따라서 , 실시 예 에 따른 설정 공정 에서 , 하나 이상 의 기판 에 대해 패 터닝 된 기판 초점 계측 데이터 가 획득 되 고 , 그 후 하나 이상 의 유형 의 리소그래피 장치 처리 변수 의 기여 도 가 도 10 에서 위 에서 설명 된 것 과 유사 하 게 제거 된다 . 제거 될 수 있 는 한 유형 의 기여 도 가 , 예 를 들 어 리소그래피 장치 의 레벨 링 센서 와 관련 된 기판 높이 잔차 또는 오 차 맵 의 초점 기여 도 이 다 . 제거 될 수 있 는 추가 유형 의 기여 도 는 , 예 를 들 어 시어링 간섭계 및 / 또는 투영 시스템 모델 잔차 로부터 획득 될 수 있 는 , 투영 시스템 이미지 평면 편차 ( IPD ) 의 초점 기여 도 이 다 . 제거 될 수 있 는 추가 유형 의 기여 도 는 적용 가능 한 포지 셔 너 , 위치 측정 디바이스 ( 예 를 들 어 , 센서 ( IF ) ) 및 / 또는 서보 제어 모델 의 잔차 로부터 획득 될 수 있 는 , 패 터닝 디바이스 및 / 또는 기판 서보 제어 ( 예 를 들 어 , MA ) 의 초점 기여 도 이 다 . 위 에서 논의 된 바 와 같이 , 처리 변수 로부터 초점 기여 도로 의 변환 은 시뮬레이션 , 수학 적 모델 링 및 / 또는 실험 을 통해 결정 될 수 있 다 .