또 , 이상 에 기재 된 실시 형태 에 의하 면 , 기판 처리 장치 는 , 기판 ( W ) 에 대하 여 , 약액 을 공급 하 기 위한 약액 공급 부 와 , 기판 ( W ) 에 대하 여 , 세정액 을 공급 하 기 위한 세정액 공급 부 를 구비 한다 . 여기 서 , 약액 공급 부 는 , 예 를 들 어 , 약액 노즐 ( 52 ) 에 대응 하 는 것 이 다 . 또 , 세정액 공급 부 는 , 예 를 들 어 , 세정액 노즐 ( 64 ) 에 대응 하 는 것 이 다 . 그리고 , 제 어부 ( 7 ) 는 , 약액 노즐 ( 52 ) 로부터 약액 이 공급 되 고 있 는 동안 의 이면 차 단판 ( 170 ) 과 기판 ( W ) 사이 의 거리 보다 , 세정액 노즐 ( 64 ) 로부터 세정액 이 공급 되 고 있 는 동안 의 이면 차 단판 ( 170 ) 과 기판 ( W ) 사이 의 거리 가 길 어 지 도록 , 이 동부 ( 190 ) 의 동작 을 제어 한다 . 이 와 같 은 구성 에 의하 면 , 기판 ( W ) 의 하면 에 대한 약액 의 돌 아 들어감 을 억제 하 며 , 또한 , 세정액 에 의해 기판 ( W ) 의 하 면 이 세정 되 는 범위 를 넓 게 확보 할 수 있 다 .