여기 서 , 제 2 에칭 은 제 1 도 전막 의 사이드 에칭 을 수반 하 는 조건 에 의해 행하 기 때문 에 , 제 1 도전 막 은 상기 패턴 형성 된 박막 적층 체 보다 내측 으로 후퇴 한다 . 따라서 , 제 2 에칭 후 의 제 1 도 전막 의 측면 은 , 패턴 형성 된 박막 적층 체의 측면 보다 내측 에 존재 한다 . 또한 , 패턴 형성 된 제 1 도 전막 의 측면 과 패턴 형성 된 박막 적층 체의 측면 과 의 간격 은 대략 동일 한 것 이 된다 .