본 발명자 는 , 외측 및 / 또는 내측 σ 에서 약간 만 차이 가 나 는 , 2 개 의 고리 모양 의 세팅 에서 급격 한 변화 가 , 100 ㎛ 미만 의 에지 길이 와 4 ° 초과 의 최대 틸 트 각도 를 갖 는 40 , 000 초과 의 미러 를 구비 한 다중 미러 어레이 ( MMA ) 가 예 를 들 면 193 nm 의 파장 을 갖 는 것 에 유용 하 기 만 하 면 , 다중 미러 어레이 ( MMA ) 를 갖 는 투사 노광 장치 에 의해 매우 정확 하 고 , 시간 적 으로 안정 되게 및 재생 가능 하 게 보다 쉽 게 얻 어 질 수 있 는 것 을 발견 하 였 다 . 이것 은 다음 의 고려 사항 이 나타내 는 바 와 같이 , 출사 동공 의 구조 가 개별 미러 의 스폿 에 의해 매우 미세 하 게 구성 될 수 있 고 , 투사 노광 장치 는 사용 자 에게 수용 가능 한 설치 공간 에 장착 될 수 있 기 때문 이 다 .