이렇게 하 여 형성 된 리드 프레임 ( 1 a ) 과 반사 층 을 노출 시킨 리드 프레임 을 , 실온 에서 315 시간 동안 대기 중 에 방치 하 였 다 . 그 결과 , 특성 유지 층 ( 42 ) 을 구비 하 는 리드 프레임 ( 1 a ) 의 소자 탑재 영역 ( 42 a ) 및 접속 영역 ( 42 c ) 의 밑 에 위치 하 는 반사 층 ( 30 ) 의 반사율 은 , 대기 중 에 방치 되 는 전후 에서 변화 되 지 않 았 다 . 한편 반사 층 을 노출 시킨 리드 프레임 에 있 어서 는 , 반사 층 의 반사 율 이 대폭 저하 하 였 다 .