그러나 , 특허 문헌 1 에 기재 된 기술 에서 는 , 패턴 데이터 로서 2 치 의 데이터 가 사용 되 고 있 다 . 구체 적 으로 는 , 포토 마스크 의 투광 부 를 「 1 」 로 하 고 , 차 광부 를 「 0 」 으로 하 고 있 다 . 이것 에 의하 면 , 광 강도 분포 시뮬레이션 에 의해 산출 된 광 의 강도 분포 의 산출 정밀도 가 낮 아 진다 . 바꿔 말 하 면 , 이 패턴 데이터 는 , 광 강도 분포 의 산출 정밀도 의 향상 에 기여 하 고 있 지 않 다 .