상기 공정 - b 에 이어서 , 상기 No . 2 내지 No . 4 의 도전 성막 을 구비 한 샘플 에 대해서 , " "" 활성 화 "" 처리 를 실시 하 였 다 . 구체 적 으로 는 ", 진공 용기 ( 55 ) 내 에 트 르 니트릴 의 가스 를 도입 하 고 , 보조 전극 ( 2 ) 과 보조 전극 ( 3 ) 과 의 사이 에 파고치 20 V 의 구형파 의 전압 펄스 를 , 보조 전극 ( 2 ) 과 보조 전극 ( 3 ) 의 전위 의 관계 를 주기 적 으로 역전 시키 면서 , 반복 인가 하 였 다 . 여기 서 , 펄스폭 은 1 msec . , 펄스 간격 은 10 msec . 로 각각 설정 하 였 다 . 그 결과 , 어느 샘플 도 , " 보조 전극 ( 2 ) 과 보조 전극 ( 3 ) 의 사이 에 흐르 는 전류 가 시간 과 함께 증가 하 였 다 . 보조 전극 ( 2 ) 과 보조 전극 ( 3 ) 의 사이 에 흐르 는 전류 1 mA 정도 에 이른 시점 에서 "" 활성 화 "" 처리 를 종료 하 였 다 . "" 활성 화 "" 처리 를 실시 함 으로써 ", 어느 샘플 에 도 , 도 1 C 에 도시 된 바 와 같이 , 제 1 카본 막 ( 21 a ) 과 제 2 카본 막 ( 21 b ) 이 형성 되 었 다 . 여기 서 , 제 1 카본 막 ( 21 a ) 과 제 2 카본 막 ( 21 b ) 의 사이 에 는 제 2 의 간극 ( 8 ) 이 형성 되 어 제 2 의 간극 ( 8 ) 내 에 위치 하 는 기판 ( 1 ) 의 표면 에 는 오목 부 ( 22 ) 가 형성 되 었 다 .