이러 한 광 근접 보정 은 시뮬레이션 모델 ( simulation model ) 을 이용 하 여 목표 ( target ) 패턴 레이아웃 이 웨이퍼 상 에 전사 되 는 형상 을 예측 하 고 , 전사 된 패턴 레이아웃 이 목표 패턴 레이아웃 에 부합 되게 목표 패턴 레이아웃 을 보정 하 는 과정 이 다 . 이때 , 보다 정교 한 OPC 를 수행 하 기 위해서 , 웨이퍼 상 으로 패턴 을 전사 하 는 노광 과정 에 사용 된 노광 조건 에 대한 정보 , 웨이퍼 상 에 적층 된 스택 ( stack ) 정보 , 사용 할 포토레지스트 ( PR ) 에 대한 정보 등 을 모델 에 산입 하 여 모델 을 캘 리브레 이 션 ( calibration ) 하 는 과정 이 OPC 과정 에 수반 되게 된다 .