도 16 을 참조 하 면 , 중합체 증착 및 유기 재료 의 인 시튜 ( in situ ) 에치 백 을 수행 하 기 위한 장치 ( 100 ) 가 제공 된다 . 장치 ( 100 ) 는 적어도 하나 의 기판 ( 120 ) 을 수용 하 도록 구성 된 반응 공간 ( 115 ) 을 정의 하 는 반응 챔버 를 포함 한다 . 또한 , 장치 ( 100 ) 는 제 1 유기 반응물 ( 110 ) 을 기화 시켜 제 1 반응물 증기 를 형성 하 도록 구성 된 제 1 반응물 용기 ( 105 ) 를 포함 한다 . 가스 라인 ( 130 ) 은 제 1 반응 용기 ( 105 ) 를 기판 ( 120 ) 이 수용 될 수 있 는 반응 공간 ( 115 ) 에 유체 연결 한다 . 가스 라인 ( 130 ) 은 제 1 반응물 증기 를 제 1 반응 용기 ( 105 ) 로부터 유입 매니폴드 ( 135 ) 와 반응 공간 ( 115 ) 에 선택 적 으로 운반 하 도록 구성 된다 . 또한 , 장치 ( 100 ) 는 제 2 반응물 ( 145 ) 을 담 고 있 는 제 2 반응물 용기 ( 140 ) 를 포함 한다 . 일부 구 현예 에서 , 제 2 반응물 ( 145 ) 은 자연 적 으로 기체 상태 이 며 ; 다른 구 현예 에서 , 제 2 반응물 용기 ( 140 ) 는 제 2 반응물 ( 145 ) 을 자연 적 인 액체 상태 또는 고체 상태 로부터 기화 시키 도록 또 한 구성 된다 . 제 2 반응물 용기 ( 140 ) 는 유입 매니폴드 ( 135 ) 와 선택 적 으로 유체 연통 한다 . 유입 매니폴드 ( 135 ) 는 챔버 폭 을 가로지르 는 공유 분배 플 레 넘 을 샤워 헤드 형태 또는 교차 흐름 형태 로 포함 하 거나 , 별도 의 반응물 을 위한 반응 공간 ( 120 ) 으로 의 별도 경로 를 유지 할 수 있 다 . 순차 적 증착 의 구 현예 의 경우 , 다수 의 반응물 에 대한 공통 흐름 경로 의 표면 을 따라 , 입자 생성 을 초래 할 수 있 는 반응 을 방지 하 기 위해서 , 반응 공간 ( 115 ) 에 도입 될 때 까지 반응물 유입 경로 를 별도 로 유지 하 는 것 이 바람직 할 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 상기 장치 는 추가 적 인 반응물 의 공급 을 위한 추가 적 인 용기 를 포함 할 수 있 다 .