실시 예 에서 , 제 2 기여 도 / 핑거 프린트 는 제 2 기여 도 / 핑거 프린트 의 하나 이상 의 처리 변수 에 미치 는 제 1 기여 도 / 핑거 프린트 와 관련 된 하나 이상 의 처리 변수 의 영향 에 대해 보정 된다 . 따라서 , 예 를 들 어 , 제 1 기여 도 / 핑거 프린트 가 초점 맵 이 고 제 2 기여 도 / 핑거 프린트 가 임계 치수 맵 이 라는 점 에서 , 제 2 기여 도 / 핑거 프린트 는 제 2 기여 도 / 핑거 프린트 의 임계 치수 에 미치 는 초점 의 영향 ( 예 를 들 어 , 초점 정보 ( 예 를 들 어 , 초점 잔류 오차 등 ) 및 / 또는 고주파 스테이지 이동 의 특성 ) ) 에 대해 보정 될 수 있 다 . 이러 한 영향 을 결정 하 는 세부 사항 이 위 에서 설명 되 었 다 . 예 를 들 어 , FEM 은 패턴 전사 단계 중 에 발생 하 는 CD 에 미치 는 초점 영향 을 격리 시키 기 위해 사용 될 수 있 으며 그 다음 에칭 - 후 CD 측정 으로부터 그 영향 을 제거 할 수 있 다 . 부가 적 으로 또는 대안 적 으로 , 다양 한 리소그래피 장치 신호 는 처리 되 어 패턴 전사 중 의 초점 의 추정 및 CD 에 미치 는 그 의 영향 에 도달 할 수 있 으며 그 후 에칭 - 후 CD 측정 으로부터 그 영향 을 제거 할 수 있 다 . 인식 될 바 와 같이 , 보정 을 제 2 기여 도 / 핑거 프린트 에 직접 적 으로 통합 하 는 것 , 1740 등 과 관련 하 여 밑 에서 설명 되 는 바 와 같이 제 2 기여 도 / 핑거 프린트 로부터 값 이 선택 된 후 에 보정 이 이루어지 는 것 을 포함 하 는 다양 한 방식 으로 보정 이 이루어질 수 있 다 .