" 계측 모델 최적화 의 상세 한 설명 에 대해서 는 Vuong 등 에 의해 2002 년 6 월 27 일자 로 출원 된 발명 의 명칭 이 "" OPTIMIZED MODEL AND PARAMETER SELECTION FOR OPTICAL METROLOGY "" 인 미국 특허 출원 일련 번호 제 10 / 206 ", 491 호 와 , " Vuong 등 에 의해 2004 년 4 월 27 일자 로 출원 된 발명 의 명칭 이 "" OPTICAL METROLOGY OPTIMIZATION FOR REPETITIVE STRUCTURES "" 인 미국 특허 출원 일련 번호 제 11 / 061 ", 303 호 를 참조 할 수 있 으며 , 이 들 문헌 은 그 전체 가 참조 에 의해 본 명세서 에 원용 된다 .