다음 으로 , 도 22 에 도시 된 바 와 같이 , 대상 기판 ( SUB ) 상 에 분사 된 잉크 ( I ) 에 광 ( hv ) 을 조사 한다 . 광 조사 장치 ( 500 ) 가 잉크 ( I ) 에 광 ( hv ) 을 조사 하 면 , 쌍극자 ( DP ) 에 포함 된 전자 들 이 광 ( hv ) 에 반응 하 여 쌍극자 모멘트 가 커질 수 있 다 ( 도 22 의 DP '). 쌍극자 모멘트 가 커진 쌍극자 ( DP ') 는 후속 공정 에서 전계 형성 유닛 ( 100 ) 이 생성 하 는 전계 ( IEL ) 에 의해 받 는 힘 이 커지 게 되 고 , 제 1 전극 ( 21 ) 과 제 2 전극 ( 22 ) 사이 에 정렬 될 수 있 다 . 여기 서 , 광 조사 장치 ( 500 ) 는 쌍극자 ( DP ) 의 쌍극자 모멘트 를 증가 시키 기 위해 , 쌍극자 ( DP ) 를 향해 광 ( hv ) 을 조사 수 있 다 . 도면 에서 는 일 예 로 광 조사 장치 ( 500 ) 가 대상 기판 ( SUB ) 상 에 광 ( hv ) 을 조사 하 는 것 이 도시 되 어 있 으나 , 이 에 제한 되 지 않 는다 . 상술 한 바 와 같이 , 경우 에 따라 광 조사 장치 ( 500 ) 는 대상 기판 ( SUB ) 의 상부 에 광 ( hv ) 을 조사 하 거나 , 또는 잉크젯 헤드 ( 335 ) 로부터 잉크 ( I ) 가 토출 될 때 광 ( hv ) 을 조사 할 수 있 다 . 다만 , 이 에 제한 되 지 않 는다 .