수용 기구 ( 40 ) 는 , 열처리 의 대상 인 웨이퍼 ( W ) 를 수용 하 도록 구성 되 어 있 다 . 수용 기구 ( 40 ) 는 , 챔버 ( 41 ) 와 , 챔버 구동 부 ( 45 ) 를 구비 한다 . 챔버 ( 41 ) 는 , 열처리 를 행하 는 처리 공간 ( S ) 을 형성 하 도록 구성 되 어 있 다 . 환언 하 면 , 챔버 ( 41 ) 는 열 판 ( 21 ) 상 의 처리 공간 ( S ) 을 덮 는다 . 챔버 ( 41 ) 는 , 하부 챔버 ( 42 ) 와 , 상부 챔버 ( 43 ) 와 , 하부 챔버 ( 42 ) 와 상부 챔버 ( 43 ) 사이 에 설치 된 서포트 링 ( 44 ) 을 갖 는다 .