상기 샤워 헤드 ( 60 ) 는 외부 로부터 공급 되 는 반응 가스 를 웨이퍼 에 분사 하 여 박막 을 증착 시키 는 것 으로서 , 판 형상 으로 형성 되 어 챔버 ( 40 ) 의 복수 의 커버 ( 42 ) 의 하면 에 각각 결합 된다 . 이 에 , 커버 ( 42 ) 가 챔버 본체 ( 41 ) 에 밀착 결합 되 어 공간 부 ( 43 ) 를 폐쇄 하 면 샤워 헤드 ( 60 ) 는 히팅 플레이트 ( 51 ) 의 상측 에 배치 되 는데 , 더욱 상세 하 게 는 히팅 플레이트 ( 51 ) 의 상면 과 샤워 헤드 ( 60 ) 의 하면 이 나란 한 평면 상 에 배치 되 어 서로 마주 하 게 된다 .