본 발명 은 포토 마스크 의 배면 의 국부 적 인 결함 영역 을 리 페어 하 는 방법 에 관한 것 으로 , 전면 에 광학 패턴 을 구비 한 포토 마스크 의 배면 의 스 크레 치 영역 을 검사 하 는 1 단계 와 상기 포토 마스크 의 전면 의 전체 영역 에 패턴 보호막 층 을 형성 하 는 2 단계 , 그리고 상기 스 크레 치 영역 이 형성 된 포토 마스크 의 배면 을 전체 연마 하 는 3 단계 를 포함 하 여 구성 될 수 있 다 .