상기 서술 한 설명 에서 도 알 수 있 는 바 와 같이 , 본 제 4 실시 형태 의 노광 장치 ( 1000 ) 에서 는 , 일방 의 웨이퍼 스테이지 상 의 웨이퍼 의 노광 종료 후 , 그 일방 의 웨이퍼 스테이지 의 대응 하 는 로딩 포지션 을 향한 귀환 경로 를 따른 이동 을 가장 효율 적 으로 개시 할 수 있 도록 , 즉 , 그 일방 의 웨이퍼 스테이지 의 이동 경로 를 가장 짧 게 , 또한 소요 시간 이 가장 짧 아 지 도록 , 웨이퍼 스테이지 ( WS 1 , WST 2 ) 의 스크럼 개시 시의 X 축 방향 의 오프셋 량 이 결정 되 어 있 다 .