처리 용기 ( 10 ) 의 하단 부 의 매니폴드 ( 90 ) 의 주변 부 는 , 예 를 들 어 스테인리스강 에 의해 형성 된 베이스 플레이트 ( 130 ) 에 의해 지 지 되 어 있 고 , 베이스 플레이트 ( 130 ) 에 의해 처리 용기 ( 10 ) 의 하중 을 지지 하 도록 되 어 있 다 . 베이스 플레이트 ( 130 ) 의 하방 은 , 도시 하 지 않 은 웨이퍼 이동 탑재 기구 를 갖 는 웨이퍼 이동 탑 재실 로 되 어 있 고 , 대략 대기압 의 질소 가스 분위기 로 되 어 있 다 . 또한 , 베이스 플레이트 ( 130 ) 의 상방 은 클린 룸 의 청정 한 공기 의 분위기 로 되 어 있 다 .