정렬 입력 을 기여 자 의 예 로 들 어 보 면 , 예 를 들 어 3 차 다항식 을 기초 로 하 는 고차 정렬 모델 이 정렬 측정 으로부터 모델 콘텐츠 를 계산 하 기 위해 사용 된다 . 이러 한 모델 콘텐츠 는 정렬 마크 변형 과 함께 웨이퍼 변형 기여 도 에 의하 여 크 게 영향 ( dominated ) 을 받 을 수 있 다 . 그러나 , 정확 한 오버레이 계측 모니터링 , 제 어 또는 결함 예측 을 위하 여 , " 웨이퍼 변형 기여 도만 이 진정한 신호 이 다 . 정렬 마크 변형 은 관련 이 없 으며 배제 되 어야 할 오차 ( 또는 "" 노이즈 "") 소스 이 다 . 이러 한 부 정확 한 모델 콘텐츠 를 포함 하 는 것 의 결과 는 전산 계측 ( CM ) 의 일관 되 지 않 은 성능 이 다 . 작 은 정렬 마크 변형 만 을 겪 는 웨이퍼 의 경우 ", 더 높 은 신호 대 노이즈 비 로 인하 여 고차 모델 을 갖 는 정렬 입력 은 계측 정확도 를 향상 시킬 수 있 다 . 심각 한 정렬 마크 변형 을 겪 는 웨이퍼 의 경우 , " 낮 은 신 호대 노이즈 비 로 인하 여 이 입력 은 계측 정확도 를 저하 시킬 수 있 다 . 오 차 ( 또는 "" 노이즈 "") 는 사용 되 고 있 는 모델 의 차수 에 비례 한다 . 전형 적 으로 ", 이 는 공정 - 유도 된 영향 으로 인하 여 정렬 마크 가 가장 많이 변형 되 는 위치 에서 , " 예 를 들 어 웨이퍼 에지 에서 일어난다 . 이러 한 제한 은 저차 모델 이 "" 노이즈 "" 의 진폭 을 제한 하 기 위해 선택 되 는 것 으로 이어지 지만 ", 그러면 고차 모델 에 의해서 만 캡 처 되 는 실제 웨이퍼 변형 신호 가 입력 에서 누락 되 기 때문 에 CM 의 성능 은 제한 된다 .