그러나 , 종래 에 는 이러 한 에지 식각 장치 와 배면 식각 장치 가 별도 의 독립 적 인 장치 로 존재 하 기 때문 에 넓 은 설치 공간 이 필요 하 였 다 . 또한 , 여러 챔버 사이 에서 기판 을 옮겨 가 면서 공정 을 진행 하 였 다 . 이 로 인해 , 공정 중 의 기판 이 대기 중 에 노출 되 어 오염 될 가능 성 이 높 았 고 , 챔버 이동 에 따른 대기 시간 이 증가 하 여 전체 적 인 공정 시간 이 증가 하 는 문제 가 있 었 다 .