상기 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 반도체 제조 설비 의 다중 리프터 를 갖 는 반도체 제조 설비 의 드라이 크린 방법 은 , 드라이 크린 주기 가 되 었 을 시 공정 완료 된 웨이퍼 가 정 전척 으로부터 외부 로 반송 되 었 는지 검사 하 는 단계 와 , 상기 웨이퍼 가 정 전척 으로부터 반송 되 었 을 시 정전 척 캐소드 부 를 상승 시키 는 단계 와 , 상기 정전 척 캐소드 부 를 상승 시킨 상태 에서 그 상부 로 크린 개스 를 공급 해서 플 라즈 마 를 형성 하 여 드라이 크린 공정 을 진행 하 는 단계 를 포함 함 을 특징 으로 한다 .