이상 에서 설명 한 바 와 같이 , 본 발명 은 식각 챔버 내 에 구비 되 는 웨이퍼 스테이지 의 중심부 에 진공 회전 핀 ( Vacuum Rotation Pin ) 을 구비 시키 고 , 각 식각 단계 마다 웨이퍼 의 위치 를 변경 시킴 으로써 , 웨이퍼 전면 에 걸쳐서 균일 한 식각 비율 이 나타나 도록 할 수 있 다 . 따라서 , 식각 불 균형 에 의해 발생 할 수 있 는 웨이퍼 의 결함 을 방지 하 고 , 반도체 소자 의 공정 수율 을 증가 및 반도체 소자 의 신뢰 성 을 향상 시킬 수 있 는 효과 를 제공 한다 .