이러 한 MIT 박막 ( 300 ) 은 sputtering 방식 , MBE ( molecular beam epitaxy ) , e - beam evaporation , thermal evaporation , ALE ( atomic layer epitaxy ) , PLD ( pulsed laser deposition ) , CVD ( chemical vapor deposition ) , Sol - Gel 방법 및 ALD ( atomic layer deposition ) 등 의 방법 들 중 적어도 하나 의 방법 을 통하 여 형성 될 수 있 다 .