근래 , 형성 하 고자 하 는 패턴 의 크기 가 작 아 짐 에 따라 상술 한 전형 적 인 리소그래피 기법 만 으로 는 양호 한 프로 파일 을 가진 미세 패턴 을 형성 하 기 어렵 다 . 이 에 따라 식각 하 고자 하 는 재료 층 과 포토레지스트 층 사이 에 일 명 하드 마스크 층 ( hardmask layer ) 이 라고 불리 는 보조 층 을 형성 하 여 미세 패턴 을 형성 할 수 있 다 .