상기 본 발명 의 목적 을 달성 하 기 위해 본 발명 에 따른 반도체 장치 의 결함 검사 방법 은 , 패턴 이 형성 된 반도체 기판 을 투입 하 는 단계 , 상기 패턴 상 에서 적어도 하나 이상 의 블록 을 설정 하 는 단계 , 상기 각 블록 에 셀 사이즈 를 설정 하 는 단계 , 상기 각 셀 단위 로 이미지 를 획득 하 는 단계 및 상기 셀 이미지 들 을 비교 하 여 결함 을 검출 하 는 단계 를 포함 할 수 있 다 .