특허 문헌 1 에 는 , 박막 의 퇴적 또는 에칭 등 을 목적 으로 한 플라스마 처리 를 실행 하 는 플라스마 처리 장치 가 개시 되 어 있 다 . 이 플라스마 처리 장치 는 , 처리 용기 와 , 처리 용기 내 에 처리 가스 를 공급 하 는 가스 공급 부 와 , 처리 용기 내 에 마련 되 고 , 웨이퍼 가 적재 되 는 적 재 대 와 , 적재 대 의 상방 에 마련 된 상부 전극 과 , 상부 전극 및 적재 대 중 적어도 어느 한쪽 에 고주파 전력 을 공급 함 으로써 , 처리 용기 내 에서 처리 가스 의 플라스마 를 생성 하 는 플라스마 생 성부 를 갖 는다 . 그리고 , 이 플라스마 처리 장치 에서 는 , 처리 용기 의 측벽 과 적재 대 의 측면 에 의해 배기 유로 가 형성 되 고 , 배기 유로 의 저부 에 는 , 배기구 를 형성 하 는 배기관 이 배치 되 고 , 배기관 에 는 배기 장치 가 접속 되 어 있 다 .