히팅 플레이트 의 상부 면 ( 33 ) 과 테두리 ( 40 ) 의 측벽 ( 43 ) 그리고 테두리 ( 40 ) 안착 되 는 기판 ( W ) 에 의해 열전달 가스 수 용부 ( 36 ) 가 형성 된다 . 테두리 ( 40 ) 의 측벽 ( 43 ) 을 따라 복수 의 가스 분사구 ( 39 ) 가 형성 되 며 , 복수 의 가스 분사구 ( 39 ) 를 통해서 열전달 가스 수 용부 ( 36 ) 로 열전달 가스 가 분사 된다 . 테두리 ( 40 ) 의 내부 를 따라서 가스 공급 로 ( 38 ) 가 형성 되 며 , 가스 공급 로 ( 38 ) 는 복수 의 가스 분사구 ( 39 ) 와 연결 된다 .