정해진 시간 약액 처리 를 행한 후 , 이어서 웨이퍼 ( W ) 의 회전 및 가스 토출구 ( 212 , 213 ) 로부터 의 N 2 가스 의 토출 을 계속 하 고 , 약액 노즐 ( 71 ) 및 약액 용 의 이면 노즐 ( 76 ) 로부터 의 약액 의 토출 을 정지 하 고 , 린스 노즐 ( 72 ) 및 린스 액 용 의 이면 노즐 ( 76 ) 로부터 린스 액 ( DIW ) 을 웨이퍼 ( W ) 의 주연 부 에 공급 하 여 , 린스 처리 를 행한다 . 이 린스 처리 에 의해 , 웨이퍼 ( W ) 의 표면 상 및 이면 상 에 잔존 하 는 약액 및 반응 생성물 등 이 씻겨 내 진다 .