부산물 의 일정 한 분압 들 및 웨이퍼 를 가로질러 가스 분자 들 의 체류 시간 을 생성 하 기 위해 , 듀얼 샤워 헤드 반응기 가 사용 될 수 있 다 . 듀얼 샤워 헤드 구조 는 에 천트 및 부산물 에 대해 공간 적 으로 균일 한 분압 들 , 체류 시간 들 및 온도 들 을 달성 할 수 있 어 , 웨이퍼 를 가로질러 균일 한 에칭 속도 를 유도 한다 . 상기 시스템 은 상기 반응기 로 의 차등 펌핑 을 포함 할 수 있 다 .