일 실시 예 에서 , 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 을 형성 할 때 , 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 이 제 1 마스크 패턴 들 ( 42 ) 과 동일 한 물질 로 형성 되 는 경우 , 오버 에치 ( over etch ) 에 의해 제 1 마스크 패턴 들 ( 42 ) 의 두께 가 감소 될 수 도 있 다 . 이 때 , 제 1 마스크 패턴 들 ( 42 ) 의 두께 가 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 의 두께 보다 크 므로 , 제 1 마스크 패턴 들 ( 42 ) 이 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 사이 의 제 1 희생 막 ( 30 ) 상 에 잔류 할 수 있 다 .