본 발명 의 에칭 장치 ( 본 에칭 장치 ) 는 , 웨이퍼 지 지구 에 지지 된 웨이퍼 를 웨트 에칭 하 는 웨트 에칭 장치 로서 , 그 웨이퍼 지지 구 에 지지 된 웨이퍼 의 상면 에 에칭 액 을 모아 웨이퍼 의 상면 을 에칭 하 는 에칭 유닛 과 , 그 웨이퍼 지지 구 에 지지 된 웨이퍼 의 상면 을 세 정수 에 의해 세정 하 는 세정 유닛 과 , 그 웨이퍼 지지 구 에 지지 된 웨이퍼 를 스핀 회전 시켜 건조 시키 기 위한 건 조 유닛 과 , 그 에칭 유닛 , 그 세정 유닛 , 및 그 건조 유닛 을 수용 하 는 수용 실 을 포함 하 고 , 그 웨이퍼 지지 구 는 , 웨이퍼 의 하면 에 부분 접촉 하 여 웨이퍼 가 재치 ( 載 置 ) 되 는 베이스 부 , 및 , 그 베이스 부 에 재치 된 웨이퍼 를 둘러싸 도록 그 베이스 부 에 세워 형성 되 어 있 는 복수 의 기둥 부를 포함 하 는 본 체부 와 , 그 본체 부 에서 외측 으로 뻗 어 나오 는 다리 를 구비 하 고 있 고 , 그 세정 유닛 은 , 그 웨이퍼 지 지구 의 간극 으로부터 흘러 떨어지 는 세 정수 를 회수 하 도록 구성 되 어 있 고 , 웨이퍼 의 상면 을 에칭 한다 .