다음 , 도 9 e 및 도 10 e 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 보호 층 ( 240 ) 상 에 투명 도전 성 물질 층 ( 미 도시 ) 을 형성 하 고 제 5 마스크 공정 에 의해 패 터닝 함 으로써 , 상기 화소 영역 ( P ) 에 화소 전극 ( 250 ) 을 형성 하 고 상기 비 표시 영역 ( NDA ) 에 연결 패턴 ( 252 ) 을 형성 한다 . 상기 투명 도전 성 물질 은 몰리브덴 - 티타늄 합금 ( MoTi ) , 인듐 - 틴 - 옥사이드 ( indium - tin - oxide , ITO ) , 인듐 - 징크 - 옥사이드 ( indium - zinc - oxide , IZO ) 중 어느 하나 일 수 있 다 . 상기 화소 전극 ( 250 ) 은 상기 드레 인 콘 택 홀 ( 242 ) 을 통해 상기 드레 인 전극 ( 234 ) 에 연결 되 며 , 상기 연결 패턴 ( 252 ) 은 상기 그라운드 콘 택 홀 ( 244 ) 을 통해 상기 그라운드 배선 ( 214 ) 에 연결 된다 .