그런데 상기 피복 형성 재료 는 상기 포토레지스트 패턴 들 을 녹이 지 않 아야 하 고 , 반응 하 고 남 은 찌꺼기 들 의 제거 가 용이 해야 한다 . 종래 의 상기 수용성 폴리머 는 수산기 ( hydroxyl ; - OH ) 들 을 갖 는다 . 상기 수산기 ( hydroxyl ; - OH ) 들 은 분자 내 수소 결합 ( intramolecular hydrogen bonding ; Hb ) 을 할 수 있 다 . 상기 분자 내 수소 결합 ( Hb ) 은 결정 화 점 ( crystallization point ) 의 역할 을 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 상 기 분자 내 수소 결합 ( Hb ) 은 상기 수용성 폴리머 가 물 에 녹 는 것 을 방해 할 수 있 다 . 이 경우 에 , 상기 포토레지스트 패턴 들 사이 의 갭 ( gap ) 영역 은 폴리머 찌꺼기 에 의하 여 매립 될 수 있 다 . 즉 , 상기 피복 형성 재료 의 반응 하 고 남 은 찌꺼기 들 이 상기 포토레지스트 패턴 들 상 에 잔존 할 경우 콘 택 홀 막힘 , 패턴 들 간 마이크 로 브리 징 ( micro - bridging ) 과 같 은 불량 을 유발 한다 .