도 3 g 를 참조 하 면 , 상기 제 1 마스크 패턴 ( 330 a ) 의 상부 에서 상기 버퍼 층 ( 340 ) 의 상면 이 노출 될 때 까지 상기 제 2 마스크 층 ( 350 ) 의 일부 를 제거 하 여 제 1 마스크 패턴 ( 330 a ) 및 버퍼 마스크 패턴 ( 332 a ) 의 각 적층 구조 사이 에서 상기 리세 스 ( 342 ) 내 에 제 2 마스크 패턴 ( 350 a ) 을 형성 한다 .