여기 서 , 상기 상부 셀 갭 조정 패턴 ( 130 ) 과 컬럼 스 페이서 ( 150 ) 는 동시 에 패 터닝 되 는 것 이 바람직 하 다 . 즉 , 전체 구조 상 에 오버 코트 막 ( 131 ) 을 도포 하 고 마스크 를 이용 하 여 이 를 노광 하 고 현상 하 여 샐 갭 조정 패턴 ( 130 ) 과 컬럼 스 페이서 ( 150 ) 를 한 번 에 제작 할 수 있 다 . 이 를 통해 마스크 를 이용 한 사진 현상 공정 을 감소 시킬 수 있 고 , 제작 원가 를 감소 시킬 수 있 다 .