낮 은 속도 로 증착 하 는 단계 ( S 420 ) 및 높 은 속도 로 SiO 2 절 연막 을 증착 하 여 필름 을 형성 하 는 단계 ( S 430 ) 에서 엘리베이터 서 셉 터 ( 152 ) 의 복수 의 인덱스 테이블 은 순차 적 으로 미리 결정 된 시간 안 에 회전 하 며 , N 개 의 분배 헤드 ( 140 ) 위 로 회전 하 면서 각 분배 헤드 에서 공정 가스 가 분배 되 면서 , 450 ℃ ~ 600 ℃ 의 공정 온도 와 600 torr ~ 800 torr 의 대기압 공정 압력 에서 증착 이 일어난다 .