또한 , 상술 한 발명 에서 , 상기 제 어부 는 , 각 기판 처리 열 에서 의 공정 을 각 기판 처리 열 사이 에서 다르 게 하 는 것 이 가능 하 고 , 또 , 각 기판 처리 열 에서 의 공정 을 모든 기판 처리 열 에서 동일 하 게 하 는 것 이 가능 한 것 이 바람직 하 다 . 기판 에 행하 는 처리 공정 을 각 기판 처리 열 사이 에서 동일 하 게 함 으로써 , 동일 한 공정 으로 처리 를 행한 기판 을 , 모든 기판 처리 열 로부터 얻 을 수 있 다 . 또한 , 기판 에 행하 는 처리 공정 을 기판 처리 열 사이 에서 다르 게 함 으로써 , 다른 공정 으로 처리 를 행한 각종 기판 을 각 기판 처리 열 로부터 얻 을 수 있 다 .