 헤더 에 있 는 적응 적 포인터 를 사용 할 수 있 다 . 제 3 실시 예 에서 , 도 5 에 보인 바 와 같이 , FE 블록 ( 160 ) 은 현재 프레임 의 처리 된 데이터 에 대해 충실 도 향상 을 수행 하 여 변환 블록 ( 134 ) , 양자 화 블록 ( 136 ) , 역양 자화 블록 ( 138 ) , 및 역변환 블록 ( 142 ) 처리 들 에 의해 도입 된 에러 들 을 줄인다 . 제 4 실시 예 에서 , 도 7 에 보인 바 와 같이 , FE 블록 ( 160 ) 은 현재 프레임 의 처리 된 데이터 에 대해 충실 도 향상 을 수행 하 여 양자 화 블록 ( 136 ) 및 역양 자화 블록 ( 138 ) 처리 들 에 의해 도입 된 에러 들 을 줄인다 .