상기 하드 마스크 막 ( 25 ) 의 식각 에 는 이방성 식각 공정 이 적용 될 수 있 다 . 이 경우 에 , 상기 제 3 개 구부 ( 25 H ) 의 크기 는 상기 제 2 개 구부 ( 31 H ) 에 의하 여 결정 될 수 있 다 . 즉 , 상기 제 3 개 구부 ( 25 H ) 는 상기 사진 공정 의 한계 해상도 보다 작 은 크기 로 형성 될 수 있 다 .