도 24 를 참조 하 여 , 전원 공급 시스템 ( 300 ) 은 복수 개 의 공정 챔버 ( 210 , 220 , 230 ) 에 각기 설치 되 는 다중 분할 전극 어셈블리 ( 30 ) 를 구동 하 기 위한 복수 개 의 메인 전원 공급원 ( 40 ) 을 포함 한다 . 복수 개 의 메인 전원 공급원 ( 40 ) 은 기판 처리 공정 에 따라 전력 및 주파수 가 서로 다를 수 있 다 . 또한 , 복수 개 의 메인 전원 공급원 ( 40 ) 은 복수 개 의 공정 챔버 ( 210 , 220 , 230 ) 에 각기 설치 되 는 다중 분할 전극 어셈블리 ( 30 ) 중 에서 적어도 두 개 를 공통 으로 구동 할 수 도 있 다 . 메인 전원 공급원 ( 40 ) 으로부터 발생 된 무선 주파수 전원 은 임피던스 정합 기 ( 41 ) 와 분배 회로 ( 50 ) 를 통하 여 다중 분할 전극 어셈블리 ( 30 ) 에 구비 된 복수 개 의 용량 결합 전극 ( 31 , 33 ) 으로 공급 된다 . 복수 개 의 공정 챔버 ( 210 , 220 , 230 ) 모두 가 다중 분할 전극 어셈블리 ( 30 ) 를 구비 한 공정 챔버 일 수 있 지만 , 일부 공정 챔버 는 구비 하 지 않 을 수 도 있 다 .