예시 적 인 실시 예 들 에 따르 면 , 상기 제 3 개구 를 채우 는 도전 막 을 상기 노출 된 제 2 불순물 영역 상면 , 상기 제 2 스 페이서 , 및 제 5 층간 절 연막 ( 340 ) 상 에 형성 한 후 , 제 5 층간 절 연막 ( 340 ) 의 상면 이 노출 될 때 까지 상기 도전 막 상부 를 평탄 화 함 으로써 , 상기 공통 소스 라인 ( CSL ) 을 형성 할 수 있 다 . 이때 , 제 5 층간 절 연막 ( 340 ) 상면 에 형성 된 상기 제 2 블로킹 막 부분 도 함께 제거 될 수 있 다 . 상기 도전 막 은 금속 , 금속 질화물 및 / 또는 금속 실리사이드 를 포함 하 도록 형성 될 수 있 다 .