도 20 을 참조 하 면 , 상기 포토레지스트 패턴 ( 236 ) 을 식각 마스크 로 사용 하 여 상기 제 2 층간 절 연막 ( 234 ) , 제 2 절 연막 ( 230 ) , 제 1 층 및 제 2 층 도전 막 패턴 ( 224 , 232 ) , 제 1 절 연막 패턴 ( 226 ) 및 제 1 층간 절 연막 ( 214 ) 을 순차 적 으로 식각 함 으로써 개구부 ( 238 ) 를 형성 한다 .