본 발명 의 세정제 조성물 은 , 이 와 같 은 방식제 를 포함 한 연마제 로 연마 한 후 의 기판 표면 에 적용 하 면 , 이 들 방식제 에서 유래 한 오염 을 매우 효과 적 으로 제거 할 수 있 는 점 에서 우수 하 다 . 즉 , 연마제 중 에 이 들 방식제 가 존재 하 면 , Co 막 표면 의 부식 을 억제 하 는 반면 , 연마 시 에 용출 된 Co 이온 과 반응 하 여 , 다량 의 불용성 석출 물 을 발생 시킨다 . 본 발명 의 세정제 조성물 은 , 이 와 같 은 불용성 석출 물 을 효율 적 으로 용해 제거 할 수 있 어 , 스루풋 의 향상 이 가능 하 다 .