이상 설명 한 열선 차폐막 용 도포 액 을 사용 하 여 얻 어 지 는 열선 차폐막 의 도전 성 은 열선 차폐 미립자 의 접촉 개소 를 경유 한 도전 패스 에 따라서 실시 된다 . 이 때문 , 예 를 들 면 , 첨가 하 는 계면 활성제 나 커플링 제 의 양 을 가감 하 는 것 으로 도전 패스 를 부분 적 으로 절단 할 수 있 어 표면 저항 값 106 Ω ／□( 오 옴 · 퍼 · 스퀘어 라고 읽 음 ) 이상 으로 , 열선 차폐막 의 도전 성 을 용이 하 게 저하 시킬 수 있 다 . 또 열선 차폐막 중 에 있 어서 의 , 규소 , 지르코늄 , 티탄 , 알루미늄 의 각 금속 의 알 콕 시드 , 또는 이 들 의 부분 가수 분해 중합물 , 또는 합성 수지 바인더 의 함유량 을 가감 하 는 것 에 의해 도 도전 성 의 제어 가 가능 하 다 .