이것 에 대하 여 , 본 실시 형태 에 따른 플 라즈 마 처리 장치 ( 1 ) 의 환형 부재 ( 26 ) 는 , 도 2 에 도시 된 기판 ( W ) 의 외주 부 의 하면 과 정전 척 ( 20 ) 의 상면 사이 의 공간 ( A ) 에 , 제 2 환형 부재 ( 26 b ) 와 분리 된 제 1 환형 부재 ( 26 a ) 를 수용 하 는 구조 를 갖 는다 . 그리고 , 기판 ( W ) 의 외주 부 의 에칭 특성 을 개선 하 기 위해 , 제 1 환형 부재 ( 26 a ) 의 유전율 을 최적 화 하 여 , 기판 ( W ) 아래 의 공간 ( A ) 에서 의 임피던스 를 최적 화 한다 . 이것 에 의해 , 기판 ( W ) 의 외주 부 의 플 라즈 마 밀도 를 제어 함 으로써 , 기판 ( W ) 의 최 외주 의 에칭 특성 을 개선 한다 . 이것 에 의해 , 기판 ( W ) 의 에칭 의 면내 균일성 을 향상 시킬 수 있 다 .