본 발명 의 기판 처리 장치 를 이용 하 여 , 공정 가스 들 의 특성 및 공정 조건 들 에 따라 선택 적 으로 온도 제어 가 가능 한 기판 처리 장치 를 제공 할 수 있 다 . 특히 , 구현 하 고자 하 는 공정 목적 ( 예 를 들 어 , 고 선택 비 구현 또는 높 은 설비 당 시 산량 ( UPEH : Unit per equipment hour ) 구현 ) 에 따라 공정 가스 들 을 선택 하 여 온도 조절 할 수 있 다 .