단계 S 21 에서 , 리소그래피 제조 시스템 을 사용 하 여 기판 에 걸쳐 구조 체가 제조 된다 . S 22 에서 , 계측 장치 ( 140 ) 및 옵션 사항 으로 다른 계측 장치 및 정보 소스 는 기판 에 걸친 구조 체의 속성 을 측정 하 기 위해 사용 된다 . 상기 에서 기술 되 는 , 본 개시 의 원리 에 따르 면 , 제 1 방향 및 제 2 방향 과 관련 하 여 , 조명 검출 단계 마다 두 개 이상 의 타 겟 의 속성 이 측정 된다 . 이러 한 방식 으로 다수 의 바이어 싱 된 타 겟 을 측정 하 는 것 에 의해 , 오버레이 와 같 은 성능 파라미터 가 기판 에 걸친 하나 이상 의 위치 에서 측정 된다 .