도 1 은 본 실시 형태 에 관한 유량 비율 제어 장치 ( 100 ) 를 나타내 는 모식 적 개략 도 이 다 . 이 유량 비율 제어 장치 ( 100 ) 는 , 예 를 들 면 반도체 제조 용 의 원료 가스 를 소정 비율 로 분류 하 여 반도체 프로세스 챔버 에 공급 하 는 것 이 고 , 도시 하 지 않 은 반도체 제조 시스템 의 일부 를 구성 한다 . 그러나 이것 은 메인 유로 ML 의 종단 으로부터 분기 시킨 2 개 의 분기 유로 BL 1 , BL 2 상 에 동일 한 유량 제어 장치 인 매스 플로우 컨트롤러 MFC 1 , MFC 2 를 각각 설치 하 고 , 이 들 매스 플로우 컨트롤러 MFC 1 , MFC 2 를 제어 하 기 위한 제어 처리 기구 C 를 구비 한 것 이 다 .