이 에 따라 , 보관 박스 로부터 아웃 개 싱 된 이온 들 로 인해 박스 내부 가 오염 되 어 마스크 표면 에서 성장 성 헤이즈 ( haze ) 를 발생 시키 는 원인 으로 작용 하 고 있 다 . 이러 한 성장 성 결함 은 회로 패턴 내 에서 파티클 ( particle ) 로 작용 하 게 되 고 , 파티클 이 존재 하 는 포토 마스트 는 결국 노광 공정 시 웨이퍼 ( wafer ) 에 전사 되 어 반도체 소자 결함 ( defect ) 을 초래 하 게 된다 .