도 2 m 을 참조 하 면 , 희생 렌즈 패턴 들 ( 730 ) 이 예비 렌즈 층 ( 601 ) 상 에 형성 될 수 있 다 . 희생 렌즈 패턴 들 ( 730 ) 은 기판 ( 100 ) 의 픽셀 영역 들 ( PX ) 과 각각 대응 되 는 위치 들 에 형성 될 수 있 다 . 희생 렌즈 패턴 들 ( 730 ) 의 형성 은 희생 층 을 예비 렌즈 층 ( 601 ) 상 에 형성 하 는 것 , 상기 희생 층 을 패 터닝 하 여 희생 패턴 들 을 형성 하 는 것 , 및 상기 희생 패턴 들 을 리플 로우 시키 는 것 을 포함 할 수 있 다 . 상기 희생 패턴 들 이 리플 로우 되 어 , 희생 렌즈 패턴 들 ( 730 ) 을 형성 할 수 있 다 . 희생 렌즈 패턴 들 ( 730 ) 각각 은 반구형 일 수 있 다 .