얻 어 진 시료 에 대해서 , 화성 처리 성 의 평가 를 행하 였 다 . 얻 어 진 시료 의 표면 에 인산염 화성 처리 피막 을 생성 시켰 다 . 인산염 화성 처리 는 , 탈지 , 수세 , 표면 조정 , 화성 처리 , 다시 수세 , 건조 순서 로 행하 였 다 . 탈지 는 , 얻 어 진 시료 에 대해서 , 니혼 파커라이징 사제 의 탈지제 FC - E 2001 을 , 온도 40 ℃ 에서 2 분 간 스프레이 하 여 행하 였 다 . 수세 는 , 얻 어 진 시료 에 대해서 , 실온 의 수돗물 을 30 초 스프레이 하 여 행하 였 다 . 표면 조정 은 , 니혼 파커라이징 사제 의 표면 조정 제 PL - X 의 욕 에 , 얻 어 진 시료 를 실온 에서 30 초간 침지 하 여 행하 였 다 . 화성 처리 는 , 니혼 파커라이징 사제 의 화성 처리 제 PB - SX 의 35 ℃ 의 욕 에 , 얻 어 진 시료 를 2 분 간 침지 하 여 행하 였 다 . 다시 수세 는 , 얻 어 진 시료 에 대해서 , 수돗물 을 30 초 스프레이 하 고 , 이어서 순수 를 30 초 스프레이 하 여 행하 였 다 . 건조 는 , 얻 어 진 시료 를 열풍로 로 건조 시켜서 행하 였 다 . 이 와 같이 인산염 화성 처리 피막 이 형성 된 시료 에 대해서 , 이하 의 수순 으로 화성 처리 성 을 평가 하 였 다 . 주사 형 전자 현미경 ( SEM ) 으로 각 시료 의 표면 의 화성 결정 을 촬영 하 였 다 . 화성 결정 이 치밀 하 게 형성 되 어 있 고 , 또한 결정 의 긴 변이 2 ㎛ 이상 4 ㎛ 이하 이 면 「 Excellent ( E ) 」 라고 평가 하 였 다 . 화성 결정 이 치밀 하 게 형성 되 어 있 고 , 또한 결정 의 긴 변이 4 ㎛ 초과 8 ㎛ 이하 이 면 「 Medium ( M ) 」 이 라고 평가 하 였 다 . 화성 결정 이 치밀 하 게 형성 되 어 있 지 않 고 , 시료 자체 의 노출 이 보여 지 거나 또는 화성 결정 이 치밀 해도 결정 의 긴 변이 8 ㎛ 초과 이 면 , 「 Worse ( W ) 」 라고 평가 하 였 다 . 그 결과 를 표 3 내지 표 11 에 나타낸다 .