또한 , 본 실시 형태 에 따른 처리 장치 ( 100 ) 는 , 산소 함유 가스 공급계 로부터 산소 함유 가스 로서 의 O 2 가스 를 공급 함 으로써 산화 처리 를 행하 도록 구성 되 어 있 지만 , 산소 함유 가스 공급계 대신 에 , 질소 함유 가스 를 처리 실 ( 201 ) 내 에 공급 하 는 질소 함유 가스 공급계 를 마련 할 수 도 있 다 . 이렇게 구성 된 처리 장치 에 의하 면 , 기판 의 산화 처리 대신 에 질화 처리 를 행할 수 있 다 . 이 경우 , O 2 가스 공급원 ( 250 a ) 대신 에 , 예 를 들 어 질소 함유 가스 공급원 으로서 의 N 2 가스 공급원 이 마련 되 어 , 산소 함유 가스 공급 관 ( 232 a ) 이 질소 함유 가스 공급 관 으로서 구성 된다 .