한편 , 레지스 트 를 에칭 마스크 로 하 여 에칭 을 행하 는 차광막 재료 에 대해서 는 , 지금 까지 많 은 것 이 제안 되 어 왔 지만 , 에칭 에 대한 지견 이 많 고 , 표준 가공 공정 으로서 확립 되 어 있 기 때문 에 , 실용 상 항상 크롬 화합 물막 이 이용 되 어 왔 다 . 이러 한 것 으로서 , 예 를 들 면 ArF 엑 시머 레이저 노광용 포토 마스크 블랭크 에 필요 한 차광막 을 크롬 화합물 로 구성 한 것 으로 는 , 예 를 들 면 일본 특허 공개 제 2003 - 195479 호 공보 ( 특허 문헌 1 ) 에 , 막 두께 50 내지 77 nm 의 크롬 화합 물막 이 보 고 되 어 있 다 .