종래 의 기술 에 의할 때 는 , 주로 세포 배양 에 필요 한 가스 는 측면 이나 상측 에서부터 공급 되 어 , 대기 보다 가벼운 가스 의 경우 바닥 면 에 분포 된 세포 에 충분 하 게 공급 되 지 않 는 문제점 이 있 었 다 . 그러나 본 발명 의 실시 예 에서 는 , 기체 투과막 ( 400 ) 이 적용 되 어 아래 로부터 가스 를 공급 할 수 있 으므로 기체 투과막 ( 400 ) 에 안착 된 세포 에 충분 한 가스 를 공급 할 수 있 다 .