도 6 ( a ) 은 도 5 ( a ) 에서 도시 되 는 격자 ( 52 내지 55 ) 의 동일 한 세트 를 도시 한다 . 그러나 , 스팟 ( 51 / 51 ') 으로 격자 ( 52 및 53 ) 를 순차 적 으로 조명 하 는 대신 , 본 개시 에 따라 수정 되 는 검사 장치 ( 400 ) 는 , 두 개 의 스팟 ( 61 a 및 61 b ) 으로 격자 ( 52 및 53 ) 를 동시 에 조명 하 도록 배열 된다 . 도 6 ( b ) 는 , 검출 시스템 ( 418 ) 내 의 이미지 센서 상 에서 결과 적 으로 나타나 는 회절 스펙트럼 ( 618 ) 을 도시 한다 . 이제 , X 및 Y 방향 둘 모두 에서 회절 차수 가 동시 에 포착 된다는 것 을 알 수 있 다 . 회절 의 방향 이 두 개 의 격자 ( 52 및 53 ) 사이 에서 상이 하 기 때문 에 , 상이 한 격자 와 의 방사선 의 상호 작용 에 의해 생성 되 는 회절 스펙트럼 의 밝 은 영역 은 이미지 센서 상 에서 공간 적 으로 분리 된다 . 영역 ( 660 x + 및 660 x -) 은 격자 ( 52 ) 의 회절 스펙트럼 의 대향 하 는 부분 에 대응 하 고 , 한편 영역 ( 660 y + 및 660 y -) 은 격자 ( 53 ) 의 회절 스펙트럼 의 대향 하 는 부분 에 대응 한다 . 센서 는 , 많 은 수 의 픽셀 을 갖 는 이미지 센서 일 필요 는 없 다 . 센서 가 충분 한 방사선 검출 엘리먼트 를 갖 는다면 그리고 그 들 이 X 및 Y 회절 영역 을 혼합 하 지 않 도록 그 들 이 위치 된다면 , X 방향 에서 의 격자 ( 52 ) 의 비대칭 성 ( Ax ) 은 Y 방향 에서 의 격자 ( 53 ) 의 비대칭 성 ( Ay ) 과 동일 한 조명 및 검출 단계 를 사용 하 여 측정 될 수 있 다 . 추가 적 인 비대칭 성 값 을 획득 하 기 위해 , 다른 두 격자 ( 54 및 55 ) 에 대해 프로세스 는 반복 될 수 있 고 , 그러므로 , 각각 의 방향 X 및 Y 에서 의 오버레이 값 은 도 5 의 방법 에서 의 조명 및 검출 단계 의 절반 의 수 를 사용 하 여 획득 될 수 있 다 . 이 방법 은 또한 , 임의 의 두 개 의 비 평행 방향 과 함께 사용 될 수 있 으며 , 직교 방향 X 및 Y 는 , 단지 일반 적 인 예 로서 만 인용 된다는 것 이 이해 될 것 이 다 . 방법 은 , 방향 이 서로 평행 하 지 않 다면 , 두 개 보다 많 은 방향 과 함께 또한 적용 될 수 있 다 .