그 후 , 포토 마스크 를 거쳐서 , 방사선 을 조사 하 여 , 포스트 엑스포 져 베이 킹 처리 ( PEB ) 를 행하 고 , 이어서 , 알칼리 현상액 을 사용 한 현상 처리 를 행하 고 , 또한 , 포스트 베이 킹 처리 를 함 으로써 , 격벽 을 형성 하 였 다 . PEB 는 가열 온도 : 110 ℃, 가열 시간 : 120 초 , 방사선 조사 강도 : 150 mJ / ㎠ 의 조건 으로 행하 였 다 . 또한 , 현상 처리 는 , 예 를 들 면 , 진동 현상 법 에 의해 행하 였 다 . 현상 처리 시간 은 60 초 로 하 였 다 . 또한 , 포스트 베이 킹 처리 는 , 가열 온도 : 150 ℃, 가열 시간 : 5 분 의 조건 으로 행하 였 다 . 형성 된 격벽 의 두께 는 2 . 1 ㎛ 였 다 .