반도체 소자 를 제조 하 는 과정 에서 포토 리소그래피 ( photolithography ) 공정 은 반도체 기판 에 형성 하 고자 하 는 패턴 을 구현 하 기 위한 방법 으로 이용 되 고 있 다 . 포토 리소그래피 공정 은 패턴 이 그려진 포토 마스크 를 이용 해 포토 마스크 에 그려진 패턴 과 동일 한 레지스 트 패턴 을 반도체 기판 에 전사 하 는 기술 이 다 . 이때 , 이용 되 는 포토 마스크 가 파티클 등 에 의해 오염 되 면 , 반도체 기판 에 전사 되 는 패턴 에 영향 을 미쳐 정교 한 레지스 트 패턴 을 형성 할 수 없 게 된다 .