즉 , KrF 엑 시머 레이저 리소그래피 ( 248 nm ) , 또는 전자 빔 또는 EUV 광과 같 은 고 에너지 조사 를 레지스 트 조성물 에 사용 하 는 경우 , 히드록시 스티렌 과 같 은 페놀 성 히드록시기 를 갖 는 산 안정 단량체 ( a 2 - 0 ) 을 히드록시기 를 갖 는 산 안정 단량체 ( a 2 ) 로서 사용 하 는 것 이 바람직 하 다 . ArF 엑 시머 레이저 리소그래피 ( 193 nm ) , 즉 단파장 의 엑 시머 레이저 리소그래피 를 사용 하 는 경우 , 화학식 ( a 2 - 1 ) 로 표시 되 는 히드록시 아 다만 틸 기 를 갖 는 산 안정 단량체 ( a 2 ) 를 히드록시기 를 갖 는 산 안정 단량체 로서 사용 하 는 것 이 바람직 하 다 . 히드록시기 를 갖 는 산 안정 단량체 ( a 2 ) 는 단독 화합물 로 또는 2 종 이상 의 화합물 의 혼합물 로 사용 할 수 있 다 .