일부 실시 예 에서 , 간섭 기술 은 생산 공정 의 여러 단계 서 유리판 에 관한 여러 단계 에서 오염 물질 ( 예 를 들 어 , 외부 입자 ) 을 검출 하 는 데 에 사용 될 수 있 다 . 이러 한 오염 물질 은 디스플레이 패널 에 가시 적 인 결함 [ 예 를 들 어 , 무라 ( mura ) 결함 ] 을 생기 게 해서 , 결국 에 는 제조 수율 에 영향 을 미칠 수 있 다 . 종종 , 이러 한 결함 은 패널 을 조립 한 후 에 수행 되 는 시각 적 인 검사 에 의해서 만 검출 될 수 있 다 . 본 발명 의 간섭 기술 은 생산 공정 중 의 여러 포인트 에서 유리판 의 자동 화 검사 를 수행 하 는 데 에 사용 될 수 있 다 . 입자 를 검출 했 으면 , 유리판 의 오염 된 표면 을 세정 한 후 에 다음 단계 로 진행 한다 . 따라서 , 본 기술 을 사용 하 면 , 패널 에 무 라 결함 이 생기 는 것 을 감소 시킬 수 있 으며 , 패널 의 품질 을 향상 시키 고 , 제조 비용 을 절감 할 수 있 다 .