본원 에서 설명 되 는 계측 타 겟 의 실시 형태 가 대부분 오버레이 측정 의 관점 에서 설명 되 었 지만 , 하나 이상 의 추가 적 인 또는 대안 적 인 패턴 화 프로세스 파라미터 를 측정 하 기 위해 유사 한 기술 이 적용 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 적절 하 게 설계 된 계측 타 겟 은 , 노출 선량 변동 을 측정 하 기 위해 , 노출 포커스 / 디 포커스 를 측정 하 기 위해 , CD 를 측정 하 기 위해 , 등등 을 하 기 위해 사용 될 수 도 있 는데 , 모두 바이어 싱 된 격자 의 쌍 사이 의 비대칭 성 차이 에 기초 한다 .