화합물 A 3 의 용액 ( Et 2 O , THF 등 또는 이 들 의 혼합물 등 의 용매 중 에서 ) 을 - 78 ℃ 에서 불활성 분위기 하 에 시 약액 ( 예컨대 , Et 2 O , THF 등 또는 이 들 의 혼합물 등 의 용매 중 의 LHMDS 등 ) 에 적가 하 여 , 약 - 78 ℃ 에서 약 40 분 간 교반 한다 . 화합물 C 1 의 용액 ( Et 2 O 등 의 용매 중 에서 ) 을 적가 하 여 , 혼합물 을 약 - 78 ℃ 에서 약 1 시간 동안 교반 한 다음 에 , 약 2 시간 에 걸쳐서 실온 으로 가온 시켜 , 다음 단계 에서 추가 의 정제 없이 사용 되 는 조생 성물 로서 , 후처리 하 여 화합물 C 2 를 얻 는다 .