먼저 , 플라 즈 마 발생 가스 도입 관 ( 24 ) 으로부터 제공 되 는 가스 가 가스 버퍼 부 ( 25 ) 의 플 라즈 마 가스 분배 홀 ( 25 a ) 과 가스통 로 ( 26 ) 를 통하 여 제 2 샤워 헤드 ( 18 ) 의 제 2 버퍼 부 ( 18 a ) 에 도입 되 면 , RF 전원 부 ( 50 ) 로부터 의 전력 을 상기 RF 로드 ( 19 a ) 를 통하 여 상기 제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 의 저 면판 ( 15 b ) 에 인가 함 으로써 플 라즈 마 를 발생 시킨다 . 공정 초기 , 공정 중간 , 공정 후기 또는 공정 의 진행 내내 플라 즈 마 발생 가스 의 상태 를 고려 하 여 가변 신호 발생기 ( 52 ) 의 가변 주파수 를 조절 하 여 , 저 면판 ( 15 b ) 에 인가 되 는 전력 을 조절 하 도록 한다 . 상기 발생 된 플라 즈 마는 제 2 버퍼 부 ( 18 a ) 내 에서 일정 한 유압 분포 를 이루 면서 제 2 샤워 헤드 ( 18 ) 의 저 면판 ( 18 b ) 에 형성 된 플 라즈 마 발생 가스 분사 홀 ( 18 c ) 을 통하 여 기판 ( 32 ) 에 분사 된다 . 또한 , 상기 원료 가스 주 입관 ( 14 ) 으로부터 원료 가스 가 제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 의 제 1 버퍼 부 ( 15 a ) 에 형성 된 상층 공간 부 에 도입 되 고 , 이 가스 는 다시 중간 판 ( 16 ) 의 홀 ( 16 a ) 을 통하 여 제 1 버퍼 부 ( 15 a ) 의 하층 공간 부 에 유입 되 어 원료 가스 의 유압 이 고르 게 분포 된다 . 이때 , 상기 상부 플레이트 ( 11 ) 에 내장 된 히터 ( 12 ) 에 의해 상기 제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 의 제 1 버퍼 부 ( 15 a ) 에 분포 되 어 있 는 원료 가스 의 온도 를 일정 하 게 유지 시켜 준다 .