이러 한 플 라즈 마 처리 장치 는 도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 진공 상태 와 대기압 상태 가 반복 적 으로 수행 되 는 상 , 하부 챔버 ( 10 , 12 ) 와 상기 상 , 하부 챔버 ( 10 , 12 ) 내 상 , 하측 에 서로 평행 하 게 대향 되 는 2 개 의 평판 전극 ( 14 , 16 ) 을 구비 한다 . 2 개 의 전극 중 하부 전극 ( 16 ) 상 에 는 기판 ( 도면 에 미 도시 ) 이 탑재 된다 . 따라서 이 하부 전극 ( 16 ) 을 기판 탑재 대 라고 도 한다 .