본원 발명 에서 의 신규 의 세정 방법 으로 미세 패턴 을 형성 하 는 방법 은 기판 층 위 에 유기 탄소막 층 을 형성 하 고 SiON 층 을 화학 기상 증착 법 으로 증착 하 고 그 위 에 포토레지스트 를 코팅 하 고 노광 하 여 마스크 를 형성 하 는 단계 ; 상기 마스크 를 이용 하 여 1 차 건식 식각 하 여 형성 하 고자 하 는 패턴 을 식각 하 는 단계 ; 상기 기판 에 세정액 을 사용 하 여 세정 하 는 단계 ; 및 상기 기판 에 폴리 층 ( Poly 층 ) 또는 기타 화합물 층 을 화학 기상 증착 법 으로 증착 하 고 2 차 건식 식각 하 는 단계 에 의해 패턴 이 형성 된다 .