라인 패턴 의 마스크 크기 가 각각 48 nm , 50 nm 및 52 nm 인 마스크 를 이용 하 여 레지스 트 패턴 을 형성 하 였 다 . 마스크 의 피치 폭 은 100 nm 였 다 . 노광량 은 , 1 : 1 의 라인 앤드 스페이스 패턴 ( 라인 패턴 : 50 nm , 피치 폭 : 100 nm 의 사이즈 마스크 ) 을 사용 하 여 노광 함 으로써 50 nm 폭 의 라인 패턴 이 형성 되 는 정도 로 설정 하 였 다 .