본 발명 의 실시 예 에서 는 광 근접 보정 ( OPC ) 을 위한 시뮬레이션 방법 을 제시 한다 . 패턴 레이아웃 상 의 설정 된 단위 영역 또는 패턴 별로 다른 노광 에너지 ( energy ) 를 조사 하 는 조건 으로 레이아웃 을 모델 을 이용 하 여 시뮬레이션 함 으로써 , 모든 패턴 이 이루 고자 하 는 레이아웃 모양 에 맞 게 시뮬레이션 모델 을 캘 리브레 이 션 할 수 있 다 . 모든 레이아웃 영역 에 대해 일정 한 하나 의 노광 에너지 조건 을 부여 하 도록 시뮬레이션 모델 에 정보 를 입력 ( input ) 하 였을 때 , 이루 고자 하 는 목표 패턴 모양 에 대비 해 크 거나 작 은 패턴 들 로 레이아웃 이 시뮬레이션 될 수 있 다 . 이러 한 목표 패턴 에 대해 벗어나 크기 를 가지 는 패턴 영역 들 을 따로 분리 설정 하 여 , 설정 된 부분 에 대해 다른 노광 에너지 조건 을 캘 리브레 이 션 변수 ( calibration parameter ) 로 추출 하 고 , 이 를 모델 에 입력 하 여 캘 리브레 이 션 하 여 레이아웃 을 OPC 하 는 방법 을 제시 한다 . 즉 , 멀티 도즈 ( multi - dose ) 시뮬레이션 을 이용 한 OPC 방법 을 제시 한다 .