여기 서 , 상기 반응 가스 공급 부 ( 50 ) 는 소정 의 온도 를 갖 는 상기 이소프렌 가스 를 일정 유량 으로 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내 에 공급 한다 . 또한 , 상기 히터 블록 ( 30 ) 은 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내 에서 상기 웨이퍼 ( 70 ) 상 에 상기 실리콘 산화 막 을 안정 적 으로 증착 시키 기 위해 상기 웨이퍼 ( 70 ) 를 소정 의 온도 로 가열 하 도록 형성 되 어 있 다 .