상기 문제점 을 해결 하 기 위하 여 , AFM 을 이용 하 여 오버레이 를 측정 함 으로써 , 집적도 가 높 은 소자 에 적용 시 오버레이 데 이타 의 정확도 가 향상 되 며 , 이 를 오버레이 보정 에 적용 하 는 경우 , 상기 오버레이 보정 의 신뢰도 가 향상 되 며 , 후속 공정 으로 형성 되 는 레이어 와 의 오 정렬 발생 을 방지 할 수 있 는 반도체 소자 의 오버레이 측정 방법 을 제공 하 는 것 을 목적 으로 한다 .