본 발명 은 레지스 트 하층 막 용 하드 마스크 조성물 에 관한 것 으로서 , 화학식 1 로 표시 되 는 화합물 과 화학식 2 로 표시 되 는 화합물 로부터 생성 되 는 중합체 또는 화학식 4 의 반복 단위 및 화학식 5 와 화학식 6 의 반복 단위 중 적어도 하나 를 포함 하 는 중합체 와 화학식 3 의 고분자 , 산 혹은 염기 성 촉매 , 그리고 유기 용매 를 포함 하 는 조성물 을 특징 으로 하 는 레지스 트 하층 막 용 조성물 을 제공 할 수 있 다 .