상기 위상 반 전막 의 식각 용액 은 Ammonium hydrogendifluoride [ ( NH 4 ) HF 2 ] , Hydrogen peroxide ( H 2 O 2 ) 및 DI - water 를 주성분 으로 하 는 식각 용액 인 것 이 바람직 하 다 . 상기 식각 용액 의 주성분 중 Ammonium hydrogendifluoride [ ( NH 4 ) HF 2 ] 은 전체 의 10 vol % 이하 , 바람직 하 게 는 5 vol % 이하 로 포함 되 는 것 이 바람직 하 다 . 이 는 , 위상 반 전막 의 식각 시 , Ammonium hydrogendifluoride [ ( NH 4 ) HF 2 ] 의 용액 함유량 이 10 vol % 이상 이 면 기판 표면 에 데미지 가 발생 할 수 있 기 때문 이 다 .