도 1 은 , 본 실시 형태 에 따른 성막 방법 의 실시 에 사용 되 는 성막 장치 의 일례 를 도시 하 는 개략 단면도 이 다 . 본 실시 형태 에 따른 성막 장치 는 , 원자 층 퇴적 ( ALD : Atomic Layer Deposition ) 법 에 의한 성막 및 화학 적 기상 성장 ( CVD : Chemical Vapor Deposition ) 법 에 의한 성막 이 실시 가능 한 장치 로서 구성 되 어 있 다 .