본 발명 은 , 특히 , 하나 이상 의 광선 을 생성 하 고 이 를 하나 이상 의 비아 - 홀 을 포함 하 는 구조 의 영역 의 샘플 을 향하 도록 하 기 위한 조명 시스템 을 포함 하 는 광학 시스템 을 제공 함 으로써 , 상기 구조 에서 하나 이상 의 비아 - 홀 에 대한 하나 이상 의 파라미터 를 결정 할 수 있 도록 한다 . 비아 - 홀 에서 반사 된 빛 이 , 검출기 를 포함 하 는 검출 시스템 에 의해 수집 된다 . 검출 시스템 은 조명 된 영역 으로부터 반사 되 는 빛 의 패턴 을 수집 하 도록 기능 하 고 구성 되 며 , 이러 한 빛 패턴 은 비아 - 홀 의 하나 이상 의 파라미터 를 나타낸다 . 검출기 에 입사 하 는 반사 된 빛 의 패턴 이 검출 시스템 에 연결 된 제어 시스템 에 의해 분석 되 고 , 홀 에 대한 하나 이상 의 패턴 이 얻 어 진다 . 제 어 시스템 은 , 패턴 이 반사 된 비아 - 홀 을 설명 하 는 파라미터 들 의 세트 를 나타내 는 데이터 를 포함 하 는 미리 지정 된 이론 적 모델 을 저장 하 기 위한 메모리 유틸리티 를 포함 하 고 , 검출 된 빛 패턴 을 나타내 는 상 데이터 를 수신 및 분석 하 여 비아 - 홀 의 하나 이상 의 파라미터 를 결정 하 도록 기능 하 고 구성 되 는 데이터 처리 및 분석 유틸리티 를 포함 한다 . 단일 홀 의 측정 에 관한 모든 이하 의 설명 은 , 임의 의 장소 또는 반복 적 인 어레이 구조 에 배치 되 는 다수 의 홀 에 도 적용 가능 하 다 .