도 3 을 참조 하 면 , 실리콘 나이트 라이드 멤 브레인 박막 이 상하 로 노출 되 어 구현 된 구조 체 ( 100 ) 는 탈 이온 수 ( DIW , 400 ) 를 수용 하 는 배스 ( 210 ) 내 에 침지 된 형태 로 배치 된다 . 이 과정 에서 실리콘 나이트 라이드 멤 브레인 박막 이 상하 로 노출 되 어 구현 된 구조 체 ( 100 ) 는 탈 이온 수 ( DIW , 400 ) 에 의하 여 세정 ( rinse ) 된다 .