상기 용액 의 pH 가 지나치 게 높 은 경우 에 는 , 예 를 들 면 , 과산화수소 의 안정 성 의 저하 , 주변 금속 ( Al 등 ) 및 반도체 기판 ( Si 등 ) 의 부식 의 증가 등 의 문제 를 일으키 고 , 또 pH 가 지나치 게 낮 은 경우 에 는 , 예 를 들 면 , W 에 칭 속도 의 저하 , 히드록실기 를 가지 는 포스폰산 계 킬레이트제 의 착 형 성능 의 저하 , TiW 합금 의 Ti 및 W 의 에칭 속도 의 밸런스 악화 , 에칭 잔사 의 발생 , 사이드 외설 의 증가 등 의 문제 를 일으키 기 때문 에 , 상기 와 같 은 범위 의 pH 로 조정 · 유지 하 는 것 이 바람직 하 다 .