[ 0029 ] 도 7 및 도 8 에서 설명 되 는 실시 예 들 에서 , 정형 된 바이어스 파형 생성기 ( 130 ) 는 선택 적 이 며 , 펄스 형 DC 소스 들 ( 702 및 802 ) 은 , 바이어 싱 제어기 ( 140 ) 에 의해 각각 의 소스 에 걸친 전압 들 을 제어 함 으로써 , 조정 된 이온 분포 들 을 제공 한다 . 정형 된 바이어스 파형 생성기 ( 130 ) 는 워크 피스 에 걸친 이온 분포 의 조정 을 향상 시키 기 위해 , 또는 워크 피스 의 특화 된 피처 ( specialized feature ) 들 내 의 이온 주입 을 위해 포함 될 수 있 다 .