격벽 재 ( 203 m ) 에 형성 된 패턴 은 방전 셀 을 구획 하 기 위한 격벽 용 패턴 과 현상액 의 과 현상 으로부터 격벽 을 보호 하 기 위한 보호 벽용 패턴 을 포함 한다 . 보호 벽용 패턴 에 해당 하 는 보호 벽용 격 벽재 ( 203 mp ) 는 제 2 기판 ( SUB 2 ) 의 중심 으로부터 최외각 에 형성 된 격벽 용 격벽 재 ( 203 mb - 1 ) 의 바깥쪽 에 하나 이상 형성 된다 . 격벽 용 격벽 재 ( 203 mb ) 는 격벽 용 패턴 에 해당 한다 .