여기 서 , 절연성 베리 어막 ( 720 ) 은 질화 막 으로 형성 할 수 있 다 . 또한 , 절연성 베리 어막 ( 720 ) 은 도전 층 들 ( 712 a ~ 712 d ) 이나 도전 층 들 ( 712 a ~ 712 d ) 을 격리 하 는 절연 층 들 ( 710 a ~ 710 e ) 을 식각 하 기 위한 식각 제 에 의해 도전 층 이나 절 연막 보다 덜 식각 되 고 , 다층막 ( 728 ) 에 포함 된 전하 저 장막 ( 724 ) 이나 절 연막 ( 722 , 726 ) 의 유전 상수 값 보다 더 큰 유전 상수 값 을 갖 는 절 연막 으로 형성 할 수 있 다 . 예 로써 , 절연성 베리 어막 ( 720 ) 은 Al 2 O 3 막 또는 HfO 2 막 과 같 은 고유 전 절 연막 으로 형성 할 수 있 다 . 절연성 베리 어막 ( 720 ) 을 질화 막 으로 형성 하 는 경우 와 고유 전 절 연막 으로 형성 하 는 경우 의 장점 은 후술 하 기 로 한다 .