" 본 특허 출원 은 2017 년 2 월 6 일자 로 출원 된 "" SUBSTRATE CLEANING AND DRYING MECHANISM "" 이 라는 명칭 의 미국 가 출원 일련 번호 제 62 / 455 "," 425 호 및 2017 년 6 월 12 일자 로 출원 된 "" REMOVAL OF PROCESS EFFLUENTS "" 이 라는 명칭 의 미국 가 출원 일련 번호 제 62 / 518 ", 297 호 를 우선 권 으로 주장 하 며 , 상기 출원 들 의 개시 내용 들 각각 은 그 전체 가 인용 에 의해 본원 에 포함 된다 .