또 , 상술 한 제 8 , 제 9 실시 형태 에서 는 Y 축 방향 에 관하 여 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM 2 ) 를 이 산적 ( 離 散 的 ) 으로 형성 하 는 것 으로 하 였으나 , 예 를 들 면 패턴 형성 영역 의 전역 에 걸쳐서 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM 2 ) 를 연속 적 으로 형성 해도 된다 . 또한 , 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM 2 ) 는 , 마스크 의 중심 을 통과 하 고 또한 Y 축 과 평행 한 직선 에 관하 여 대칭 으로 배치 되 지 않 아도 된다 . 또 , 제 1 , 제 2 마스크 ( M 1 , M 2 ) 를 각각 다른 마스크 스테이지 로 유지 해도 된다 .