다음 에 , 기판 ( 1 ) 을 , 예 를 들 면 , SCZ 으로 이루어지 는 타 겟 이 구비 된 진공 챔버 내 에 반송 하 고 , 진공 챔버 내 를 소정 의 압력 이 될 때 까지 진공 흡인 한다 . 그 후 , 진공 챔버 내 에 프로세스 가스 를 도입 하 면서 , 타 겟 을 스퍼터링 하 여 , 제 1 유전체 막 ( 4 a ) 상 에 제 2 유전체 막 ( 4 b ) 을 성막 한다 .