본 발명 의 하나 이상 의 실시 양태 의 실시 는 임의 의 특정 란탄 계 촉매 의 선택 에 의해 제한 되 지 않 는다 . 하나 이상 의 실시 양태 에서 , 촉매 조성물 은 란탄 족 화합물 , 알킬화제 , 및 하나 이상 의 불 안정 한 할로겐 원자 를 포함 하 는 할로겐 - 함유 화합물 을 포함 할 수 있 다 . 란탄 족 화합물 및 / 또는 알킬화제 가 하나 이상 의 불 안정 한 할로겐 원자 를 포함 하 는 경우 , 촉매 는 별도 의 할로겐 - 함유 화합물 을 포함 할 필요 가 없 으며 , 예 를 들 면 촉매 는 간단 하 게 할로겐 화 된 란탄 족 화합물 및 알킬화제 를 포함 할 수 있 다 . 특정 실시 양태 에서 , 알킬화제 는 알 루미 녹산 및 하나 이상 의 다른 유기 알루미늄 화합물 을 모두 포함 할 수 있 다 . 또 다른 실시 양태 에서 , 비 배위 음 이온 을 함유 하 는 화합물 또는 비배 위 음 이온 전구체 , 즉 화학 반응 을 통해 비 배위 음 이온 을 형성 할 수 있 는 화합물 이 할로겐 - 함유 화합물 대신 사용 될 수 있 다 . 한 실시 양태 에서 , 알킬화제 가 유기 알루미늄 히드라 이드 화합물 을 포함 하 는 경우 , 할로겐 - 함유 화합물 은 본원 에 참고 로 인용 하 는 미국 특허 제 7 , 008 , 899 호 에 개시 된 주석 할 라이드 일 수 있 다 . 상기 또는 다른 실시 양태 에서 , 상기 열거 된 요소 또는 성분 이외 에 다른 유기 금속 화합물 , 루이스 염기 및 / 또는 촉매 개질 제 가 사용 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 한 실시 양태 에서 , 본원 에 참고 로 인용 하 는 미국 특허 제 6 , 699 , 813 호 에 개시 된 바 와 같이 니켈 - 함유 화합물 이 분자량 조절 제 로 사용 될 수 있 다 .