본 발명 의 또 다른 목적 은 , 실제 예 를 들 면 , 석회 공정 과 비 교시 , 보다 작 은 재 광화 유닛 의 사용 을 허용 하 는 , 석회석 에 의한 재 광화 공정 을 제공 하 거나 , 또는 보다 적 은 부피 의 재 광화 화합물 의 사용 을 허용 하 는 재 광화 공정 을 제공 하 는 것 이 다 . 또한 , 석회석 층 여과 공정 보다 더 작 은 플랜트 표면 상 에서 조작 될 수 있 는 공정 을 제공 하 는 것 도 바람직 하 다 .