처리 가스 공급 기구 ( 5 ) 는 , WCl 6 가스 공급 기구 ( 51 ) , 제 1 H 2 가스 공급원 ( 52 ) , 제 2 H 2 가스 공급원 ( 53 ) , 제 1 N 2 가스 공급원 ( 54 ) , 제 2 N 2 가스 공급원 ( 55 ) 및 SiH 4 가스 공급원 ( 56 ) 을 갖 는다 . WCl 6 가스 공급 기구 ( 51 ) 는 , 원료 가스 인 금속 염화물 가스 로서 의 WCl 6 가스 를 공급 한다 . 제 1 H 2 가스 공급원 ( 52 ) 은 , 환원 가스 로서 의 H 2 가스 를 공급 한다 . 제 2 H 2 가스 공급원 ( 53 ) 은 , 첨가 환원 가스 로서 의 H 2 가스 를 공급 한다 . 제 1 N 2 가스 공급원 ( 54 ) 및 제 2 N 2 가스 공급원 ( 55 ) 은 , 퍼지 가스 인 N 2 가스 를 공급 한다 . SiH 4 가스 공급원 ( 56 ) 은 SiH 4 가스 를 공급 한다 .