본 발명 에 따른 화학식 ( 1 ) 의 화합물 은 또한 약제학 적 으로 허용 되 는 염 을 형성 할 수 있 다 . 이러 한 약제학 적 으로 허용 되 는 염 에 는 약제학 적 으로 허용 되 는 음 이온 을 함유 하 는 무독성 산부 가염 을 형성 하 는 산 , 예 를 들 면 염산 , 황산 , 질산 , 인 산 , 브롬화수소산 , 요오드화수소산 등 과 같 은 무기산 ; 타타르산 , 포름산 , 시트르산 , 아세트산 , 트리클로로아세트산 , 트리플 루 오로 아세트산 , 글루콘산 , 벤조산 , 락트산 , 푸마르산 , 말레인 산 , 살리실산 등 과 같 은 유기산 ; 메탄 설폰산 , 에탄 설폰산 , 벤젠설폰산 , p - 톨루엔 설폰산 등 과 같 은 설폰산 등 에 의해 형성 된 산부 가염 이 포함 된다 . 또한 , 예 를 들 어 , 약제학 적 으로 허용 되 는 카복실산 염 에 는 리튬 , 나트륨 , 칼륨 , 칼슘 , 마그네슘 등 에 의해 형성 된 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 염 ; 라이신 , 아르기닌 , 구아니딘 등 의 아미노산 염 ; 디 사이클 로 헥 실 아민 , N - 메틸 - D - 글 루 카민 , 트리스 ( 하이드 록 시 메틸 ) 메틸아민 , 디 에탄올아민 , 콜린 및 트리 에틸아민 등 과 같 은 유기 염 등 이 포함 된다 . 본 발명 에 따른 화학식 ( 1 ) 의 화합물 은 통상 적 인 방법 에 의해 그 의 염 으로 전환 될 수 있 다 .