또한 , 본 발명 에서 는 입자 유입 모듈 ( 200 ) 의 유입 포트 ( 220 ) 가 노출 챔버 ( 101 ) 를 횡단 하 는 방향 으로 복수 개 형성 되 고 , 이 에 따라 노출 챔버 ( 101 ) 에 유해 물질 입자 를 공급 하 는 지점 또한 복수 개 위치 하 게 되 므로 , 노출 챔버 ( 101 ) 내부 에서 유해 물질 입자 의 분산 을 더욱 강화 할 수 있 어 분포 균 일도 가 더욱 향상 된다 .