상술 한 바 와 같 은 목적 을 구현 하 기 위한 본 발명 에 따른 이산화 티타늄 나노 입자 제조 장치 는 , 내부 에 수용 공간 이 마련 되 며 , 투입구 와 배출구 가 구비 되 는 반응 로 ; 상기 투입구 를 통해 상기 수용 공간 으로 플 라즈 마 를 공급 해 주 는 플 라즈 마공 급부 ; 및 상기 반응 로 의 외 둘레 에 설치 되 며 , 상기 반응 로 의 중심 축선 과 수직 한 평면 내 에서 상기 중심 축선 을 지나 는 직선 과 소 정각도 를 이루 도록 작동 유체 를 분사 해 주 는 분사 노즐 이 설치 되 어 , 상기 분사 노즐 을 통한 작동 유체 공급 시 상기 수용 공간 내 에서 완만 한 선 회류 를 발생 시켜 주 는 작동 유체 공급 부 ; 를 포함 할 수 있 다 .