일부 구 현예 에서 , 기판 상 에 희생 마스킹 층 을 생성 하 기 위한 기판 처리 장치 가 제공 될 수 있 다 . 상기 기판 처리 장치 는 , 상기 기판 처리 장치 와 리 쏘 그래피 투영 장치 사이 에 기판 을 이송 하 기 위한 리 쏘 입력 / 출력 포트 를 포함 할 수 있 다 . 상기 기판 처리 장치 는 , 상기 희생 마스킹 층 을 생성 하 기 위해 반응 챔버 내 에서 복사선 개질 및 비 개질 층 부분 중 하나 와 반응 하 고 상기 복사선 개질 및 비 개질 층 부분 의 다른 하나 와 반응 하 지 않 도록 선택 된 제 1 전구체 를 제공 하 는 , 선택 적 증착 장치 를 구비 할 수 있 다 . 상기 장치 는 , 상기 리 쏘 입력 / 출력 포트 와 상기 선택 적 증착 장치 사이 에 기판 을 이송 하 기 위한 기판 핸들러 를 포함 할 수 있 다 . 상기 장치 는 , 상기 기판 핸들러 및 상기 선택 적 증착 장치 에 작동 가능 하 게 연결 된 제어 시스템 을 포함 할 수 있 다 . 상기 제어 시스템 은 , 상기 제어 시스템 에서 실행 되 는 경우 다음 을 제어 하 기 위한 프로그램 을 갖 는 메모리 를 구비 할 수 있 어서 , 기판 핸들러 로 하여금 리 쏘 입력 / 출력 포트 로부터 기판 을 픽업 하 고 이 를 선택 적 증착 장치 로 이동 시키 고 ; 상기 선택 적 증착 장치 로 하여금 , 상기 희생 마스킹 층 을 생성 하 기 위해 상기 반응 챔버 내 에서 복사선 개질 및 비 개질 층 부분 중 하나 와 반응 하 고 상기 복사선 개질 및 비 개질 층 부분 의 다른 하나 와 반응 하 지 않 도록 선택 된 제 1 전구체 를 제공 시킨다 .