기판 ( 101 ) 은 약 550 ℃ 내지 약 700 ℃ 미만 의 범위 의 온도 로 가열 될 수 있 다 . 가열 소스 ( 108 ) 는 기판 ( 101 ) 의 구역 화 된 가열 ( 온도 튜닝 ) 을 제공 할 수 있 다 . 온도 튜닝 은 기판 의 나머지 부분 의 온도 에 영향 을 미치 지 않 으면서 특정 위치 들 에서 기판 ( 101 ) 의 온도 를 변경 하 도록 수행 될 수 있 다 . 로봇 이 기판 ( 101 ) 을 처리 용적 ( 139 ) 의 안팎 으로 이송 하 기 위해 슬릿 밸브 ( 137 ) 가 베이스 링 ( 140 ) 상 에 배치 될 수 있 다 . 기판 ( 101 ) 은 기판 지 지체 ( 138 ) 상 에 배치 될 수 있 고 , 기판 지 지체 는 수직 으로 이동 하 고 중심 축 ( 123 ) 에 대하 여 회전 하 도록 구성 될 수 있 다 . 가스 유입 구 ( 131 ) 가 베이스 링 ( 140 ) 위 에 배치 되 고 , 가스 소스 ( 135 ) 에 연결 되 어 , 하나 이상 의 처리 가스 를 처리 용적 ( 139 ) 에 제공 할 수 있 다 . 베이스 링 ( 140 ) 에서 가스 유입 구 ( 131 ) 의 대향 측면 상 에 형성 된 가스 유출 구 ( 134 ) 는 펌프 시스템 ( 136 ) 과 유체 연통 하 는 배기 어셈블리 ( 124 ) 에 적응 된다 . 배기 어셈블리 ( 124 ) 는 가스 유출 구 ( 134 ) 를 통해 처리 용적 ( 139 ) 과 유체 연통 하 는 배기 용적 ( 125 ) 을 정의 한다 .