세포 배양 장치 ( 10 ) 는 임의 의 적합 한 재료 로 제조 될 수 있 다 . 일 실시 예 에서 , 세포 배양 챔버 가 세포 배양 배지 로 완전히 채워 지 고 세포 배양 장치 내 에 포함 된 모든 가스 가 필터 ( 20 ) 를 통해 배출 되 도록 세포 배양 장치 가 설계 된다 . 세포 배양 장치 ( 10 ) 가 액체 시스템 만 으로 구성 되 는 경우 , 장치 는 세포 배양 챔버 와 세포 배양 장치 의 주위 와 의 사이 에서 가스 교환 을 허용 하 는 가스 투과성 부분 을 포함 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 일 실시 예 에서 , 각각 의 세포 배양 챔버 는 가스 투과성 필름 에 의해 형성 된 가스 투과성 섹션 을 포함 할 수 있 다 . 가스 투과성 필름 은 세포 배양 챔버 의 적어도 일부 를 형성 할 수 있 고 챔버 와 주변 환경 사이 에서 가스 가 전달 되 도록 한다 . 그러나 , 가스 투과성 필름 은 또한 액체 불 투과 성 으로 설계 될 수 있 다 . 일 실시 예 에서 , 예 를 들 어 , 세포 배양 장치 ( 10 ) 는 가스 투과성 필름 에 인접 하 여 위치 된 장치 내 의 가스 공간 을 포함 할 수 있 다 . 이 공간 은 필름 이 외부 환경 과 가스 를 교환 할 수 있 게 한다 . 예 를 들 어 , 일 실시 예 에서 , 세포 배양 장치 ( 10 ) 는 가스 유동 을 촉진 시키 기 위한 스 페이서 층 을 포함 할 수 있 다 .