도 1 은 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 리소그래피 장치 를 개략 적 으로 도시 한다 . 상기 장치 는 방사선 빔 ( B ) ( 예 를 들 어 , UV 방사선 또는 여 하한 의 다른 적절 한 방사선 ) 을 컨 디셔 닝 ( condition ) 하 도록 구성 된 조명 시스템 ( 일루 미네 이터 ) ( IL ) , 및 패 터닝 디바이스 ( 예 를 들 어 , 마스크 ) ( MA ) 를 지지 하 도록 구성 되 고 , 소정 파라미터 들 에 따라 패 터닝 디바이스 를 정확히 위치 시키 도록 구성 된 제 1 위치 설정 디바이스 ( PM ) 에 연결 된 패 터닝 디바이스 지 지체 또는 지지 구 조체 ( 예 를 들 어 , 마스크 테이블 ) ( MT ) 를 포함 한다 . 또한 , 상기 장치 는 기판 ( 예 를 들 어 , 레지스 트 - 코팅 된 웨이퍼 ) ( W ) 을 유지 하 도록 구성 되 고 , 소정 파라미터 들 에 따라 기판 을 정확히 위치 시키 도록 구성 된 제 2 위치 설정 디바이스 ( PW ) 에 연결 된 기판 테이블 ( 예 를 들 어 , " 웨이퍼 테이블 ) ( WT ) 또는 "" 기판 지 지체 "" 를 포함 한다 . 또한 ", 상기 장치 는 기판 ( W ) 의 ( 예 를 들 어 , 1 이상 의 다이 를 포함 하 는 ) 타 겟 부 ( C ) 상 으로 패 터닝 디바이스 ( MA ) 에 의해 방사선 빔 ( B ) 에 부여 된 패턴 을 투영 하 도록 구성 된 투영 시스템 또는 렌즈 기둥 ( 예 를 들 어 , 렌즈 기둥 을 포함 한 굴절 투영 렌즈 시스템 ) ( 4 ) 을 포함 한다 .