도 15 는 본 발명 의 일실 시예 에 따른 3 차원 전극 장치 의 제조 방법 중 기판 부 를 노출 시키 는 단계 를 나타낸 순서도 이 고 , 도 16 은 본 발명 의 일실 시예 에 따른 3 차원 전극 장치 의 제조 방법 중 웨이퍼 의 타면 은 그라인딩 하 는 단계 를 예시 적 으로 나타낸 사시도 이 며 , 도 17 은 본 발명 의 일실 시예 에 따른 3 차원 전극 장치 의 제조 방법 중 웨이퍼 의 타면 을 식각 하 여 기판 부 를 노출 시키 는 단계 를 예시 적 으로 나타낸 사시도 이 다 .