상기 얼라 인 키 및 오버레이 키 를 이용 하 여 정렬 및 정렬 보정 을 하 는 과정 을 설명 하 면 다음 과 같 다 . 스 테퍼 ( stepper ) 의 얼라 인 먼 트 부 에 있 는 광원 ( light source ) 이 반도체 기판 에 형성 되 어 있 는 얼라 인 키 또는 오버레이 키 에 조사 되 었 을 때 상기 얼라 인 키 또는 오버레이 키 에 형성 된 단차 에 의해 간섭무늬 가 형성 된다 . 상기 간섭무늬 의 명암 을 검 출부 에서 인식 하 여 반도체 기판 의 방향 이나 위치 를 파악 하 고 반도체 기판 또는 노광 마스크 를 위치 를 조정 함 으로써 정렬 및 정렬 보정 이 이루어진다 .