다음 에 , 포토 마스크 가 돌기 용 감광성 수지 층 의 표면 으로부터 100 ㎛ 의 거리 로 되 도록 프록시 미티 노광기 를 배치 하 고 , 상기 포토 마스크 를 통해 초고압 수은 등 에 의해 조사 에너지 150 mJ / ㎠ 로 프록시 미티 노광 했 다 . 그 후 , 2 . 38 % 테트라메틸 암모늄 히드록시 드 수용액 을 샤워 식 현상 장치 로 33 ℃ 로 30 초간 기판 에 분무 하 면서 현상 하 여 돌기 용 감광성 수지 층 의 불 필요 부 ( 노 광부 ) 를 현상 제거 했 다 . 그렇게 하 면 , 상기 컬러 필터 기판 의 ITO 막 위 의 R , G , B 화소 의 상부 에 위치 하 는 부분 에 원하 는 형상 으로 패 터닝 된 감광성 수지 층 에 의해 이루어진 돌기 가 형성 되 었 다 . 이어서 , 상기 돌기 가 형성 된 컬러 필터 기판 을 240 ℃ 하 에서 50 분 베이 크 함 으로써 컬러 필터 기판 상 에 높이 1 . 5 ㎛, 종단면 형상 이 반원 형상 인 배향 분할 용 돌기 를 형성 할 수 있 었 다 .