도 10 a 는 인장 변형 하 에서 AgNW / 키토산 박막 에 대한 저항 의 상대 적 변화 를 도시 한 것 이 다 . 0 . 14 중량 % 의 농도 로 아세트산 에 용해 된 11 - AA 로 처리 된 AgNW / 키토산 필름 은 90 % 까지 신장 될 때 단지 3 . 1 배 의 저항 증가 를 나타낸다 . 이 와 는 대조 적 으로 , 처리 되 지 않 은 필름 은 90 % 변형 률 하 에서 6 . 9 배 의 저항 증가 를 나타낸다 . 그리고 , 키토산 필름 이 90 % 이상 변형 될 때 찢 어 진다는 것 이 관찰 되 었 다 . 11 - AA 의 도입 은 또한 20 % 변형 률 의 수회 의 스트레칭 사이클 후 에 저항 및 투과율 변화 를 현저히 감소 시켰 다 ( 도 10 b 및 도 10 c ) . 또한 , 테이프 부착 - 분리 시험 을 수행 하 여 필름 의 접착 특성 을 조사 했 다 ( 도 10 d ) . 11 - AA 로 처리 된 AgNW / 키토산 필름 은 저항 변화 가 적 은 매우 견고 한 특성 을 나타낸다 . 또한 , 에탄올 과 탈 이온 수 에 침지 된 AgNW / 키토산 박막 의 화학 적 안정 성 을 조사 했 다 ( 도 10 e 와 도 10 f ) . 11 - AA 처리 는 AgNW / 키토산 필름 의 향상 된 접착 특성 으로 인해 필름 의 뛰어난 화학 적 안정 성 을 가져온다 . 11 - AA 로 처리 한 필름 은 크 게 향상 된 신축 성 및 화학 적 안정 성 을 가져 웨어 러블 소자 및 신축성 소자 개발 을 위한 매우 견고 한 신축성 전극 으로서 유망 하 다 .