또한 , 본 발명 의 반도체 장치 의 제조 방법 은 , 각종 레지스 트 패턴 , 예컨대 , 라인 & 스페이스 패턴 , 홀 패턴 ( 컨 택트 홀 용 등 ) , 필러 ( 기둥 ) 패턴 , 트렌치 ( 홈 ) 패턴 , 라인 패턴 등 의 형성 에 적합 하 고 , 상기 반도체 장치 의 제조 방법 에 따라 형성 된 레지스 트 패턴 은 , 예컨대 , 마스크 패턴 , 레티 클 패턴 등 으로서 사용 할 수 있 으며 , 금속 플러그 , 각종 배선 , 자기 헤드 , LCD ( 액정 디스플레이 ) , PDP ( 플 라즈 마디스 플레이 패널 ) , SAW 필터 ( 탄성 표면파 필터 ) 등 의 기능 부품 , 광배 선 의 접속 에 이용 되 는 광 부품 , 마이크 로 액 츄 에 이터 등 의 미세 부품 , 반도체 장치 의 제조 에 적합 하 게 사용 할 수 있 다 .