투영 노광 장치 에 있 어서 는 집적회로 의 미세화 및 고 밀도 화 에 따라서 , 높 은 해 상 력 으로 레티 클 의 패턴 을 웨이퍼 에 전사 하 는 것 이 요구 되 고 있 다 . 투영 노광 장치 에 의해 전사 할 수 있 는 최소 의 선폭 ( 해상도 ) 은 노광 에 사용 하 는 광 의 파장 에 비례 하 고 투영 광학계 의 개구수 ( NA ) 에 반비례 하 므로 , 광원 의 파장 을 짧 게 함 으로써 더 높 은 해상도 가 달성 될 수 있 다 .