이어서 , 제 1 가스 분사 모듈 ( 330 a ) 에 제 1 가스 를 공급 하 여 상기 제 1 가스 분사 영역 에 제 1 가스 ( G 1 ) 를 하향 분사 하 고 , 이 와 동시 에 , 제 3 가스 분사 모듈 ( 130 c ) 에 제 2 가스 및 플 라즈 마 전원 을 공급 하 여 제 3 가스 분사 영역 에 플 라즈 마 화 된 제 2 가스 ( PG 2 ) 를 하향 분사 한다 . 이때 , 상기 제 1 가스 ( G 1 ) 및 플 라즈 마 화 된 제 2 가스 ( PG 2 ) 는 기판 지지 부 ( 120 ) 가 소정 방향 으로 1 회전 하 는 공정 싸이클 주기 에 상관없이 지속 적 으로 분사 된다 .