실시 예 1 과 동일 한 방법 으로 정공 주입 층 , 정공 전달 층 을 형성 시킨 후 , 상기 진공 증착 장비 내 의 다른 셀 에 발광 호스트 재료 인 H - 5 를 넣 고 , 또 다른 셀 에 는 D - 1 를 각각 넣 은 후 , 두 물질 을 다른 속도 로 증발 시켜 H - 5 기준 으로 2 내지 5 mol % 로 도핑 함 으로써 상기 정공 전달 층 위 에 30 nm 두께 의 발광 층 을 증착 하 였 다 .