따라서 , 입체 원단 ( 2 ) 이 제거 제 포도 유닛 ( 30 ) 을 통과 할 때 가압 되 면서 제거 제 도포 부 ( 31 ) 에 의하 여 제 거액 ( PR ) 이 원단 ( F ) 의 패턴 ( P ) 이 형성 된 부분 에 만 고르 게 도포 되 며 , 원단 ( F ) 의 패턴 ( P ) 이 미 형성 된 부분 에 는 제 거액 ( PR ) 이 묻 지 않 음 으로써 입체 원단 ( 2 ) 에서 패턴 ( P ) 위 의 접착 층 ( L ) 만 을 제거 할 수 있 다 .