US 6 , 746 , 655 는 입자 를 수직 반응기 에 채우 고 배기 가스 를 통해 반응기 로부터 제거 될 수 있 는 가스 성 금속 염화물 또는 다른 휘발 성 화합물 을 형성 하 기 위하 여 그것 을 적어도 1000 ℃ 의 온도 에서 유동 화 가스 ( HCl ) 의 상향 흐름 으로 처리 함 으로써 ( 그 로써 유동 층 을 형성 함 ) SiO 2 그레인 을 제거 하 는 방법 에 관한 것 이 다 . 유속 은 적어도 10 cm / 초로 설정 되 고 , 반응 시간 은 대략 12 시간 이 될 수 있 다 . 이 방법 은 Li , Na , Mg , Cu , Fe , Ni , Cr , Mn , V , Ba , Pb , C , B 및 Zr 의 금속 성 오염 의 제거 를 위해 사용 되 며 , 그 로써 석영 분말 로부터 내화성 미네랄 마이크 로 입자 의 분리 는 전혀 언급 되 지 않 는다 . 나아가 , US 6 , 746 , 655 는 0 . 7 μ m 이하 의 공극 크기 를 가진 필터 를 개시 하 지 않 으며 , 단순히 배기 가스 스트림 으로부터 응축 된 화합물 의 형태 로 가장 미세 한 먼지 및 오염물 을 분리 하 기 위한 먼지 분리기 의 존재 에 관한 것 이 다 . 여기 서 기술 된 공정 은 세정 의 공정 이 아니 며 액체 유체 는 사용 되 지 않 는다 .