또한 , 상기 소스 가스 영역 , 상기 반응 가스 영역 및 상기 제 1 , 2 퍼지 가스 영역 과 대응 하 는 상기 가스 공급 부 에 는 가스 를 상기 반응 챔버 내부 로 분사 하 는 복수 개 의 분사 공 이 형성 되 는 것 이 바람직 하 다 . 즉 , 상기 가스 공급 부 에 복수 의 가스 분사 공 을 형성 함 으로써 , 상기 가스 공급 부 를 샤워 헤드 ( shower - head ) 로 기능 하 게 할 수 도 있 다 .