여기 서 , 본 제 4 실시 형태 에 있 어서 의 포커스 매핑 이 란 , Z 헤드 ( 171 p , 173 q ) 와 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 가 동시 에 작동 하 고 있 는 상태 에서 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) ( 또는 WST 2 ) 가 + Y 방향 으로 진행 되 고 있 는 동안 에 ( 도 51 ∼ 도 55 참조 ) , 소정 의 샘플링 간격 으로 Z 헤드 ( 171 p , 173 q ) 에서 계측 되 는 웨이퍼 테이블 ( WTB 1 ) ( 또는 WTB 2 ) 표면 ( 플레이트 ( 28 ) 의 표면 , 구체 적 으로 는 이동 스케일 ( 39 B , 39 A ) 의 표면 ) 의 Z 축 방향 에 관한 위치 정보 ( 면 위치 정보 ) 와 , 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 에서 검출 되 는 복수 의 검 출점 에 있 어서 의 웨이퍼 ( W 1 ) ( 또는 W 2 ) 표면 의 Z 축 방향 에 관한 위치 정보 ( 면 위치 정보 ) 를 읽 어 들 이 고 , 그 읽 어 들인 각 면 위치 정보 와 각 샘플링 시 의 인코더 ( 170 C , 170 D ) 의 계측 값 의 3 자 를 서로 대응 시켜 도시 가 생략 된 메모리 에 순서 대로 저장 하 는 처리 를 가리킨다 .