도 4 내지 도 5 를 참조 하 면 , 세정 챔버 ( 500 ) 는 기판 이 놓이 며 회전 가능 한 기판 지지 부재 ( 510 ) 와 , 기판 지지 부재 ( 510 ) 에 놓인 기판 으로 세정액 을 공급 하 는 약액 공급 부재 ( 520 ) 및 기판 지지 부재 ( 510 ) 의 둘레 에 배치 되 는 약액 회수 부재 ( 530 ) 를 포함 한다 . 약액 공급 부재 ( 520 ) 로부터 회전 하 는 기판 상 으로 세정액 이 공급 되 고 , 세정액 에 의해 기판 이 세정 처리 되 며 , 기판 의 세정 처리 에 사용 된 세정액 은 약액 회수 부재 ( 530 ) 를 통해 회수 된다 . 그리고 , 세정 챔버 ( 500 ) 에서 공정 이 진행 되 는 동안 세정 챔버 ( 500 ) 의 상부 에 설치 된 팬 필터 유닛 ( 550 ) 에 의해 청정 공기 가 하강 기류 를 형성 하 며 상부 에서 하부 로 흐르 고 , 청정 공기 는 배기 부재 ( 미 도시 ) 를 통해 배기 된다 . 이때 , 청정 공기 의 공급 에 의해 세정 챔버 ( 500 ) 의 내부 는 대기압 상태 인 챔버 의 외부 보다 수 파스칼 ( Pa ) 정도 높 은 압력 을 유지 한다 .