포토 마스크 의 오염 을 방지 하 기 위해 예컨대 , 포토 마스크 를 제작 한 후 , 포토 마스크 상 에 펠리 클 ( pelicle ) 을 부착 하 고 있 다 . 그런데 , 펠리 클 을 구성 하 고 있 는 에어 홀 을 통해 외부 의 공기 가 펠리 클 내부 로 유입 될 수 있 다 . 또한 , 내부 적 으로 포 토마스 크 제작 시 , 수반 된 세정 공정 에서 황산 등 의 이온 성 분자 들 이 포토 마스크 표면 에 잔류 될 수 있 다 .