일 양태 에 따라 , 반도체 에칭 장치 를 개시 한다 . 상기 장치 는 , 반응 챔버 ; 상기 반응 챔버 와 유체 연통 하 고 이 의 상류 에 있 으며 에칭 반응물 증기 를 상기 반응 챔버 에 전달 하 도록 구성 된 중간 챔버 ; 및 상기 중간 챔버 로부터 상기 반응 챔버 내 로 상기 에칭 반응물 증기 를 펄스 화 하 도록 구성 된 제어 시스템 을 포함 할 수 있 다 .