상기 본 발명 의 또 다른 과제 를 달성 하 기 위한 예시 적 인 실시 예 들 에 따른 기판 처리 장치 는 기판 을 처리 하 기 위한 공간 을 제공 하 는 챔버 , 상기 챔버 내 에 배치 되 며 상기 기판 이 안착 되 는 기판 플레이트 , 상기 기판 플레이트 내부 에서 상하 이동 가능 하 도록 설치 되 어 상기 기판 을 지지 하 는 복수 개 의 리프트 핀 들 , 상기 챔버 내 로 로딩 되 어 상기 기판 플레이트 로부터 상승 된 복수 개 의 리프트 핀 들 상 에 배치 되 는 레벨 링 센서 , 상기 레벨 링 센서 로부터 상기 리프트 핀 들 이 이루 는 평면 의 각도 를 나타내 는 롤 ( φ ) 및 피치 ( θ ) 의 측정값 들 을 수신 하 여 상기 평면 의 회전 변환 행렬 ( T ) 을 산출 하 고 상기 회전 변환 행렬 ( T ) 을 이용 하 여 상기 평면 이 지면 과 평행 이 되 도록 상기 리프트 핀 들 의 이동 거리 들 을 산출 하 고 상기 리프트 핀 들 을 수평 상태 로 정렬 하 기 위한 리프트 핀 제어 신호 를 출력 하 는 제 어부 , 및 상기 리프트 핀 제어 신호 에 따라 상기 리프트 핀 들 을 이동 시키 기 위한 리프트 핀 구동 부를 포함 한다 .