[ 형태 1 ] 형태 1 에 의하 면 , 기판 을 국소 적 으로 연마 하 기 위한 연마 장치 가 제공 되 고 , 이러 한 연마 장치 는 , 기판 에 접촉 하 는 가공 면 이 기판 보다 도 작 은 연마 부재 와 , 상기 연마 부재 를 기판 에 가압 시키 기 위한 가압 기구 와 , 상기 연마 부재 에 , 기판 의 표면 에 평행 한 제 1 운동 방향 으로 운동 을 부여 하 기 위한 제 1 구동 기구 와 , 상기 제 1 운동 방향 으로 수직 이 며 또 한 기판 의 표면 에 평행 한 방향 으로 성분 을 갖 는 제 2 운동 방향 으로 , 상기 연마 부재 에 운동 을 부여 하 기 위한 제 2 구동 기구 와 , 연마 장치 의 동작 을 제어 하 기 위한 제어 장치 를 갖 고 , 기판 을 연마 하 고 있 을 때 , 상기 연마 부재 는 , 기판 에 접촉 하 고 있 는 영역 위 의 임의 의 점 이 동일 한 상기 제 1 운동 방향 으로 운동 하 도록 구성 되 고 , 상기 제어 장치 는 , 상기 연마 부재 를 사용 하 여 기판 을 국소 적 으로 연마 하 도록 , 상기 제 1 구동 기구 및 제 2 구동 기구 의 동작 을 제어 하 도록 구성 된다 . 형태 1 에 의한 연마 장치 에 의하 면 , 연마 부재 를 기판 에 가압 하 면서 제 1 운동 방향 으로 운동 시켜 기판 을 연마 함 과 함께 , 제 2 운동 방향 으로 연마 부재 를 이동 시킴 으로써 , 가공 흔 형상 의 변동 을 저감 시킬 수 있 다 .