상술 한 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 마스크 레이아웃 의 보정 방법 은 , 마스크 에 포함 된 복수 개 의 패턴 들 의 목표 선폭 ( CD ) 을 결정 하 는 단계 ; 상기 목표 선폭 을 소정 의 간격 으로 변화 시켜 가 면서 복수 개 의 테스트 마스크 를 제작 하 는 단계 ; 노광 조건 을 변경 시켜 가 면서 상기 복수 개 의 테스트 마스크 각각 을 이용 하 여 웨이퍼 를 패 터닝 하 여 패턴 들 의 실제 선폭 을 측정 하 는 단계 ; 측정 된 상기 패턴 들 의 실제 선폭 과 상기 마스크 패턴 들 의 목표 선폭 을 이용 하 여 상기 마스크 에 포함 된 상기 마스크 에 포함 된 복수 개 의 패턴 들 에 대한 최적 의 선폭 변화 량 을 결정 하 는 단계 ; 및 상기 선폭 변화 량 을 반영 하 여 상기 마스크 에 광 근접 보정 법 을 적용 하 는 단계 ; 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .