도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 기판 지지대 ( 100 ) 는 , 복수 의 기판 ( S ) 을 지지 할 수 있 도록 공정 챔버 ( 600 ) 의 처리 공간 ( A ) 에 구비 되 어 공정 챔버 ( 600 ) 의 중심축 을 기준 으로 회전 가능 하 게 설치 될 수 있 다 . 예컨대 , 기판 지지대 ( 100 ) 는 , 기판 ( S ) 을 지지 할 수 있 는 서 셉 터 나 테이블 등 의 기판 지지 구조 체 일 수 있 다 . 이때 , 샤워 헤드 ( 700 ) 는 , 기판 지지대 ( 100 ) 와 대향 되 도록 공정 챔버 ( 600 ) 의 상부 에 구비 되 어 기판 지지대 ( 100 ) 를 향해 공정 가스 및 세정 가스 등 각종 처리 가스 를 분사 할 수 있 다 .