현재 , 기계 적 박리 법 , 화학 적 박리 법 , 에피 택 셜 성 장법 및 화학 기상 증착 ( CVD ) 법 을 포함 하 여 그래핀 을 제조 하 는 다양 한 방법 이 계속 해서 개발 되 고 있 다 . 종합 적 으로 기존 의 제조 방법 에 비해 CVD 법 은 제조 공정 이 간단 하 고 품질 이 높 으며 생산량 이 비교 적 많 아 주목 받 고 있 으며 , 현재 는 고품질 그래핀 제조 를 제어 하 는 중요 한 방법 이 자 그래핀 의 산업 화 를 실현 하 는 중요 한 수단 으로 자리 잡 고 있 다 . 현재 CVD 법 으로 제조 된 그래핀 은 30 인치 를 넘어서 며 산업 화 응용 에 큰 진전 을 이루 고 있 다 . CVD 법 의 기본 원리 는 고온 에서 기판 을 반응 시켜 탄 소원 을 촉매 탈수소 화 시킴 으로써 , 기판 에 다층 또는 단층 의 그래핀 을 성장 시키 는 것 이 다 .