평탄 화 처리 전 의 유리 표면 에 는 연마 입자 의 잔류물 인 산화 세륨 ( CeO 2 ) 이 유리 기판 표면 에 부착 되 고 있 는 것 이 관찰 되 었 지만 ( 도 29 a 참조 ) , 평탄 화 처리 후 의 유리 기판 의 표면 에 는 CeO 2 가 제거 되 고 있 음 을 확인 할 수 있 었 다 ( 도 29 b 참조 ) . 또한 평탄 화 처리 전후 에 있 어서 , 유리 기판 에 포함 되 는 세륨 ( Ce ) 의 농도 가 , 4 . 1 × 1011 에서 6 . 7 × 1010 atoms / cm 3 로 감소 하 고 있 으며 ( 도 30 참조 ) , 평탄 화 처리 를 함 으로써 유리 기판 에 포함 되 는 세륨 을 저감 할 수 있 음 을 확인 할 수 있 었 다 . 또한 평탄 화 처리 전후 에 있 어서 , 유리 기판 의 표면 의 표면 거칠 기 ( Ra ) 가 0 . 34 nm 에서 0 . 22 nn 로 저감 하 고 , P - V 가 9 . 4 nm 에서 3 . Onm 로 저감 하 고 있 으며 , 플라 즈 마 처리 를 이용 하 여 평탄 화 처리 를 함 으로써 , 유리 기판 의 표면 의 평탄 성 을 향상 할 수 있 음 을 확인 할 수 있 었 다 .