극자외선 ( EUV ) 의 파장 ( 13 . 5 nm ) 은 ArF 엑 시머 레이저 의 파장 ( 193 nm ) 의 1 / 10 보다 짧 기 때문 에 , EUV 리소그래피 는 빛 의 콘트 라스트 가 높 아 고해 상 이 기대 된다 . EUV 는 단파장 이 며 에너지 밀도 가 높 기 때문 에 , 소량 의 포톤 에 산 발생 제 가 감광 한다 . EUV 노광 으로 이용 가능 한 포톤 의 수 는 ArF 노광 의 1 / 14 이 라고 여겨 지 고 있 다 . EUV 리소그래피 에서 는 , 포톤 수 의 불 균일 에 의해서 라인 패턴 의 에지 러프 니스 ( LER , LWR ) 또는 홀 패턴 의 임계 치수 균일성 ( CDU ) 이 떨어지 는 현상 이 문제 시 되 고 있 다 .