얇 은 반도체 층 , 예컨대 얇 은 a - Si 층 을 어닐링 하 기 위한 장치 는 긴 라인 에 충분 한 펄스 에너지 를 제공 하 기 위해 다수 의 레이저 빔 을 필요 로 한다 . 다수 의 레이저 빔 이 사용 되 는 경우 , 도 3 a 및 도 3 b 의 광학 시스템 ( 30 ) 은 제 1 및 제 2 변환 장치 ( 32 a , 32 b ) 와 축소 실린더 렌즈 망원경 장치 ( 54 ) 를 가진 빔 경로 가 각각 의 레이저 빔 에 대해 병렬 로 형성 되 도록 변경 된다 . 아 나모 픽 균일화 장치 ( 56 ) 및 콘덴서 렌즈 ( 58 ) 를 가진 빔 형성 장치 ( 34 ) 그리고 원통형 렌즈 장치 ( 60 ) 는 모든 레이저 빔 에 대해 공통 적 으로 사용 된다 . 이러 한 방식 으로 , 추가 라인 들 이 이미지 평면 에서 중첩 된다 .