도 9 는 거기 에 사용 된 마스크 의 예 를 보여준다 . 도 9 는 실제로 사용 되 는 마스크 로부터 취 출한 싱글 PLC 의 부분도 이 다 . 도 9 에서 , 코어 를 형성 하 기 위한 패턴 ( 63 b ) 및 원통형 상부 를 형성 하 기 위한 패턴 ( 12 e 내지 12 h ) 은 동일 한 마스크 ( 30 ) 상 에 제공 된다 . 마스크 ( 30 ) 에 대응 하 는 포토레지스트 막 은 포지티브 형 이 고 , 따라서 마스크 ( 30 ) 를 통과 해 전달 된 자외선 광이 조사 되 는 부분 이 현상액 에 의해 제거 된다 .