또한 , 챔버 ( 1 ) 의 하부 에 는 , 반도체 기판 등 의 기재 ( 10 ) 가 탑재 배치 되 는 스테이지 ( 서 셉 터 ) ( 4 ) 가 설치 되 어 있 다 . 또한 , 기재 ( 10 ) 로서 는 , 예 를 들 면 실리콘 기판 , 화합물 반도체 기판 , 이 들 위 에 절 연막 및 / 또는 절 연막 등 이 형성 된 것 이 사용 된다 . 또한 , 샤워 헤드 ( 3 ) 와 스테이지 ( 4 ) 사이 에 , 탄소 원자 및 탄화 수소 분자 를 포획 하 는 포획 부재 ( 5 ) 가 설치 되 어 있 다 . 포획 부재 ( 5 ) 는 , 예 를 들 면 Pt , Ru , Rh , Pd , Os , Ir 등 의 Pt 족 원소 로 구성 되 어 있 다 . 또한 , 챔버 ( 1 ) 의 내부 에 , 샤워 헤드 ( 3 ) 와 포획 부재 ( 5 ) 사이 의 공간 을 데우 는 히터 ( 2 ) 가 설치 되 어 있 다 .