본 발명 은 단위 [ nm ] 의 동작 파장 λ 를 갖 는 조명 광학 기기 용 , 본 발명 에 따르 는 다중 미러 어레이 ( MMA ) 의 상기 발견 된 것 들 을 활용 한다 . 다중 미러 어레이 ( MMA ) 의 각각 의 미러 는 이 경우 에 최대 틸 트 각도 값 sin ( α ) 까지 적어도 하나 의 축 주위 로 회전 가능 하 고 , 최소 에지 길이 는 200 [ mm * nm ] * sin ( α ) / λ 보다 크 다 . 본 발명 에 따른 이러 한 다중 미러 어레이 ( MMA ) 를 갖 는 조명 광학 기기 로 얻 어 지 는 장점 은 , 외측 및 / 또는 내측 σ 에서 약간 만 차이 가 나 는 , 투사 노광 장치 의 조명 광학 기기 의 오브젝트 필드 포인트 의 출사 동공 의 구조 의 급속 한 변화 를 허용 하 는 것 이 다 . 이 변화 는 정확 하 게 , 시간 적 으로 안정 적 으로 및 재생 가능 하 게 발생 한다 .