또한 , 본 발명 의 무용 제형 의 실리콘 점착제 조성물 은 그대로 사용 하 는 것 이 바람직 하 지만 , 사용 자 의 형편 에 따라서 는 용제 희석 하 여 사용 하 는 경우 가 있 다 . 본 조성물 을 용제 에 희석 하 여 사용 하 는 경우 , 희석 용제 로서 는 톨루엔 , 크실렌 등 의 방향 족 탄화수소 계 용제 , 헥산 , 헵탄 , 옥탄 , 이소옥탄 , 데칸 , 시클로헥산 , 메틸 시클로헥산 , 이소 파라핀 등 의 지방족 탄화수소 계 용제 , 아세톤 , 메틸에틸케톤 , 2 - 펜 타 논 , 3 - 펜 타 논 , 2 - 헥사 논 , 2 - 헵타논 , 4 - 헵타논 , 메틸 이 소 부틸 케톤 , 디이소부틸케톤 , 아 세토 닐 아세톤 , 시클로헥사논 등 의 케톤 계 용제 , 아세트산에틸 , 아세트산 프로필 , 아세트산 이소프로필 , 아세트산 부틸 , 아세트산 이 소 부틸 등 의 에스테르 계 용제 , 디에틸에테르 , 디 프로필 에 테르 , 디 이소프로필 에 테르 , 디 부틸 에 테르 , 1 , 2 - 디 메 톡 시 에 탄 , 1 , 4 - 디옥산 등 의 에테르 계 용제 , 2 - 메 톡 시 에틸 아세테이트 , 2 - 에 톡 시 에틸 아세테이트 , 프로필렌글리콜 모노 메틸에테르 아세테이트 , 2 - 부 톡 시 에틸 아세테이트 등 의 복관 능성 용제 , 헥사 메틸 디 실록 산 , 옥 타 메틸 트리 실록 산 , 옥 타 메틸 시 클로 테트라 실록 산 , 데카 메틸 시 클로 펜 타실 록산 , 트리스 ( 트리 메틸 실록 시 ) 메틸 실란 , 테트라 키스 ( 트리 메틸 실록 시 ) 실란 등 의 실록 산계 용제 , 또는 이 들 의 혼합 용제 등 을 사용 할 수 있 다 .