높 은 흐름 비율 에서 낮 은 압력 을 유지 하 는 것 은 , 가장 낮 은 WER 로 합당 한 성장 률 을 달성 하 기 위해 완전히 또는 거의 완전히 열린 조절판 ( throttle ) 밸브 를 가진 큰 펌프 의 사용 을 필요 로 한다 . 펌프 의 펌핑 능력 은 , 다른 인자 들 중 , 챔버 부피 및 가스 흐름 비율 에 따른 배열 에 의존 될 것 이 다 . 본 발명 이 , Applied Materials 에 의해 제조 된 그리고 300 mm 웨이퍼 에 맞춰진 , Ultima HDP 챔버 에서 사용 되 는 경우 에 , 2800 리터 / 초 와 같 거나 그 초과 인 펌핑 속도 는 최적 화 된 필름 을 위한 600 Å / 분 의 성장 속도 를 가져올 수 있 다 . 본 발명 의 구체 예 는 , 본원 에 참조 로서 통합 되 어 있 는 , " "" Use of Enhanced Turbomolecular Pump for Gapfill Deposition Using High Flows of Low - Mass Fluent Gas "," 의 명칭 의 , 미국 특허 제 7 , 183 , 227 에 기재 된 펌핑 배열 을 사용 한다 . 더 높 은 펌핑 속도 를 사용 하 거나 본 발명 의 구체 예 에 따라 완전히 최적 화 된 것 위 로 WER 가 올라가 도록 함 에 의해 더 높 은 성장 율 은 가능 하 다 .