연마 입자 의 평균 입경 Rave 는 , 50 nm 이상 이 며 , 연마 입자 의 평균 단경 Rmin 에 대한 평균 입경 Rave 의 비율 Rave / Rmin 은 , 1 . 0 ∼ 2 . 0 이 다 . 평균 입경 Rave 가 50 nm 이상 이 면 , 높 은 연마 속도 로 SiH 4 막 을 제거 할 수 있 다 . 또한 , 비율 Rave / Rmin 이 2 . 0 이하 이 면 , 높 은 연마 속도 로 SiH 4 막 을 제거 할 수 있 다 .