그리고 도 2 d 에 따르 면 , 폴리 실리콘 막 ( 160 ) 과 하드 마스크 ( 120 ) 를 식각 종료 층 ( 110 ) 까지 차례 로 식각 하 게 된다 . 본 발명 에서 는 실리콘 기판 ( 100 ) 과 하드 마스크 ( 120 ) 의 사이 에 식각 종료 층 ( 110 ) 을 형성 함 으로써 , 종래 와 달리 하드 마스크 ( 120 ) 의 식각 량 조절 에 대한 각별 한 주의 를 기울이 지 않 더라도 하드 마스크 ( 120 ) 가 모두 식각 되 고 나 면 , 식각 공정 이 자체 적 으로 종료 되 므로 실리콘 기판 ( 100 ) 과 게이트 산화 막 ( 150 ) 의 식각 손상 을 예방 하 게 된다 . 더욱이 식각 종료 층 ( 110 ) 으로 하 여 시각 조절 에 대한 추가 비용 이나 추가 설비 에 대한 경제 적 인 부담 을 줄일 수 있 으며 , 식각 공정 이 그만큼 수월 해 지 고 식각 공정 의 정확 성 이 높 아 지 며 신뢰 성 이 향상 된다 .