본 발명 은 에칭 공정 의 플 라즈 마 소스 챔버 ( Plasma Source Chamber ) 와 같 은 반도체 소자 제조 공정 의 챔버 내부 중앙 에 설치 되 어 플 라즈 마 가스 에 의한 접착제 의 손상 방지 및 웨이퍼 를 효과 적 으로 척 킹 및 디 척 킹 시킬 수 있 는 캡 형 정전 척 에 관한 것 으로서 , 그 특징 적 인 구성 은 챔버 ( 10 ) 내측 하부 에 설치 된 몸체 ( 110 ) 와 , 그 몸체 ( 110 ) 의 상면 에 설치 된 플레이트 ( 120 ) 와 , 상기 플레이트 ( 120 ) 의 상면 에 안착 된 웨이퍼 ( 50 ) 를 정전기력 에 의해 척 킹 시키 는 정전기 가 발생 되 도록 플레이트 ( 120 ) 의 내부 에 내장 된 내부 전극 ( 130 ) 으로 이루어진 정전 척 ( 100 ) 에 있 어서 , 상기 웨이퍼 ( 50 ) 가 접촉 되 는 플레이트 ( 120 ) 의 둘레 면 에 는 몸체 ( 110 ) 의 상면 에 플레이트 ( 120 ) 를 부착 시키 는 접착제 가 감싸여 지 도록 하향 절곡 된 차단 링 ( 121 ) 이 형성 되 고 , 상기 플레이트 ( 120 ) 의 표면 에 는 가공 완료 된 웨이퍼 ( 50 ) 가 원활 하 게 디 척 킹 되 도록 플레이트 ( 120 ) 보다 높 은 저항계 수 를 갖 는 분리 층 ( 140 ) 이 형성 된 것 이 다 .