도 1 및 도 7 을 참조 로 하 면 , 하 기 에 기술 될 상기 사 입사 조명 방법 은 상기 에 기술 한 사 입사 조명 장치 , 또는 노광 장비 를 사용 하 여 광원 ( 200 ) 으로부터 의 광 을 마스크 ( 100 ) 로 수직 입사 시킨 상태 에서 상기 마스크 스테이지 ( 150 ) 또는 광원 ( 200 ) 을 회전 시킴 으로써 , 상기 마스크 ( 100 ) 로 입사 되 는 광 의 입사각 을 다양 하 게 구현 하 고 , 이 를 통해 상기 마스크 ( 100 ) 의 후면 을 통해 투과 되 는 투과율 을 조절 방법 에 관한 것 이 다 . 여기 서 , 상기 사 입사 조명 방법 에 사용 되 는 사 입사 조명 장치 또는 노광 장비 의 구성 은 상술 한 바 와 동일 한 구성 이 므로 이하 의 설명 에서 는 생략 하 기 로 한다 .