5 , 000 MW α , ω - 비스 메타크릴 옥시 프로필 폴 리디 메틸 실록 산 , TRIS 및 DMA 를 희석제 로서 의 3 급 - 부탄올 과 함께 UV 경화 시킴 으로써 약 1 g 의 중합체 를 형성 하 고 , 실온 에서 15 ( 중량 ) % 에 톡 실화 노닐 페놀 ( Ethal NP - 9 ) 수용액 50 g 중 에 밤새 침지 시킨 후 , 비 등수 에 5 시간 동안 액침 시킨다 . 중합체 를 50 ㎖ 의 탈 이온 수 로 3 회 세정 한다 . 최종 적 으로 생성 된 중합체 를 , 침출 처리 되 지 않 은 중합체 와 비교 하 여 , 잔류 PDMS , TRIS 및 DMA 에 대해 분석 한다 . 그 결과 를 표 1 에 기재 한다 .