처리 액 의 사용량 을 저감 할 수 있 으며 처리 액 의 온도 변동 을 억제 할 수 있 고 , 또한 , 단순 화 된 장치 구성 을 갖 는 기판 처리 장치 를 제공 한다 . 기판 처리 장치 는 , 하나 의 기판 ( W ) 을 유지 하 고 , 유지 한 하나 의 기판 을 처리 하 는 처리 유닛 과 , 복수 의 기판 ( W ) 을 동시 에 수용 할 수 있 는 처 리조 로서 , 기판 을 침지 하 여 처리 하 기 위한 처리 액 을 순환 공급 하 면서 저류 하 는 처 리조 와 , 상기 처 리조 의 기판 수용 가능 수 미만 의 수 의 기판 을 동시 에 반송 가능 한 반송 장치 를 구비 한다 . 반송 장치 는 적어도 상기 처리 액 이 저류 된 상기 처 리조 에 기판 을 반송 한다 . 상기 처리 유닛 과 상기 처 리조 중 적어도 어느 하나 를 사용 하 여 기판 이 처리 된다 .