이 때 상기 제 1 증폭 모듈 ( 121 a ) 과 상기 제 1 미러 ( 122 a ) 사이 에 는 제 1 웨이브 플레이트 ( 124 ) 가 배치 된다 . 상기 제 1 웨이브 플레이트 ( 124 ) 는 상기 제 1 웨이브 플레이트 ( 124 ) 를 통과 하 는 파 의 위상 을 1 / 4 파장 변경 시키 는 쿼터 웨이브 플레이트 ( QWP , Quarter - Wave - Plate ) 로 형성 된다 . 즉 , 상기 제 1 웨이브 플레이트 ( 122 c ) 는 상기 제 1 증폭 매질 ( 1212 a ) 또는 상기 제 2 증폭 매질 ( 1213 a ) 을 통과 하 여 상기 제 1 미러 ( 122 a ) 로 향하 는 상기 레이저 펄스 의 위상 을 1 / 4 파장 변경 시키 고 , 상기 제 1 미러 ( 122 a ) 에 반사 되 어 상기 제 1 증폭 모듈 ( 121 a ) 로 되돌 아 가 는 레이저 펄스 의 위상 을 다시 1 / 4 파장 변경 시킨다 . 따라서 상기 레이저 생 성부 ( 110 ) 로부터 공급 받 은 P 파 는 상기 제 1 웨이브 플레이트 ( 124 ) 를 두 번 통과 하 면서 S 파로 변경 된다 . 이 는 상기 제 1 빔 스플리터 ( 123 ) 로 다시 되돌 아 갈 때 투과 하 지 않 고 반사 되 어 상기 레이저 펄스 의 진행 경로 가 변경 되 도록 하 기 위함 이 다 .