구체 적 으로 는 , 실시 예 12 ∼ 16 에 있 어서 는 제조 장치 ( 50 ) 를 이용 하 여 , 상기 실시 예 1 ∼ 5 와 동일 조건 으로 구리 미립자 ( P ) 를 제조 하 고 , 이 미립자 를 후 가 열 처 리부 의 처리 로 내 에 있 어서 후처리 의 불활성 가스 분위기 중 에서 열처리 했 다 ( 후처리 공정 ) . 이 열처리 는 불활성 가스 인 질소 분위기 중 에서 , 300 ℃ 의 온도 에서 3 시간 행했 다 .