미세 한 산화 인듐 과 ITO 분말 의 제조 를 위해 물리 화학 적 인 방법 들 이 여러 연구자 들 에 의해 개발 이 되 었 다 . 이러 한 ITO 분말 을 제조 하 는 기술 에 대한 공지 기술 로서 는 , 일본 특개평 05 - 193939 , 미국 특허 US 6 , 533 , 966 ( 명칭 : Method for preparing suspensions and powders based in indium tin oxide and use thereof , 출원 일 : 2001 년 2 월 26 일 ) 및 국내 특허 10 - 2002 - 0006460 ( 명칭 : MOD 법 에 의한 ITO 분말 의 제조 , 출원 일 : 2002 년 2 월 5 일 ) , 국내 특허 10 - 2002 - 0018864 ( 명칭 : 분무 건조 에 의한 초 미립 아이티오 분말 합성 방법 및 이 를 위한 분 무 건조 장치 , 출원 일 : 2002 년 4 월 8 일 ) , 국내 특허 10 - 2002 - 7016070 ( 명칭 : 산화 인듐 중 에 주석 인 고용 된 아 이티 오 분 말 의 제조 방법 및 아이티오 타 겟 의 제조 방법 , 출원 일 : 2002 년 11 월 27 일 ) 등 이 공개 되 어 있 다 .