도 2 e 에 도시 된 바 와 같이 , 스토리지 노드 콘 택 홀 ( 25 ) 내부 에 매립 되 어 있 던 보호막 ( 26 ) 을 제거 한다 . 보호막 ( 26 ) 이 감광막 이 므로 , 산소 플 라즈 마 를 이용 한 스트립 공정 을 통해 보호막 ( 26 ) 을 제거 한다 . 이때 , 보호막 ( 26 ) 주변 의 층간 절 연막 ( 22 ) 은 산소 플 라즈 마 에 대해 선택 비 가 높 아서 식각 되 지 않 기 때문 에 보호막 ( 26 ) 을 제거 하 는 동안 스토리지 노드 콘 택 홀 ( 25 ) 의 탑 어택 이 발생 하 지 않 는다 .