" 미분 이미지 들 "" a "" 및 "" b "" 를 도입 하 는 것 의 장점 은 ", 수학식 4 를 이용 하 여 PW 분석 에 필요 한 각각 의 특정 디 포커스 세팅 에서 의 전체 이미지 시뮬레이션 ( 즉 , TCC 를 이용 한 마스크 패턴 의 컨 볼루 션 ) 을 수행 하 기 보다 는 디 포커스 오프셋 및 간단 한 덧셈 에 의한 a 및 b 이미지 들 의 직접 스케일링 ( straightforward scaling ) 에 의해 공정 윈도우 의 어떠 한 지점 에서 도 에어리얼 이미지 가 예측 될 수 있 다는 것 이 다 . 또한 , 노광 도즈 의 변화 들 이 인자 ( l + ε ) 에 의한 이미지 세기 의 간단 한 업 스케일 링 또는 다운 스케일링 에 의해 표현 될 수 있 다 :