상기 제 4 공 급부 ( 140 ) 는 상기 제 2 물질 ( M 2 ) 이 이동하 는 제 4 공 급로 ( 141 ) 및 상기 제 2 물질 ( M 2 ) 이 분사 되 는 제 4 분사구 ( 143 ) 를 포함 할 수 있 다 . 상기 제 4 분사구 ( 143 ) 는 상기 제 3 분사구 ( 133 ) 로부터 일정 간격 이격 되 어 위치 할 수 있 다 . 상기 제 4 분사구 ( 143 ) 는 상기 가상 의 회전축 ( 1 ) 으로부터 제 4 거리 ( D 4 ) 만큼 이격 되 어 위치 할 수 있 다 .