멀티 빔 묘화 장치 는 , 기판 의 묘화 영역 을 메 쉬 형상 의 복수 의 화소 로 분할 하 고 , 각 화소 에 필요 한 조사량 의 빔 을 조사 함 으로써 형성 되 는 화소 패턴 ( 비트 패턴 ) 의 조합 에 의하 여 원 하 는 패턴 을 묘화 한다 . 묘화 데이터 내 에 정의 된 도형 패턴 의 화소 마다 의 면적 밀도 로부터 각 화소 의 조사량 이 산출 된다 .