도 4 ( a ) 및 도 4 ( b ) 는 본 발명 에 따라 형성 된 비정질 탄소막 의 압력 에 따른 굴절 률 ( N ) 및 광 흡수 계수 ( K ) 의 변화 를 도시 한 그래프 이 다 . 도 4 ( a ) 및 도 4 ( b ) 에 도시 된 바 와 같이 압력 이 1 Torr , 2 Torr , 3 Torr , 4 Torr 및 6 Torr 로 증가 할수록 굴절 률 ( N ) 은 감소 하 고 , 광 흡수 계수 ( K ) 또한 감소 한다 . 특히 , 633 nm 파장 에서 는 압력 이 증가 할수록 굴절 률 ( N ) 은 약 1 . 82 부터 약 1 . 08 까지 감소 하 며 , 광 흡수 계수 ( K ) 는 약 0 . 2 부터 약 0 . 01 까지 감소 한다 . 이때 , 압력 이 증가 함 에 따라 증착 두께 는 증가 하 게 된다 .