청구 항 5 에 기재 된 발명 은 , 청구 항 1 내지 4 중 어느 하나 에 기재 된 기판 처리 장치 에 있 어서 , 상기 스무 딩 처리 유닛 에 있 어서 의 용제 증기 공급 수단 은 , 기판 의 표면 에 용제 증기 를 토출 하 는 노즐 과 , 용제 를 수용 하 는 용제 증기 생성 용 탱크 와 , 이 탱크 내 에 용제 증기 압송 용 기체 를 공급 하 는 기체 공급원 과 , 상기 노즐 과 탱크 를 접속 하 는 용제 증기 공급 관로 를 구비 하 고 , 상기 탱크 에 는 , 이 탱크 내 의 온도 를 검출 하 는 온도 센서 와 , 탱크 내 의 용제 액면 의 높이 를 검출 하 는 액면 높이 센서 를 구비 하 며 , 상기 탱크 와 기체 공급원 을 접속 하 는 기체 공급 관로 에 기체 유량 조정 밸브 를 설치 하 고 , 상기 용제 증기 공급 관로 에 용제 증기 의 유량 조정 밸브 를 설치 하 며 , 상기 가스 농도 센서 , 온도 센서 및 액면 높이 센서 로부터 의 검출 신호 에 기초 하 여 상기 제어 수단 에 의해 , 상기 기체 유량 조정 밸브 및 용제 증기 의 유량 조정 밸브 를 제어 하 고 , 상기 표시 수단 에 검출 정보 를 표시 가능 하 게 하 는 것 을 특징 으로 한다 .