경통 ( 107 ) 의 내부 는 , 상술 한 것 같이 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 에 대하 여 양 압 으로 유지 되 어 있 기 때문 에 , 둘러싸 는 부재 ( 301 ) 를 설치 하 는 것 에 의해 , 둘러싸 는 부재 ( 301 ) 에 둘러싸여 진 공간 이 높 은 청 정도 의 기체 ( 204 ) 나 제 2 급기 부 ( 108 ) 로부터 공급 되 는 기체 로 채워진다 . 따라서 , 둘러싸 는 부재 ( 301 ) 에 둘러싸여 진 공간 은 , 높 은 청 정도 의 경통 ( 107 ) 의 내부 와 낮 은 청 정도 의 챔버 ( 110 ) 의 내부 와 의 완충 공간 으로서 기능 한다 . 이 에 따라 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 가 흐트러졌 을 때 에 , 그 영향 을 둘러싸 는 부재 ( 301 ) 에 둘러싸여 진 공간 에서 흡수 할 수 있 으므로 , 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 의 오염 물질 의 영향 을 작 게 할 수 있 다 . 또한 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 의 오염 물질 의 농도 가 높 은 경우 에 있 어서 도 , 둘러싸 는 부재 ( 301 ) ( 에 둘러싸여 진 공간 ) 를 설치 함 으로써 , 광학 부품 ( 201 ) 에 가까워짐 에 따라서 서서히 오염 물질 의 농도 를 낮 게 할 수 있 다 . 따라서 , 광학 부품 ( 201 ) 에 접하 는 오염 물질 의 양 을 저감 할 수 있 다 .