본 발명 은 기판 을 처리 하 는 장치 를 제공 한다 . 기판 을 처리 하 는 장치 는 , 기판 을 지지 하 고 회전 시키 는 지지 유닛 과 ; 상기 지지 유닛 에 지지 된 기판 의 에지 영역 으로 처리 액 을 공급 하 는 액 공급 유닛 과 ; 상기 지지 유닛 에 지지 된 기판 의 에지 영역 으로 레이저 를 조사 하 는 레이저 조사 유닛 과 ; 상기 기판 의 에지 영역 에서 발생 하 는 부산물 을 외부 로 배출 하 는 배출 유닛 을 포함 하 되 , 상기 배출 유닛 은 , 원주 방향 으로 구부러진 통 형상 을 가지 며 , 기판 의 에지 영역 이 삽입 되 는 개구 가 형성 된 관 을 포함 하 고 , 상기 관은 , 상기 처리 액 이 기판 으로 공급 되 어 발생 하 는 부산물 을 배출 하 는 제 1 관 을 포함 할 수 있 다 .