마스크 부 ( 412 R , 412 L ) 가 마련 되 어 있 지 않 은 경우 , 원형 으로 부착 된 염료 의 중앙부 에 조사 되 는 전자파 의 강도 는 , 염료 의 주변 부 에 조사 되 는 전자파 의 강도 보다 커진다 . 또한 , 원형 의 염료 의 중앙부 의 열 은 , 주변 부 의 열 에 비하 여 발산 되 기 어렵 다 . 따라서 , 원형 의 염료 의 중앙부 에 조사 되 는 전자파 가 , 마스크 부 ( 412 R , 412 L ) 에 의해 차단 됨 으로써 , 염료 의 중앙부 의 온도 가 주변 부 의 온도 에 비하 여 과도 하 게 상승 하 는 것 이 억제 된다 . 그 결과 , 염료 가 균일 하 게 렌즈 ( L ) 에 전사 되 기 쉬워진다 .