다수 의 표면 하 공급 장치 들 각각 으로부터 방사 되 는 흐름 들 이 중첩 되 는 것 을 방지 하 기 위한 또 다른 방법 은 각각 의 공급 장치 들 로부터 방사 되 는 비 희석 공급 물 들 을 그 와 같 은 장치 들 중 어느 것 으로부터 나오 는 비 희석 흐름 이 그 와 같 은 장치 들 중 다른 어느 것 으로부터 나오 는 비 희석 흐름 과 직접 부딪히 지 않 도록 , 서로 격리 시키 는 역할 을 하 는 스크린 이나 방해 판 을 반응 구역 내부 에 설치 및 유지 하 는 것 이 다 . 따라서 , 이 경우 에 는 각 공급 장치 가 그 와 같 은 스크린 또는 방해 판 에 의해 다른 공급 장치 와 상호 격리 된다 . 그 와 같 은 공급 장치 와 스크린 또는 방해 판 의 배열 이 도 4 및 도 5 에 도식 적 으로 제시 된다 .