또 , 도전 성막 ( 4 ) 중 의 제 1 입자 의 함유율 ( 도전 성막 ( 4 ) 에 함유 되 는 제 1 입자 의 비율 ) 은 , 후술 하 는 관계 를 만족 하 도록 설정 된다 . 여기 서 , 도전 성막 ( 4 ) 은 매우 얇 은 막 이 다 . 그 때문 에 , 도전 성막 ( 4 ) 중 의 제 1 입자 ( 또는 제 2 입자 ) 의 함유율 은 , " "" 도전 성막 ( 4 ) 중 의 제 1 입자 ( 또는 제 2 입자 ) 의 면적 점유 율 "" 로서 바꾸 어 말 할 수 있 다 . 상기 함유율 ( 면적 점유 율 ) 은 ", 전형 적 으로 는 , 도전 성막 ( 4 ) 의 상방 으로부터 후술 하 는 FE - AES , ESCA , XPS , EPMA 등 으로 구성 된 군 으로부터 선택 된 디바이스 에 의해 측정 했 을 때 의 제 1 입자 의 함유율 ( 제 1 영역 의 면적 점유 율 ) 로부터 산출 할 수 있 다 . 물론 , 제 2 입자 의 함유율 ( 제 2 영역 의 면적 점유 율 ) 로부터 산출 할 수 도 있 다 .