도 3 a 내지 도 3 c 는 본 발명 의 일부 실시 예 에 따라 , 평행 에지 ( 97 ) 를 갖 는 주기 적 구조 를 갖 는 계측 타 겟 ( 95 ) 의 이미지 를 도시 하 는데 , 이 로부터 계측 메트 릭 을 계산 하 기 위한 개략 도 로서 도시 되 어 있 다 . 도 3 a 는 계측 타 겟 ( 95 ) 을 도시 한다 . 타 겟 ( 95 ) 의 주기 적 인 구조 는 거친 피치 에 의해 특징 지워 지 며 , 미세 세그먼트 화 피치 에 의해 타 겟 요소 들 로 구성 된 더 미세 한 주기 적 인 구조 로 더 세분 화 될 수 있 다 ( 예 를 들 어 , 도 4 a 및 4 c 참조 ) . 미세 세그먼트 화 는 이하 에서 설명 및 분석 된 바 와 같이 , 라인 에지 특성 의 영향 을 증가 시킨다 . 도 3 b 는 타 겟 ( 95 ) 상 에 규정 된 관심 영역 ( ROI ) ( 98 ) 을 도시 한다 . 도 3 c 는 계측 메트 릭 에 대한 비 제한 적 예 로서 커널 3 시그마 ( K 3 S ) 의 계산 에 대한 예 를 제공 하 며 , K 3 S 메트 릭 은 마크 ( 타 겟 ) 충실 도 를 나타낸다 .