이어서 실리사이드 막 안정 화 를 위한 어닐링 을 수행 하 고 , PMD 라이너 막 을 증착 한다 . 이때 PMD 라이너 로 는 주로 TEOS ( tetra ethyle ortho silicate ) 를 원료 로 하 는 불순물 이 거의 함유 되 지 않 은 실리콘 산화 막 ( SiO 2 ) 을 사용 하 며 트랜지스터 구조 와 PMD 막 의 층간 분리 와 콘 택 홀 형성 을 위한 PMD 식각 ( Etch ) 시 식각 공정 종점 검출 ( Endpoint detection ) 용 으로 작용 할 수 있 다 . 그리고 , 주된 PMD 막 을 증착 한다 . 주된 PMD 막 은 BPSG ( Boro - Phos - pho - Silicate Glass ) 혹은 PSG ( Phospho - Silicate Glass ) 로 이루어진다 .