이 와 같이 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 오프셋 축 OS 에 따른 수평 이동과 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 회전 에 의해 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 상 의 웨이퍼 W 의 중심 wf 를 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 C 2 상 에 위치 시킬 수 있 다 . 본 실시 예 에서 도 센터 링 스테이지 ( 10 ) 상 의 웨이퍼 W 의 중심 wf 가 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 C 2 상 에 위치 할 때 까지 센터 링 스테이지 ( 10 ) 를 이동 및 회전 시키 는 센터 링 동작 을 실행 하 기 위한 얼라 이너 는 , 센터 링 스테이지 회전 기구 ( 36 ) 와 , 이동 기구 ( 41 ) 와 , 동작 제 어부 ( 75 ) 로 구성 된다 . 일 실시 형태 에서 는 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 회전 을 먼저 행하 고 , 다음 으로 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 오프셋 축 OS 에 따른 이동 을 행해도 된다 . 센터 링 동작 을 보다 단시간 에 완료 시키 기 위해 , 이동 기구 ( 41 ) 및 센터 링 스테이지 회전 기구 ( 36 ) 는 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 오프셋 축 OS 에 따른 수평 이동과 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 회전 을 동시 에 실행 해도 된다 .