기판 ( 4 ) 과 관련 하 여 프로세스 가스 또는 가스 상태 의 코팅 재료 들 의 균일 하 고 균질 한 흐름 을 생성 하 는 기능 과 는 별도 로 , 도 1 내지 5 에 도시 된 흡입 장치 ( 8 ) 는 운반 구성 요소 또는 운반기 ( 3 ) 및 따라서 전극 ( 3 ) 뿐 만 아니 라 기판 ( 4 ) 의 정지 수단 의 역할 을 하 는 추가 적 인 기능 을 갖 는다 . 코팅 될 기판 표면 에 대한 프로세스 가스 및 / 또는 가스 상태 의 코팅 재료 들 의 균일 하 고 균질 한 분포 와 는 별도 로 , 기판 표면 및 / 또는 전극 들 에 관한 전자기 적 조건 들 도 마찬가지 로 균질 및 균일 하 게 되 는 것 도 균일 한 코팅 을 위하 여 중요 하 다 . 따라서 , 전극 들 ( 2 및 3 ) 의 전극 표면 들 이 가급적 평면 평행 하 게 될 필요 가 있 다 . 이것 은 고정 전극 ( 2 ) 의 경우 에 는 용이 하 게 이용 가능 하 지만 , 추가 적 으로 운반 구성 요소 및 / 또는 운반기 로서 기능 하 는 이동 가능 전극 ( 3 ) 의 경우 에 는 사소 한 문제 가 아니 다 .