본 발명 에 따르 면 , 일정 한 차광 패턴 등 의 광학 패턴 을 포함 하 는 포토 마스크 의 배면 의 국부 적 인 결함 을 리 페어 하 기 위해 , 광학 패턴 의 형성 된 포토 마스크 의 전면 을 포토레지스트 등 의 감광성 물질 층 으로 보호막 을 형성 하 고 , 포토 마스크 의 배면 을 전체 적 으로 연마 하 는 공정 을 통해 , 국부 연마 로 인한 리 페어 의 비 효율 성 을 제거 하 고 , 제 조공 정상 의 장비 를 그대로 이용 하 여 리페 어 공정 의 효율 성 을 증진 시킬 수 있 는 효과 가 있 다 .