두 Si 3 N 4 프로세스 들 ( KT 1 또는 KT 7 및 KT 8 ) 에서 의 산소 흐름 및 작업 압력 ( working pressure ) 의 지속 적 인 변화 로 , 층 시스템 이 특정 템퍼링 프로세스 에 맞춰 지 게 하 는 데 가변 파라미터 들 이 이용 가능 하 다 ( 따라서 가상 의 제어 레버 들 ) . 따라서 , 특정 의 코팅 설비 , " 유리 품질 및 추가 의 처리 ( 특히 템퍼링 ) 에 대하 여 코팅 의 부분 에서 의 최적 의 구조 ( optimum conformation ) 를 달성 하 기 위한 "" 튜닝 범위 ( tuning range ) "" 가 이용 가능 하 다 . "