스크린 인쇄 의 메카 니즘 은 도 5 의 나노 실버 페이스트 를 이용 한 스크린 인쇄 공정도 에서 알 수 있 는 바 와 같이 롤링 , 충 진 , 판 분리 및 레벨 링 공정 으로 이루어지 는데 나노 실버 페이스트 는 롤링 과정 에서 균일 하 게 도포 되 지 않 는 경우 인쇄물 인 배선 전극 등 과 같 은 전자 회로 부품 의 저항 등 의 결과 값 이 매우 큰 편차 를 발생 시킬 수 있 는 문제점 이 있 다 . 이 는 인쇄물 의 성능 및 신뢰 성 에 심각 한 문제 를 초래 할 수 있 다 . 따라서 이러 한 문제점 을 해결 하 기 위해서 는 스크린 인쇄 시 롤링 과정 에서 균일 도포 가 필수 적 으로 요구 되 는 균일 도포 를 위해서 는 나노 실버 페이스트 자체 의 분산 성 이 우수 하 여야 하 며 이 를 통해 저 저항 인쇄물 을 얻 을 수 있 게 된다 . 이 처럼 스크린 인쇄 를 통해 성능 이 우수 하 고 신뢰 성 이 있 는 전자 회로 부품 인 인쇄물 을 얻 기 위해서 는 분산 성 이 우수 하 야 롤링 공정 이 용이 하 고 이 를 통해 저항 이 감소 되 는 나노 실버 페이스트 조성 의 개발 이 절실히 필요 한 실정 이 다 .