일 구체 예 에서 , 본원 에 는 연마 입자 , 액체 캐리어 , 및 ( i ) 헤테로 원자 로서 황 또는 질소 또는 황과 질소 둘 모두 및 고리 구조 에 부착 된 카보닐 기 를 포함 하 는 헤테로 사이클 탄소 화합물 , ( ii ) 헤테로 원자 로서 황 또는 질소 또는 황과 질소 둘 모두 를 포함 하 는 헤테로 사이클 탄소 화합물 , ( iii ) 알데하이드 또는 케톤 화합물 로 이루어진 군 으로부터 선택 된 , 원소 규소 를 포함 하 는 막 의 제거율 을 신장 시키 기 위한 화합물 을 포함 하 는 폴리 싱 조성물 이 기술 된다 .