더욱이 , 위치 정보 에 기초 하 여 , 처리 시스템 은 또한 , 예 를 들 어 제조 또는 조립 공정 중 에 도입 된 전자 광학 구성 요소 또는 시스템 내 의 결함 으로 인한 빔 스폿 ( 304 ) 의 위치 의 드리프트 및 / 또는 시스템 의 장기 작동 중 의 드리프트 를 추적 할 수 있 다 . 처리 시스템 은 경계 부 결정 , 및 세기 결정 에 포함 될 전자 감지 요소 세트 를 업데이트 하 여 세기 결정 의 정확도 에 미치 는 드리프트 의 영향 을 완화 시킬 수 있 다 . 또한 , 처리 시스템 은 전자 빔 스폿 의 임의 의 이동 ( shift ) 을 추적 할 수 있 으며 , 따라서 전자 빔 편향 을 추적 및 보상 하 기 위해 사용 되 는 편향 방지 구성 요소 가 이 차 광학 시스템 으로부터 제거 될 수 있 다 . 이 는 전자 빔 툴 ( 104 ) 의 설계 , 제조 및 유지 를 단순 화 할 수 있 다 .