반도체 소자 를 제조 하 기 위해 표면 에 회로 및 설계 패턴 이 그려진 포토 마스크 를 사용 하 는 포 토리 소그라 피 공정 이 주로 이용 되 고 있 다 . 포토 마스크 상 에 회로 및 설계 패턴 을 구현 하 고 나 면 , 제작 된 포토 마스크 를 후속 공정 을 수행 하 기 위한 FAB 으로 운반 되 거나 , 포토 마스크 를 사용 하 고자 하 는 이용자 에게 전달 된다 . 이러 한 전달 과정 에서 포토 마스크 를 파티클 이나 기타 오염 물질 로부터 보호 하 기 위해 보관 박스 에 포토 마스크 를 보관 하 는데 , 보관 박스 는 예컨대 , 투명 한 재질 의 플라스틱 로 만들 어 진다 .