본 실시 형태 에 관련 된 표면 처리 제 는 , 산 이 프로톤 으로서 기능 하 기 위해서 , 물 을 포함 하 는 것 이 바람직 하 다 . 물 은 , 불가피 적 으로 혼입 되 는 미량 성분 을 포함 하 고 있 어도 된다 . 본 실시 형태 의 표면 처리 제 에 사용 되 는 물 은 , 증류수 , 이온 교환수 , 및 초 순수 등 의 정화 처리 가 가해진 물 이 바람직 하 고 , 반도체 제조 에 일반 적 으로 사용 되 는 초 순수 를 사용 하 는 것 이 보다 바람직 하 다 . 본 실시 형태 에 관련 된 표면 처리 제 에 있 어서 , 물 의 함유량 은 , 1 ∼ 25 질량 ％ 가 바람직 하 고 , 3 ∼ 20 질량 ％ 가 보다 바람직 하 고 , 5 ∼ 15 질량 ％ 가 더욱 바람직 하 다 .