본 실시 형태 의 노광 장치 ( EX ) 는 , 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 에 대한 기 판 ( P ) 의 소정 의 주사 방향 으로 의 이동과 , 제 1 조명 영역 ( IA 1 ) 에 대한 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 소정 의 주사 방향 으로 의 이동과 , 제 2 조명 영역 ( IA 2 ) 에 대한 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 소정 의 주사 방향 으로 의 이동 을 동기 하 여 실시 하 는 것 에 의해서 , 패턴 화 된 노광 광 ( EL ) 을 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 의 각각 에 조사 하 는 주사 형 의 노광 장치 이 다 . 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 하 는 경우 에 는 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , Y 축 방향 의 다른 위치 에 규정 된 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 과 의 각각 에 노광 광 ( EL ) 을 조사 함 과 동시 에 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 이 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 대해서 상대 이동 되 도록 기판 스테이지 ( 4 ) 를 제어 하 여 기판 ( P ) 을 Y 축 방향 으로 이동 하 는 것 에 의해서 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 으로 형성 되 는 제 1 패턴 의 상과 , 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 으로 형성 되 는 제 2 패턴 의 상 으로 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 ( 이중 노광 ) 한다 . 이 때 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 기판 ( P ) 을 유지 한 기판 스테이지 ( 4 ) 의 Y 축 방향 으로 의 이동과 동기 하 여 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 를 유지 한 제 1 마스크 스테이지 ( 6 A ) 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 를 유지 한 제 2 마스크 스테이지 ( 6 B ) 를 , 소정 의 주사 방향 으로 이동 한다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 기판 ( P ) 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 노광 할 때 , 예 를 들 면 기판 스테이지 ( 4 ) 의 - Y 방향 으로 의 이동과 동기 하 여 , 제 1 마스크 스테이지 ( 6 A ) 를 - Z 방향 으로 이동 함 과 동시 에 , 제 2 마스크 스테이지 ( 6 B ) 를 + Z 방향 으로 이동 한다 . 이것 에 의해 , 상술 한 실시 형태 와 마찬가지 로 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 조사 된 노광 광 ( EL ) 으로 노광 된 기판 ( P ) 의 감광층 이 , 현상 공정 등 을 통하 지 않 고 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 조사 된 노광 광 ( EL ) 으로 재차 노광 ( 이중 노 광 ) 된다 .