레이저 는 일반 적 으로 박막 층 의 결정 화 , 예컨대 박막 트랜지스터 ( Thin Film Transistor , 약어 : TFT ) 의 제조 에 사용 된다 . 처리 될 반도체 는 실리콘 ( 약어 : Si ) , 더 정확 하 게 는 비정질 실리콘 ( 약어 : a - Si ) 이 다 . 반도체 층 의 두께 는 예컨대 50 nm 이 며 , 반도체 층 은 전형 적 으로 기판 , 예컨대 유리 기판 상 에 또는 그 밖 의 캐리어 상 에 배치 된다 .