도 4 의 결과 에서 반사 방지 막 식각 단계 에서 CD 편차 조절 을 위한 주요인 이 Cl 2 / O 2 가스 비 로 나타나 는 이유 는 O 2 양 이 증가 함 에 따라 유기 물질 의 감광막 및 반사 방지 막 과 Cl 래디컬 에 의해 형성 되 는 C - Cl 계열 의 폴리머 가 O 2 와 반응 하 여 자유 염소 ( Chlorine ) 의 증가 및 감 괌 막 측벽 의 폴리머 패 시베이 션 ( polymer passivation ) 의 양 이 줄 어 CD 편차 가 커지 기 때문 이 다 . 또한 , Cl 2 / O 2 가스 비 조합 을 이용 하 면 다른 공정 변수 를 바꾸 지 않 아도 20 nm 내지 35 nm 까지 CD 를 조절 할 수 있 다 .