본 발명 의 다른 목적 은 자석 을 베 킹 플레이트 면 에서 직선 왕복 운동 시켜 , 타 겟 물질 전체 에 균일 하 게 자기장 을 인가 함 으로써 , 타 겟 물질 의 국부 적 인 영역 들 만 스퍼터링 공정 에 참여 하 는 것 을 방지 하 고 , 타 겟 물질 의 모든 영역 들 이 균일 하 게 스퍼터링 공정 에 참여 시킬 수 있 는 스퍼터링 장치 및 방법 을 제공 하 는 데 있 다 .