이때 , 기판 상 에 폴리 실리콘 의 반도체 층 을 형성 하 는 단계 는 , 상기 기판 상 에 순수 비정질 실리콘 을 증착 하 여 순수 비정질 실리콘 층 을 형성 하 는 단계 와 ; 결정 화 공정 을 진행 하 여 상기 순수 비정질 실리콘 층 을 폴리 실리콘 층 으로 결정 화 하 는 단계 와 ; 상기 폴리 실리콘 층 을 패 터닝 하 는 단계 를 포함 한다 .