구체 적 인 일 예 로 , 상기 열처리 는 20 내지 150 ℃ 의 온도 에서 수행 되 는 것 일 수 있 으며 , 구체 적 으로 는 50 내지 130 ℃, 보다 구체 적 으로 는 80 내지 120 ℃ 에서 수행 되 는 것 일 수 있 으며 , 상기 온도 범위 에서 열처리 됨 에 따라 음극 집 전체 의 물 성 에 영향 을 끼치 지 않 으면서 , 균일 한 음극 활물질 층 을 형성 시킬 수 있 다 .