특정 실시 예 에서 , 각각 의 테스트 패치 에 대한 애버리지 강도 값 은 하나 의 레티 클 에 걸쳐 또는 2 개 의 레티 클 사이 의 CD 변동 과 관련 된 델타 맵 을 얻 기 위하 여 테스트 패치 의 대응 다이 - 등 가 패치 의 애버리지 강도 와 비교 된다 . 각 패치 의 강도 값 은 패치 의 픽셀 의 반사 및 / 또는 투과 된 강도 값 을 애버리지 함 으로써 획득 될 수 있 다 . 다이 - 등 가 패치 의 레티 클 패턴 이 동일 하 고 CD ( 또는 임의 의 다른 패턴 특성 ) 에서 변하 지 않 으면 , 다이 - 등 가 패치 로부터 의 투과 또는 반사 된 광 은 동일 할 것 으로 예상 된다 . 특정 패치 에 대한 반사 또는 투과 강도 가 다른 다이 - 등 가 패치 와 상이 한 경우 , 변화 하 는 패치 의 패턴 은 대응 다이 - 등 가 패치 와 비교 하 여 CD 변동 을 갖 는 것 으로 추론 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 투과 강도 의 증가 는 불 투명 레티 클 패턴 의 CD 가 감소 하 였 고 클리어 레티 클 영역 의 CD 가 증가 하 였 다고 추정 한다 .