초 순수 ( DIW ) 의 분사 를 통한 세정 작업 이 있 은 후 에 는 회 전부 ( 미 도시 ) 에 의하 여 립 씰 구 조체 ( 20 ) 가 포함 된 헤드 ( 10 ) 가 고속 으로 회전 되 면서 원심력 에 의하 여 접촉 스트립 ( 23 ) 을 비롯 한 립 씰 구 조체 ( 20 ) 에 잔존 하 고 있 는 초 순수 ( DIW ) , 도금 용액 및 초 순수 ( DIW ) 에 용해 된 구리 성분 등 을 완전히 제거 한다 .