본 발명자 는 지금 까지 TSA 법 으로 이산화 탄소 와 N 2 O 를 동시 에 제거 한다는 것 은 부적합 하 다고 여겼 던 NaX 형 제올라이트 를 이용 하 더라도 이산화 탄소 흡착제 의 물질 이동대 를 흡착제 전 영역 에 걸쳐서 형성 시킴 으로써 , 이산화 탄소 에 의한 N 2 O 의 치환 탈착 을 막 을 수 있 었 고 실질 적 으로 N 2 O 를 흡착 제거 할 수 있 음 을 알아냈 다 . 여기 서 「 실질 적 」 이 란 용어 는 제거율 70 % 이상 을 의미 한다 .