본 발명 에서 , 플라 즈 마 식각 을 실행 할 때 플 라즈 마 에 있 는 이온 이 직류 구동 가속 VDC 와 RF 직접 구동 가속 VDD 인 이중 구동 구동 가속 을 실현 할 수 있 도록 , 매우 낮 은 특정 주파수 를 저주파 RF 주파수 로 선택 한다 . 도 3 에 나타낸 주기 t 1 내 에서 , 시스 에 있 는 바이어스 전압 ( VDC ) 은 이온 을 아래 방향 으로 운동 시켜 기판 에 충돌 시키 고 ( 직류 구동 가속 VDC 으로 불린다 ) 식각 을 실행 한다 . 동시 에 초저주파 RF 전압 ( VDD ) 도 상기 이온 을 직접 적 으로 구동 하 여 아래 방향 으로 가속 운동 시키 고 기판 에 충돌 시킴 으로써 ( 구동 식각 VDD 으로 불린다 ) 식각 을 실행 한다 .