이러 한 상황 하 에서 유기 용제 현상 은 미세 패턴 형성 기술 의 하나 로서 주목 되 고 있 다 . 예컨대 , 포지티브 톤 으로 는 달성 할 수 없 는 매우 미세 한 홀 패턴 을 네 가티 브 톤 의 노광 으로 해 상하 기 위해 , 해상 성 이 높 은 포지티브 형 레지스 트 조성물 을 이용 한 유기 용제 현상 으로 네거티브 패턴 을 형성 하 는 것 이 가능 하 다 . 또한 , 알칼리 현상 과 유기 용제 현상 의 2 회 의 현상 을 조합 함 으로써 , 2 배 의 해상력 을 얻 는 검토 도 진행 되 고 있 다 . 유기 용제 에 의한 네 가티 브 톤 현상 용 의 ArF 레지스 트 조성물 로 는 , 종래 형 의 포지티브 형 ArF 레지스 트 조성물 을 이용 할 수 있 고 , 예컨대 특허 문헌 1 ∼ 3 에 패턴 형성 방법 이 기재 되 어 있 다 .