자기 요소 ( 220 , 240 ) 가 서로 인접 해 있 을 때 , 임 플란트 ( 230 ) 는 원 하 는 관통 깊이 로 전달 된다 . 자기 요소 ( 220 , 240 ) 는 에너지 가 빠져나가 임 플란트 장치 ( 210 ) 가 방출 되 고 바이어 싱 부재 ( 170 ) 는 그 저장 된 에너지 를 방출 하 여 그 이완 된 위치 로 복귀 하 며 , 이 에 의해 베이스 ( 212 ) 및 홀딩 포스트 ( 216 ) 가 표피 각질층 으로부터 수축 된다 . 이러 한 수축 동작 이 일어나 면 , 임 플란트 본체 ( 230 ) 의 바브 ( 232 ) 는 피부 층 과 결합 하 게 되 어 결과 적 으로 홀딩 포스트 ( 216 ) 만 이 환자 로부터 수축 된다 . 이 에 의해 임 플란트 본체 ( 230 ) 가 원 하 는 위치 에 원하 는 깊이 로 뒤 에 남 게 된다 . 임 플란트 본체 ( 230 ) 의 치수 및 바브 ( 232 ) 의 치수 및 위치 는 이 를 달성 하 도록 선택 되 고 임 플란트 본체 ( 230 ) 및 이 안 의 약물 은 환자 의 몸 내부 의 적절 한 위치 에 남 게 된다 .