화학선 방사 의 공간 적 제약 은 선 ( ray ) 형태 의 에너지 방사 가 , 예 를 들 어 마스크 또는 스크린 또는 이 의 조합 에 의해서 인도 되 어서 , 공간 적 으로 제약 된 방식 으로 명확히 정의 된 주변 경계 를 갖 는 범위 위 에 충돌 되 는 작용 또는 과정 을 지칭 한다 . 예 를 들 어 , UV 방사 의 공간 적 제약 은 미국 특허 제 6 , 627 , 124 호 ( 그 전체 가 본원 에 참 고 문헌 으로 도입 됨 ) 의 도 1 내지 9 에서 도식 적 으로 예시 된 바 와 같이 UV 불 투과 도 영역 ( 마스킹 된 영역 ) 에 의해 둘러싸인 투명 또는 개방 영역 ( 마스킹 되 지 않 은 영역 ) 을 갖 는 마스크 또는 스크린 을 사용 함 으로써 달성 할 수 있 다 . 마스킹 되 지 않 은 영역 은 마스킹 된 영역 으로 명확히 정의 된 주변 경계 를 갖 는다 .