유전체 재료 플레이트 들 ( 142 ', 242 ') 의 수직 스택 이 유전체 분리 영역 들 ( 150 , 250 ) 의 각자 의 유전체 분리 영역 내 에 형성 된다 . 일 실시 예 에서 , 제 1 유전체 재료 플레이트 들 ( 142 ') 로 이루어진 유전체 재료 플레이트 들 ( 142 ') 의 수직 스택 은 계단 유전체 분리 영역 들 ( 250 ) 각각 내 에 형성 될 수 있 다 . 제 1 유전체 재료 플레이트 들 ( 142 ') 및 제 2 유전체 재료 플레이트 들 ( 242 ') 을 포함 하 는 유전체 재료 플레이트 들 ( 142 ', 242 ') 의 수직 스택 이 어레이 유전체 분리 영역 들 ( 150 ) 각각 내 에 형성 될 수 있 다 . 유전체 재료 플레이트 들 ( 142 ', 242 ') 의 각각 의 수직 스택 의 측벽 들 은 후면 트렌치 들 ( 79 ) 을 형성 하 는 등방성 에칭 공정 의 측 방향 에칭 거리 인 균일 한 측 방향 오프셋 거리 만큼 후면 트렌치 들 ( 79 ) 의 가장 근위 의 부분 들 의 각자 의 세트 로부터 측 방향 으로 이격 될 수 있 다 .