또한 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에 따르 면 , 투영 광학계 ( PL ) ( 투영 유닛 ( PU ) ) 와 그 바로 아래 에 위치 한 웨이퍼 테이블 ( 또는 , 웨이퍼 테이블 상 에 재치 된 웨이퍼 ) 사이 의 공간 에 액침 영역 ( 14 ) 을 형성 한 상태 에서 , 양 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 사이 의 간극 으로부터 액체 가 누설 됨 이 없이 , 전술 한 제 1 상태 로부터 제 2 상태 로 , 또는 역 으로 제 2 상태 로부터 제 1 상태 로 의 천이 가 가능 하 게 된다 . 이 는 , 스크럼 상태 에서 상호 대향 하 는 측 의 면 에 설치 된 반사 미러 ( 27 e 및 27 f ) 의 반사면 을 액체 에 의해 젖 지 않 게 유지 할 것 이 고 , 이 는 XZ 간섭계 ( 116 , 117 , 126 , 및 127 ) 에 의한 , 반사 미러 ( 27 e 및 27 f ) 의 반사면 을 이용 한 웨이퍼 스테이지 의 위치 계측 의 높 은 안정 성 을 보장 한다 .