임의 의 주어진 설정 지점 에 대해 , 온도 의 약간 의 변동 이 일어날 수 있 다 . 통상 적 으로 , 온도 가 설정 지점 으로부터 약간 변동 된 후 에 만 가열 및 냉각 요소 가 활성 화 되 기 때문 에 이 와 같 은 변동 이 일어날 수 있 다 . 이 경우 , 적절 하 게 설정 온도 는 X ( ± Y ) 이 고 가열 또는 냉각 요소 는 온도 가 ± Z ℃ 만큼 변할 시 활성 화 된다 . 통상 적 으로 , 가열 또는 냉각 요소 가 활성 화 되 기 전 설정 지점 으로부터 온도 의 허용 가능 한 정도 의 변동 이 공정 조절 시스템 내 에 프로그램 될 수 있 다 . 온도 는 항온기 로 조절 되 는 가열 및 냉각 요소 에 의해 가장 가까운 ± 0 . 5 ℃, ± 0 . 4 ℃, ± 0 . 3 ℃, ± 0 . 2 ℃ 또는 심지어 는 ± 0 . 1 ℃ 로 조절 될 수 있 다 . ± 0 . 9 ℃, ± 0 . 8 ℃, ± 0 . 7 ℃ 또는 ± 0 . 6 ℃ 와 같 은 온도 의 더 큰 차이 도 프로그램 될 수 있 다 . 온도 는 배양 용기 의 특정 온도 의 가 열 조 내로 의 침액 으로 조절 될 수 도 있 다 . 생각 할 수 있 는 바 로 는 , 가열 이 연속 적 으로 적용 되 기 때문 에 , 설정 지점 으로부터 변동 이 없 다 . 변동 의 다른 원인 은 세포 배양 상청 액 의 온도 에서 의 측정 오류 에 기인 한다 . 세포 배양 장치 에서 사용 되 는 통상 적 인 온도계 는 ± 0 . 3 ℃ 또는 ± 0 . 2 ℃ 또는 심지어 는 ± 0 . 1 ℃ 의 변동성 을 갖 는다 .