실리콘 입자 는 , 화학 적 으로 불활성 이 고 , 수지 에 의 분산 성 이 뛰어난 소경 ( 小徑 ) 입자 이 며 , 또한 , 충분 한 특성 을 얻 기 위해서 필요 하 게 되 는 함유량 이 적 기 때문 에 , 가교 반응 을 저해 하 지 않 고 , 전자 사진 감광체 의 표면 성상 을 개선 할 수 있 다 . 즉 , 강고 한 가교 구조 중 에 거의 균일 하 게 편입 된 상태 로 , 전자 사진 감광체 표면 의 윤활 성 , 발수성 을 향상 시키 고 , 장기간 에 걸쳐 양호 한 내마모성 , 내 오염물 부착 성 을 유지 할 수 있 다 . 경화 성 수지 조성물 중 의 실리콘 입자 의 함유량 은 , 경화 성 수지 조성물 중 의 고형분 전량 을 기준 으로 하 여 바람직 하 게 는 0 . 1 질량 % 이상 30 질량 % 이하 의 범위 이 며 , 보다 바람직 하 게 는 0 . 5 질량 % 이상 10 질량 % 이하 의 범위 이 다 .