도 4 d 는 본 발명 의 다른 실시 형태 에 따른 , 근접 헤드 ( 405 ) 의 저 면도 를 나타내 는 도면 이 다 . 본 실시 형태 에서 , 린스 유체 분배 포트 ( 422 ) 는 근접 헤드 ( 405 ) 의 길이 를 따라 동심 형 으로 위치 한 연속 채널 로서 정의 된다 . 또한 , 본 실시 형태 에서 , 진공 포트 ( 424 ) 는 린스 유체 분배 포트 ( 422 ) 주변 에 , 그리고 근접 헤드 ( 405 ) 의 하 부면 의 둘레 주위 에 배치 된 연속 적 인 고리 모양 채널 로서 정의 된다 . 도 4 c 및 도 4 d 에 대하 여 개시 된 실시 형태 는 예시 의 방식 으로 제공 되 고 , 린스 유체 분배 포트 ( 422 ) 및 진공 포트 ( 424 ) 에 대해 가능 한 구성 의 포괄 적 인 세트 를 나타내 도록 의도 되 지 않 는다 . 다른 실시 형태 에서 , 근접 헤드 ( 405 ) 의 린스 유체 분배 포트 ( 422 ) 및 진공 포트 ( 424 ) 는 기본 적 으로 임의 의 방식 으로 구성 될 수 도 있 으며 , 이 방식 들 은 다음 을 제공 한다 : 1 ) 기판 ( 403 ) 으로부터 세정 재료 및 그 안 에 포집 된 오염물 을 제거 하 도록 기판 ( 403 ) 에 대한 린스 유체 ( 227 ) 의 충분 한 제어 된 유동 , 및 2 ) 매 니스 커스 ( 427 ) 를 제어 된 방식 으로 유지 하 기 .