레티 클 의 리소그래피 패턴 에 대한 조명 분포 를 최적 화 하 는 것 과 관련 된 이점 은 타 겟 웨이퍼 로 전달 되 는 패턴 의 충실 도 가 개선 될 수 있 다는 점 이 다 . 소스 픽셀 분포 에 대해 이상 에서 논의 된 관점 에서 이해 될 수 있 듯이 , 산란 된 광 의 대부분 은 상기 사분면 들 에 속할 수 있 다 . 기하학 적 소스 - 동공 축 에 대한 , 우선 적 산란 축의 45 ° 이하 의 각도 의 배향 은 , 산란 된 광 / 산란 된 소스 - 픽셀 이 이미 징 시스템 의 수용 콘 외부 로 향해 증가 하 여 0 ° 에서 최대 가 되 도록 허용 한다 .