또한 , 본 발명 은 상기 한 제 2 실시 형태 에 한정 되 는 것 은 아니 며 , 그 취지 를 일탈 하 지 않 는 범위 에서 적절 하 게 변경 가능 하 다 . 예 를 들 어 , 본 실시 형태 에서 는 조명 유닛 ( 13 ) 의 섬유 다발 ( 11 ) 의 타단 부 로부터 출사 한 적 외광선 의 광축 이 웨 이 퍼 ( 1 ) 의 주면 ( 1 c ) 에 비스듬히 교차 하 는 것 으로 하 였 지만 , 이 에 한정 되 는 것 은 아니 며 제 1 실시 형태 와 마찬가지 로 웨이퍼 ( 1 ) 의 주면 ( 1 c ) 에 직교 하 도록 조사 해도 좋 은 것 이 다 . 또한 , 촬상 유닛 ( 16 ) 의 광학계 의 광축 이 웨이퍼 ( 1 ) 의 주면 ( 1 c ) 에 직교 하 도록 촬상 유닛 ( 16 ) 이 설치 되 어 있 는 것 으로서 설명 을 행하 고 있 지만 , 촬상 유닛 ( 16 ) 에 대해서 도 광축 이 웨이퍼 ( 1 ) 의 주면 ( 1 c ) 에 비스듬히 교차 하 도록 설치 되 어도 좋 은 것 이 다 . 이 경우 에 는 , 식별 마크 ( 20 ) 를 제외 한 주면 ( 1 c ) 에서 정반사 하 는 반사광 의 광축 과 촬상 유닛 ( 16 ) 의 광축 을 옮겨 설치 함 으로써 본 실시 형태 에서 나타낸 식별 마크 ( 20 ) 가 선명 하 게 찍혀 나온 화상 을 취득 하 는 것 이 가능 하 다 .