종종 , 에칭 되 는 웨이퍼 ( 들 ) 의 측벽 이나 챔버 벽 에 붙 는 부산물 을 생성 하 는 부동 화 가스 ( passivant gas ) 와 같 은 가스 들 이 의도 적 으로 첨가 되 고 , 챔버 안 으로 의 가스 유동 의 필수 부분 이 다 . 이러 한 부동 화 가스 의 첨가 는 개별 웨이퍼 상 의 에칭 프로 파일 을 제어 하 고 / 하 거나 특정 챔버 조건 을 유지 하 기 위해 이루어진다 . 이러 한 공정 을 돕 는 특정 한 부동 화 가스 는 아래 에 보다 상세히 설명 된다 .