종래 의 평판 디스플레이 에서 사용 하 는 유리 기판 은 , 전극 생성 이나 TFT 제조 등 의 공정 상 에서 는 안정 성 이 있 다는 장점 이 있 지만 , 무겁 고 단단 하 기 때문 에 두루마리 디스플레이 나 이동 통신 용 차세대 디스플레이 로 플렉시블 한 디스플레이 에 는 적 합 하 지 않 다 . 플렉시블 한 디스플레이 에 적용 하 기 위해서 유리 기판 대신 , 투명 하 고 유연 한 플라스틱 기판 으로 대체 하 여야 하 는데 , 플라스틱 기판 은 내열 온도 가 유리 기판 에 비해 상당히 낮 아 150 ~ 200 ℃ 정도 의 내열 성 을 가지 므로 , 종래 에 사용 하 고 있 는 ITO 전극 을 플라스틱 기판 위 에 스퍼터 하 여 투명 전극 을 구성 할 경우 에 는 열처리 등 이 용이 하 지 않 아 막 의 비저항 을 낮추 는데 제약 이 있 다 . 뿐 만 아니 라 ITO 는 열팽창 계수 가 고분자 플라스틱 기판 에 비해 작 아 디바이스 제조 시 혹은 구동 중 오랜 열 이력 에 의해 기판 과 전극 이 서로 다른 비율 로 열팽창 함 으로써 기판 의 변형 을 초래 할 수 있 다 . 또한 종래 의 ITO 전극 은 기계 적 강도 가 약하 여 깨지 거나 ( brittle ) 갈라짐 ( crack ) 현상 이 나타날 수 있 으므로 플렉시블 전극 기판 이 휘어짐 에 따라 전극 의 표면 저항 이 증가 하 는 문제점 이 생길 수 있 다 .