상기 활성 영역 을 리세 스 시킴 과 아울러 상기 활성 영역 에서 의 게이트 형성 영역 중앙 에 홈 을 형성 하 는 단계 는 , 상기 활성 영역 에서 의 게이트 형성 영역 을 리세 스 시키 는 단계 ; 상기 리세 스 된 게이트 형성 영역 의 측벽 에 절연 막 스 페이서 를 형성 하 는 단계 ; 및 상기 절연 막 스 페이서 를 식각 마스크 로 이용 해서 노출 된 활성 영역 부분 을 식각 하 여 상기 리세 스 된 활성 영역 의 게이트 형성 영역 에 홈 을 형성 함 과 아울러 상기 게이트 형성 영역 이외 의 나머지 활성 영역 부분 을 리세 스 시키 는 단계 ; 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .