상기 기술 적 과제 를 달성 하 기 위하 여 , 본 발명 에 따른 반도체 소자 의 노광 장치 에 따르 면 , 노광 광원 ; 상기 노광 광원 으로부터 방출 된 광이 투과 하 는 패턴 이 형성 된 포토 마스크 ; 상기 포토 마스크 하부 에 배치 되 어 포토 마스크 를 통과 한 광이 투영 되 는 프로 젝 션 렌즈 부 ; 상기 프로 젝 션 렌즈 부 에 삽입 되 어 , 상기 포토 마스크 를 통과 한 광 의 성분 을 선택 적 으로 조절 하 는 조절 필터 ; 및 상기 조절 필터 에 의해 선택 적 으로 투영 되 는 광이 결상 되 는 웨이퍼 를 구비 한다 .