전 / 후 처리 실은 스테이션 부 ( 200 ) , 제 1 이송 장치 ( 300 ) , 기판 보관 부 ( 400 ) , 촉매 도포 부 ( 500 ) , 회수 부 ( 600 ) , 그리고 제 2 이송 장치 ( 700 ) 를 가진다 . 스테이션 부 ( 200 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 에 반 출입 되 는 기판 ( 10 ) 이 대기 중 에 노출 되 는 것 을 방지 한다 . 제 1 이송 장치 ( 300 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 에 기판 ( 10 ) 을 반 출입 한다 . 기판 보관 부 ( 400 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 에 반 출입 되 는 기판 ( 10 ) 을 저장 한다 . 촉매 도포 부 ( 500 ) 는 기판 ( 10 ) 이 반응 챔버 ( 100 ) 에 반입 되 기 전 에 기판 ( 10 ) 상 에 촉매 를 도포 한다 . 회수 부 ( 600 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 에서 반출 된 기판 ( 10 ) 상 에 합성 된 탄소 나노 튜브 를 기판 ( 10 ) 으로부터 회수 한다 . 제 2 이송 장치 ( 700 ) 는 기판 보관 부 ( 400 ) , 촉매 도포 부 ( 500 ) , 그리고 회수 부 ( 600 ) 간 에 기판 ( 10 ) 을 이송 한다 .