레이저 광원 또는 분포 조정부 등 을 사용 하 는 경우 에 는 , 다른 방법 을 사용 하 는 경우 ( 예 를 들 어 , 수 지체 의 주위 의 기체 또는 액체 의 온도 를 상승 시킴 으로써 수 지체 를 가열 하 는 경우 등 ) 에 비하 여 , 염료 를 정착 시키 기 위해 필요 한 시간 을 단축 시키 기 쉽 다 . 한편 , 전자파 를 수 지체 에 조사 하 면 , 수 지체 의 표면 의 온도 가 급격 하 게 상승 하 므로 , 수 지체 의 부위 ( 예 를 들 어 , 중앙부 와 주변 부 의 차이 등 ) 에 따라 온 도차 가 생기 는 경우 가 있 다 . 부위 에 따른 온도 차 가 생기 면 , 염색 품질 이 저하 되 는 경우 가 있 다 . 온도 차 의 발생 방법 은 , 수 지체 의 형상 등 에 따라 다르 다 . 또한 , 수 지체 의 재질 에 따라 전자파 의 조사 방법 을 변경 하 는 것 이 바람직 한 경우 도 있 다 . 이 에 비해 , 본 개시 의 염색 시스템 은 , 각각 의 수 지체 에 따라 , 전자파 에 의한 수 지체 의 가열 을 적절 하 게 제어 할 수 있 다 . 따라서 , 수 지체 가 자동 적 또한 적절 하 게 염색 된다 .