제조 효율 을 높이 기 위해 , 단일 의 웨이퍼 로부터 하나 이상 의 장치 를 준비 할 수 있 다 . 이 장치 는 동일 할 수 도 상이 할 수 도 있 다 . 각각 의 장치 는 , 웨이퍼 의 서브 세트 가 패턴 으로 결상 되 어야 한다 . 일부 의 경우 에 , 패턴 은 상이 한 서브 세트 에 순차 적 으로 결상 된다 . 순차 적 인 결상 은 몇 가지 이유 에 의해 행해질 수 있 다 . 광학 적 수차 ( optical aberration ) 는 웨이퍼 의 더 넓 은 영역 의 적절 한 패턴 초점 품질 을 달성 하 는 것 은 방해 할 수 있 다 . 이러 한 광학 적 수차 가 존재 하 는 경우 에 도 , 웨이퍼 와 포토 레지스터 의 공간 적 속성 은 웨이퍼 의 넓 은 영역 에 적절 한 패턴 초점 을 달성 하 는 것 을 방해 할 수 있 다 . 웨이퍼 / 포토레지스트 의 공간 적 속성 과 초점 품질 간 의 관계 의 관점 에 대하 여 나중 에 설명 한다 .