이 와 같이 하 여 얻 어 진 커버 글래스 ( 실시 예 ) 의 외형 을 따라서 단면 의 단면 형상 을 광학 현미경 에 의해 조사 한 바 , 단면 형상 이 도 4 의 ( c ) 에 도시 한 바 와 같 은 형상 이 며 전체 외형 에 걸쳐 거의 동일 한 것 이 확인 되 었 다 . 또한 , 얻 어 진 커버 글래스 의 주 표면 의 표면 거칠 기 ( 산술 평균 거칠 기 Ra ) 를 원자간력 현미경 으로 측정 한 바 , 0 . 2 ㎚ 로 , 다운 드로우 법 에 의해 형성 한 직후 의 표면 상태 와 변함없이 , 높 은 평활 성 을 갖 고 있 었 다 . 또한 , 커버 글래스 의 단면 의 표면 거칠 기 ( 산술 평균 거칠 기 Ra ) 를 원자간력 현미경 으로 측정 한 바 , 외형 전체 에 걸쳐 1 . 2 ∼ 1 . 3 ㎚ 이 었 다 . 이 와 같이 , 단면 의 표면 거칠 기 가 작 았 던 것 은 , 형상 가공 시 에 기계 가공 을 행하 지 않 고 , 시트 글래스 상 에 형성 한 레지스 트 패턴 을 마스크 로 하 여 , 에 천 트 로 글래스 기판 을 에칭 함 으로써 원 하 는 형상 으로 잘라 내 는 에칭 공정 을 채용 하 고 있 으므로 , 연마 지 립 이나 연삭 지석 등 에 의한 기계 가공 시 에 발생 하 는 귀얄 자국 ( brush marks ) 이나 마이크 로 크랙 이 없 기 때문 이 라고 생각 된다 .