먼저 , 종래 에 는 거대 한 마스크 를 이용 하 여 미세 한 탐침 끝 부분 을 형성 하 는 과정 에서 공정 변수 에 의해 소자 성능 이 크 게 좌지우지 되 는 문제 가 있 었 다 . 이러 한 문제 를 해결 하 기 위해 처음 부터 팁 ( tip ) 형성 을 위한 마스크 의 크기 를 매우 작 은 크기 로 제작 하 였 다 ( 도 3 g 참조 ) . 그리고 , 상용 화 가능 하 면서 도 작 은 크기 의 마스크 형성 을 위해서 는 측벽 영역 을 이용 한 방법 을 사용 하 였 다 .