또한 , 본 실시 형태 에 있 어서 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 과 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 은 , 동일 한 측 정면 ( MS ) 에서 빔 전류 를 측정 하 도록 구성 되 지 않 아도 된다 . 예 를 들 면 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 이 웨이퍼 처리 면 ( WS ) 에 일치 하 는 제 1 측 정면 ( MS ) 에서 빔 전류 를 측정 하 도록 구성 되 는 한편 , 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 이 제 1 측 정면 ( MS ) 으로부터 빔 진행 방향 으로 어긋난 제 2 측 정면 에서 빔 전류 를 측정 하 도록 구성 되 어도 된다 . 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 은 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 보다 빔 진행 방향 의 상류 측 에 배치 되 어도 되 고 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 보다 빔 진행 방향 의 하류 측 에 배치 되 어도 된다 .