리소그래피 기술 에 있 어서 는 , 예 를 들 어 기판 상 에 레지스 트 재료 로 이루어지 는 레지스 트 막 을 형성 하 고 , 그 레지스 트 막 에 대하 여 선택 적 노광 을 실시 하 여 , 현상 처리 를 실시 함 으로써 , 상기 레지스 트 막 에 소정 형상 의 레지스 트 패턴 을 형성 하 는 공정 이 실시 된다 . 레지스 트 막 의 노광 부가 현상액 에 용해 되 는 특성 으로 변화 하 는 레지스 트 재료 를 포지티브 형 , 레지스 트 막 의 노광 부가 현상액 에 용해 되 지 않 는 특성 으로 변화 하 는 레지스 트 재료 를 네거티브 형 이 라고 한다 .