반도체 소자 의 고집 적 화 , 고기 능화 가 급속도 로 요구 되 고 있 으며 , 반도체 소자 를 제조 하 는 제조 장치 는 이러 한 요구 를 반영 하 도록 개선 되 어 왔 다 . 상기 반도체 소자 를 제조 하 는 데 에 는 여러 종류 의 반도체 제조 장치 들 이 사용 된다 . 이러 한 반도체 제조 장치 들 중 의 하나 가 반도체 소자 제조 에 사용 되 는 가스 또는 케미컬 을 반도체 기판 에 공급 하 는 공급 장치 이 다 . 상기 공급 장치 에서 상기 가스 또는 케미컬 을 공급 하 는 수단 들 은 여러 가지 가 강구 될 수 있 으나 , 통상 적 으로 배관 을 통해 상기 가스 또는 케미컬 을 상기 반도체 기판 에 공급 한다 .