" 여기 서 사용 되 는 "" 나노 임 프린팅 공정 "" 또는 "" 임프 린트 공정 "" 이 란 용어 는 ", 템플 릿 또는 스탬프 의 나노 - 및 / 또는 마이크 로 - 구조 화 된 표면 패턴 의 역복 제물 ( inverted copy ) 을 생성 하 는 공정 에 관한 것 이 고 , 층 을 변형 시키 기 위하 여 폴리머 또는 프리 폴리머 ( pre - polymer ) 와 같 은 성형 가능 한 층 에 스탬프 를 프레싱 ( pressing ) 함 에 의해 생성 되 는 , 베이스 와 층 이 서로 다른 재료 로 이루어진 경우 에 , 층 은 베이스 또는 기판 위 에 있 는 개별 코팅 된 멤 브레인 일 수 있 다 . 대안 적 으로 , 층 이 단순 하 게 하나 의 재료 로 된 대상물 의 일부 가 될 수 있 는데 , 이때 , 대상물 의 표면 으로부터 대상물 의 단일 체 ( bulk ) 내부 로 소정 의 깊이 까지 밑 으로 뻗 어 있 는 부분 으로서 정의 된다 . 성형 가능 한 층 은 , 임 프린팅 ( 예 를 들 면 핫 엠보싱 ( hot embossing ) ) 공정 동안 , 유리 전이 온도 ( glass transition temperature ) 위 로 가열 되 었 다가 상기 유리 전 이온 도 아래 로 냉각 되 고 , 그리고 / 또는 폴리머 는 임 프린팅 공정 동안 또는 이후 , 자외선 노광 ( exposure ) 의 도움 으로 경화 되 거나 ( cured ) 가교 - 결합 될 ( cross - linked ) 수 있 다 . 템플 릿 의 및 임프 린트 된 층 의 , 패턴 이 있 는 표면 은 , 깊이 및 폭 에 있 어서 모두 마이크로미터 또는 나노미터 스케일 의 구조 를 가질 수 있 다 .