다음 의 기재 에서 , 텅스텐 필름 을 형성 하 는 것 에 관련 된 본 발명 의 완전 한 이해 를 제공 하 기 위해 다수 의 특정 세부 사항 이 나타난다 . 바람직 한 방법 은 추후 상세히 설명 될 , 텅스텐 핵 생성 층 을 환원제 의 펄스 에 노출 시키 는 단계 를 포함 한다 . 본 원 에서 나타나 는 특정 방법 및 구조 의 수정 예 , 또는 적응 예 , 또는 변형 예 가 당해 업계 종사자 에게 명백 하 며 본 발명 의 범위 내 에 있 다 .