도 4 를 참조 하 면 , 포토 마스크 ( 120 ) 로부터 주형 마스크 ( 140 ) 를 분리 시켜 포토 마스크 상 에 레지스 트 패턴 ( 131 ) 을 형성 한다 . 레지스 트 패턴 ( 131 ) 은 포토 마스크 ( 120 ) 상 에 정상 적 으로 패 터닝 된 광차 단막 패턴 ( 110 ) 사이 에 노출 된 투명 기판 ( 100 ) 부분 을 덮 으면서 , 포토 마스크 ( 120 ) 상 에 레지스 트 패턴 이 형성 된다 .