본 실시 예 에서 는 , 2 개 의 처리 블록 ( 3 , 5 ) 은 , 예 를 들 면 레지스 트 의 도포 처리 를 행하 고 있 었 다 . 이러 한 점 에서 , 2 개 의 처리 블록 ( 3 , 5 ) 중 적어도 한쪽 은 , 현상 처리 또는 세정 처리 를 행해도 된다 . 이 경우 , 현상 처리 또는 세정 처리 를 행하 는 액 처리 유닛 은 , 기판 ( W ) 을 유지 하 면서 기판 ( W ) 을 회전 시키 는 유지 회 전부 와 , 현상액 또는 세정액 을 토출 하 는 노즐 과 , 이 노즐 에 현상액 또는 세정액 을 보내 기 위한 펌프 , 밸브 및 배관 을 구비 하 고 있 어도 된다 .