본 발명 의 또 다른 양태 는 , a ) 기판 상 에 게이트 배선 을 형성 하 는 단계 ; b ) 상기 게이트 배선 을 포함 한 기판 상 에 게이트 절연 층 을 형성 하 는 단계 ; c ) 상기 게이트 절연 층 상 에 반도체 층 을 형성 하 는 단계 ; d ) 상기 반도체 층 상 에 소스 및 드레 인 배선 을 형성 하 는 단계 ; 및 e ) 상기 드레 인 배선 에 연결 된 화소 전극 을 형성 하 는 단계 를 포함 하 고 , 상기 d ) 단계 는 반도체 층 상 에 구리 막 및 티타늄 막 을 형성 하 고 상기 구리 막 및 티타늄 막 을 전술 한 식각 액 조성물 로 식각 하 여 소스 및 드레 인 배선 을 형성 하 는 단계 인 화상 표시 장치 용 어레이 기판 의 제조 방법 에 관한 것 이 다 .