다음 으로 , 전술 한 제 2 공정 의 아노 다 이징 에 의해 형성 된 티타니아 를 후 열처리 하 는 공정 이 더 수행 될 수 도 있 다 . 즉 , 일반 적 으로 알려진 바 와 같이 , 아 나타 제상 ( anatase 狀 ) 티타니아 는 광촉매 효율 이 가장 우수 하 다 . 따라서 , 제 2 공정 에 의해 나노 기공 의 형성 으로 비표 면적 이 증대 된 티타니아 박막 에 광촉매 효율 을 향상 시키 기 위하 여 아 나타 제상 티타니아 를 형성 하 기 위한 후 열처리 를 행한다 . 후 열처리 의 온도 는 450 ∼ 600 ℃ 가 가장 적당 한데 , 450 ℃ 미만 일 경우 에 는 아 나 타제 로 의 상전이 가 어렵 고 , 600 ℃ 를 초과 할 경우 에 는 루타 일상 ( rutile 狀 ) 으로 상전이 가 발생 하 거나 다른 생성물 이 발생 할 우려 가 있 기 때문 이 다 . 도 5 는 위 의 공정 에 따라 제조 된 나노 다공성 광촉매 티타니아 표면 을 가진 티타늄 분리 막 의 엑스선 회절 패턴 으로서 , 500 ℃ 에서 후 열처리 한 결과 티타니아 박막층 이 아나 타제 상 으로 상전이 된 것 을 알 수 있 다 .