제 3 의 실시 의 형태 에서 는 , 금속 산화 막 ( 14 ) 으로서 산화 탄탈 ( Ta 2 O 5 ) 층 을 이용 한 경우 를 예 로 들 어서 설명 을 행하 고 있 지만 , 반드시 산화 탄탈 ( Ta 2 O 5 ) 층 을 이용 할 필요 는 없 다 . 즉 , 산화 막 ( 13 ) 을 구성 하 는 재료 ( 본 실시 의 형태 의 경우 에 는 SiO 2 ) 의 산화 엔탈피 보다 도 작 은 산화 엔탈피 를 나타내 는 재료 로 구성 되 어 있 으면 충분 하 고 , 반드시 산화 탄탈 ( Ta 2 O 5 ) 층 으로 구성 될 필요 는 없 다 . 예 를 들 면 , 산화 니오브 ( Nb 2 O 5 ) , 산화 바나듐 ( V 2 O 3 ) , 산화 크롬 ( Cr 2 O 3 ) , 산화 텅스텐 ( WO 2 ) , 산화 몰리브덴 ( MoO 2 ) 등 으로 구성 되 어도 좋 다 . 또한 , 산화 막 ( 13 ) 을 구성 하 는 재료 의 산화 엔탈피 보다 도 작 은 산화 엔탈피 를 나타내 는 재료 로 구성 되 어 있 으면 , 산화물 일 필요 도 없 다 .