연마 완료 연마 대상물 의 표면 에 잔류 하 는 잔사 를 충분히 제거 하 는 수단 을 제공 하 는 것 을 목적 으로 한다 . 술폰산 ( 염 ) 기 , 인산 ( 염 ) 기 , 포스폰산 ( 염 ) 기 , 카르복실 산 ( 염 ) 기 및 아미노기 로 이루어지 는 군 으로부터 선택 되 는 적어도 1 종 의 이온 성 관능기 를 갖 는 고분자 화합물 과 , 물 을 함유 하 고 , pH 값 이 7 미만 이 며 , 상기 고분자 화합물 은 , pKa 가 3 이하 이 고 , 또한 중량 평균 분자량 이 3 , 500 이상 100 , 000 이 하인 , 표면 처리 조성물 이 다 .