상기 구성 2 에 따른 발명 에서 , 금속 실리사이드 를 함유 하 는 재료 로 이루어지 는 차광성 막 은 , 웨트 에칭 에 의해 고정 밀도 의 패턴 을 형성 할 수 있 는 이점 이 있 다 . 또한 , 금속 실리사이드 를 함유 하 는 재료 로 이루어지 는 차광성 막 을 웨트 에칭 할 때 , 하층 의 크롬 을 함유 하 는 재료 로 이루어지 는 반 투광 성 막 은 , 금속 실리사이드 를 함유 하 는 재료 의 에칭 액 에 대해 , 충분 한 내성 을 갖 기 때문 에 , 데미지 를 받 기 어렵 다 . 이 들 때문 에 , 상기 구성 2 에 따른 발명 은 웨트 프로세스 에 적합 하 다 .