또 노광 장치 ( EX ) 는 기판 ( P ) 위 에 제 2 패턴 의 상 을 형성 하 기 위한 제 2 패턴 형성 장치 ( 3 B ) 와 , 노광 광 ( EL ) 을 사출 가능 한 광원 장치 및 복수 의 광학 부재 를 포함 하 는 조명 광학계 ( 모두 도시 생략 ) 를 가지 고 , 그 조명 광학계 를 통하 여 제 2 패턴 형성 장치 ( 3 B ) 를 노광 광 ( EL ) 으로 조명 하 는 제 2 조사 계 ( IL 2 ) 를 구비 하 고 있 다 . 광학 유 니트 ( U ) 는 노광 광 ( EL ) 이 조사 되 는 제 2 조명 영역 ( IA 2 ) ( 도 1 에서 는 도시 생략 ) 내 에서 제 2 패턴 형성 장치 ( 3 B ) 에 의해 형성 된 패턴 의 상 을 기판 ( P ) 위 에 투영 하 는 제 2 투영 계 ( 광학계 ) ( PL 2 ) 를 구비 하 고 있 다 . 여기 서 , 제 2 조명계 ( IL 2 ) 의 조명 광학계 는 그 구성 이 제 1 조명계 ( IL 1 ) 의 조명 광학계 와 동일 하 므로 , 그 상세 한 설명 은 생략 한다 . 본 실시 형태 의 노광 장치 ( EX ) 는 성형 광학계 , 마스크 블라인드 계 등 을 포함 하 는 조명 광학계 를 각각 가지 는 제 1 , 제 2 조명계 ( IL 1 , IL 2 ) 를 구비 한다 . 이 때문 에 , 제 1 패턴 형성 장치 ( 3 A ) 와 제 2 패턴 형성 장치 ( 3 B ) 로 각각 독립 적 으로 조명 조건 을 설정 할 수 있 다 . 또한 , 주사 노광 시 에 는 기판 ( P ) 의 이동 에 동기 ( 同期 ) 하 여 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 의 폭 을 각각 독립 적 으로 조정 가능 하 게 되 어 있 다 . 즉 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 에 의한 기판 의 제 1 주사 노광 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 에 의한 기판 의 제 2 주사 노광 으로 각각 , 그 개시 및 종료 를 독립 적 으로 제어 가능 하 도록 되 어 있 다 .