그러나 , 광학 적 리소그래피 기술 은 분해능 의 측면 에서 기술 적 한계 에 도달 해 있 으며 , 나노 공정 을 위해서 는 매우 짧 은 파장 의 광원 을 필요 로 하 고 이런 짧 은 파장 은 대부분 의 재료 에서 광학 적 으로 투명 이 아니 기 때문 에 전형 적 인 광학 리소그래피 장비 는 매우 복잡 한 반사 광학 이 요구 되 며 충분 한 출력 강도 를 지닌 광원 을 필요 로 한다 . 이러 한 노광 장비 는 초기 투자 비용 이 매우 고가 이 고 복잡 한 장비 구조 와 구 성 을 가지 게 되 며 공정 또한 까다로우 며 산업 적 응용 에 적합 치 않 은 느린 생산 성 을 지니 고 있 다 .