또한 , 본 발명 에 따른 기판 처리 장치 가 , 저류 된 물 에 기판 을 침지 하 여 그 기판 을 린스 처리 하 는 린스 장치 를 더 구비 하 고 , 상기 린스 장치 는 , 각각 이 상기 처 리조 의 기판 수용 가능 수 미만 의 수 이 며 1 이상 의 기판 을 동시 에 수용 할 수 있 는 복수 의 수 용부 를 갖 도록 해도 좋 다 . 이러 한 기판 처리 장치 에 따르 면 , 물 에 침지 하 여 기판 을 린스 처리 할 수 있 기 때문 에 , 기판 을 신속 하 게 린스 처리 할 수 있 다 . 또한 , 린스 장치 는 복수 의 수 용부 를 갖 고 있 기 때문 에 , 처리 가 끝난 기판 을 다른 수 용부 에 순차 수용 해 갈 수 있 다 . 이러 한 방법 에 따르 면 , 새로이 수 용부 로 반송 되 어 온 기판 에 부착 되 어 있 는 파티클 이 , 그때 까지 수 용부 내 에 수용 되 어 린스 처리 되 어 있 던 기판 에 부착 해 버리 는 것 ( 파티클 의 전사 ) 을 방지 하 는 것 이 가능 해진다 .