일반 적 으로 , 무전 해 니켈 도금 법 은 , 탈지 ㆍ정면 → 에칭 ( etching ) → 환원제 처리 → 감수성 화 처리 → 활성 화 처리 → 화학 니켈 도금 → 니켈 스트라이크 ( Ni strike ) → 니켈 도금 → 크롬 도금 의 제조 공정 으로 이루어진다 . 이 와 같이 전해도 금법 에 비해서 다수 의 복잡 한 공정 을 거쳐야 하 기 때문 에 많 은 시간 과 노력 이 필요 하 며 , 도금 용액 의 조성 및 비율 등 의 문제 로 용액 의 관리 가 어려운 문제점 이 있 고 , 또한 실제 도금 과정 에서 기판 표면 에 석출 된 니켈 을 용이 하 게 밀착 시키 고 , 우수 한 밀착 강도 와 전사 성 을 유지 시키 기 위해서 는 여러 가지 도금 전처리 과정 이 필요 하 기 때문 에 보다 단순 한 공정 의 제시 가 필요 하 다 .