도시 된 바 와 같이 , 예시 적 플 라즈 마 처리 챔버 ( 104 ) 는 , 기판 의 고 에너지 이온 충돌 을 이용한 플라 즈 마를 이용 한 재료 의 플 라즈 마 응용 에칭 을 행하 도록 배치 및 구성 된다 . 이 실시 예의 플 라즈 마 파워 서플라이 ( 102 ) 는 , 플 라즈 마 에서 의 점 화 및 유지 를 위해 하나 이상 의 주파수 ( 예컨대 , 13 . 56 Mhz ) 로 매칭 네트워크 ( 도시 되 지 않 음 ) 를 통해 챔버 ( 104 ) 에 파워 ( 예컨대 , RF 파워 ) 를 인가 하 도록 구성 된다 . 본 발명 은 챔버 ( 104 ) 에 파워 를 결합 하 기 위한 어떤 특정 형태 의 플 라즈 마 파워 서플라이 ( 102 ) 또는 소스 에 제한 되 지 않 으며 , 다양 한 주파수 들 및 파워 레벨 들 이 플 라즈 마 ( 114 ) 에 용량 적 으로 또는 유도 적 으로 결합 될 수 있 음 을 이해 해야 한다 .