본 발명 은 이미지 평면 에 배치 되 며 전자기 복사선 에 민감 한 워크 피스 를 패 터닝 하 는 장치 ( 100 ) 에 관한 것 이 다 . 이 는 대상 평면 ( 160 ) 과 , 각각 수많 은 대상 픽셀 을 포함 하 는 둘 이상 의 공간 광 변조기 에 전자기 복사선 을 방출 하 는 광원 ( 142 ) 을 포함 하 며 , 대상 픽셀 은 대상 평면 에서 전자기 복사선 을 입력 받 고 워크 피스 를 향해 전자기 복사선 을 전달 하 고 , 상기 전자 복사선 은 둘 이상 의 빔 으로 분리 되 고 , 이 빔 은 공간 광 변조기 및 조명 대안 또는 켤레 광학 평면 사이 의 광학 평면 에 배치 된 빔 분리 장치 에 의해 , 서로 다른 공간 광 변조기 에 충돌 한다 . 또한 본 발명 은 복수 의 공간 광 변조기 를 이용 하 여 워크 피스 를 패 터닝 하 기 위한 방법 에 관한 것 이 다 .