그리고 OLED 물질 층 ( 64 ) 을 탄소 나노 튜브 ( 63 ) 내 에 형성 하 는 공정 은 물리 기상 증착 법 ( Physical Vapor Deposition ; PVD ) , 플라 즈 마 증가 형 화학 기상 증착 법 ( Plasma enhancement Chemical Vapor Deposition ; PECVD ) , 화학 기상 증착 법 ( Chemical Vapor Deposition ; CVD ) , Langmuir - Brodgette ( LB ) 법 , LiTi 법 등 이 사용 될 수 있 다 .