실시 예 에서 , 프로세스 챔버 의 플 라즈 마 에 전력 을 공급 하 기 위해 전자기 방사선 을 제공 하 기 위한 방법 은 , 하나 이상 의 프로세스 가스 를 프로세스 챔버 내 에 도입 하 는 단계 , 및 적어도 2 개 의 위치 들 ( P 및 Q ) 로부터 , 프로세스 챔버 에 인접 하 여 배치 된 도파 로 공동 내 로 전자기 방사선 을 전파 하 는 단계 를 포함 한다 . 도파 로 공동 은 , 도파 로 공동 을 배기 하 지 않 고 프로세스 챔버 가 배기 될 수 있 고 , 도파 로 공동 내 의 전자기 방사선 이 프로세스 챔버 내 로 여전히 전파 될 수 있 도록 프로세스 챔버 로부터 분리 된다 . 위치 들 ( P 및 Q ) 은 도파 로 공동 의 둘레 주위 에 각각 의 각도 들 ( θ p 및 θ q ) 로 배치 된다 . 전 자기 방사선 은 도파 로 공동 내 에 회전 주파수 ( Ω ) 와 마이크로파 주파수 ( ω ) 로 제공 된다 . 방법 은 , 프로세스 가스 들 로부터 플 라즈 마 를 점 화 하 는 단계 , 및 도파 로 공동 으로부터 프로세스 챔버 내 로 전파 된 전자기 방사선 에 의해 공급 된 전력 으로 플 라즈 마 를 유지 하 는 단계 를 더 포함 한다 .