마스크 기판 상 에 웨이퍼 상 으로 전사 하 고자 하 는 패턴 을 형성 하 고 , 패턴 이 형성 된 마스크 기판 상 에 패턴 을 감싸 는 보호막 을 형성 한 다음 보호막 이 형성 된 기판 상 에 지지대 를 구비 하 는 펠리 클 을 형성 하 여 패턴 이 형성 된 포토 마스크 를 보호 한다 . 보호막 은 펠리 클 내부 로 공기 가 유입 되 더라도 마스크 기판 상 에 잔류 할 수 있 는 이온 성 분자 들 과 의 반응 을 억제 시킬 수 있 다 . 따라서 , 펠리 클 내부 에서 발생 되 는 성장 성 헤이즈 결함 을 방지 할 수 있 다 .