보호막 도포 챔버 ( 610 ) 는 액침 노광 시 에 레지스 트 막 을 보호 하 는 보호막 을 기판 ( W ) 상 에 도포 한다 . 보호막 도포 챔버 ( 610 ) 는 하우징 ( 611 ) , 지지 플레이트 ( 612 ) , 그리고 노즐 ( 613 ) 을 가진다 . 하우징 ( 611 ) 은 상부 가 개방 된 컵 형상 을 가진다 . 지지 플레이트 ( 612 ) 는 하우징 ( 611 ) 내 에 위치 되 며 , 기판 ( W ) 을 지지 한다 . 지지 플레이트 ( 612 ) 는 회전 가능 하 게 제공 된다 . 노즐 ( 613 ) 은 지지 플레이트 ( 612 ) 에 놓인 기판 ( W ) 상 으로 보호막 형성 을 위한 보호액 을 공급 한다 . 노즐 ( 613 ) 은 원형 의 관 형상 을 가지 고 , 기판 ( W ) 의 중심 으로 보호액 을 공급 할 수 있 다 . 선택 적 으로 노즐 ( 613 ) 은 기판 ( W ) 의 직경 에 상응 하 는 길이 를 가지 고 , 노즐 ( 613 ) 의 토출구 는 슬릿 으로 제공 될 수 있 다 . 이 경우 , 지지 플레이트 ( 612 ) 는 고정 된 상태 로 제공 될 수 있 다 . 보호액 은 발포성 재료 를 포함 한다 . 보호액 은 포토 레지스터 및 물 과 의 친화력 이 낮 은 재료 가 사용 될 수 있 다 . 예컨대 , 보호액 은 불소 계 의 용제 를 포함 할 수 있 다 . 보호막 도포 챔버 ( 610 ) 는 지지 플레이트 ( 612 ) 에 놓인 기판 ( W ) 을 회전 시키 면서 기판 ( W ) 의 중심 영역 으로 보호액 을 공급 한다 .