또한 , 본 실시 형태 에 있 어서 의 제 3 환 ( 63 ) 은 , 가스 분사기 ( 200 ) 의 중심축 Cg 0 이 가스 분사기 ( 200 ) 의 저면 을 통과 하 는 점 을 중심 으로 하 는 진원 이 지만 , 타원 이 어도 되 고 다각형 이 어도 되 고 , 그 중심 은 가스 분사기 ( 200 ) 의 중심축 Cg 0 상 으로부터 어긋나 있 어도 된다 . 단 , 각 분사 구멍 ( 92 ) 으로부터 분사 되 는 가스 의 분사 방향 ( 253 ) 이 분 무조 ( 4 ) 의 내 벽면 을 향하 도록 제 3 환 ( 63 ) 및 각 분사 구멍 ( 93 ) 의 축 방향 을 설정 할 필요 가 있 다 . 또한 , 도 3 에 도시 한 분사 구멍 ( 93 ) 의 수 는 일례 에 지나 지 않 고 , 분 무조 ( 4 ) 의 냉각 성능 이 손상 되 지 않 는 범위 에서 임의 의 수 를 선택 할 수 있 다 .