상기 노광 단계 는 상기 포토레지스트 막 을 갖 는 반도체 기판 을 상기 포토 마스크 와 정렬 시키 고 상기 포토 마스크 에 광원 으로부터 의 빛 을 조사 하 여 상기 포토 마스크 상 의 노광 패턴 들 의 형상 을 상기 포토레지스트 막 에 전사 시킴 으로써 이루어진다 . 상기 노광 패턴 들 은 차광 패턴 들 ( opaque patterns ) 또는 반사광 패턴 들 ( reflective patterns ) 로 형성 된다 .