이 목적 은 본 발명 에 따르 는 , 도입부 에 서술 된 마이크 로 리소그래피 용 제 1 투사 노광 장치 에 의해 달성 되 며 , 조명 광학 기기 는 다중 미러 어레이 ( MMA ) 의 조명 을 일시 적 으로 안정 화 시키 기 위한 적어도 하나 의 광학 시스템 을 포함 하 므로 , 각각 의 오브젝트 필드 포인트 에 대해서 , 연관 된 출사 동공 의 강도 분포 는 , 연관 된 출사 동공 의 원 하 는 강도 분포 로부터 벗어난다