상기 투과율 가변 형 투명 기재 구조물 의 제조 공정 을 기본 으로 그 외 여러 가지 조합 에 따른 투과율 가변 형 투명 기재 구조물 의 제조 에 도 다른 필요 한 공정 들 을 부 가 또는 삭제 시켜 적용 할 수 있 다 . 즉 , 도 1 과 도 2 와 같 은 구조 를 갖 는 투과율 가변 형 투명 기재 구조물 은 평상시 에 는 투명 한 상태 로 있 다가 열에너지 를 공급 하 여 투과율 을 변화 시킴 으로써 후방 에서 투사 기 로 영상 을 비추 어 홀로 그래픽 투사 스크린 기능 을 하 거나 후면 투사 스크린 을 구현 하 는 투과율 가변 형 스크린 이 될 수 있 고 , 투과율 가변 형 투명 기재 구조물 을 형성 하 는 하나 의 투명 기재 에 투명 발열 층 을 코팅 하 고 , 나머지 하나 의 투명 기재 를 거울 유리 로 형성 할 경우 평상시 에 는 거울 로 사용 하 다가 필요 할 경우 투명 발열 층 에 전기 를 공급 하 여 발열 시킴 으로써 가변 형 매체 의 광 투과율 을 떨어뜨림 으로써 전방 투사형 스크린 으로 사용 할 수 있 을 것 이 다 .