자기 조립 단층 막 은 상기 화합물 을 대개 는 2 mM ~ 10 mM 농도 범위 에서 제조 한 후 상기 지 지체 를 용액 속 에 담그 는 방법 으로 행하 여 진다 . 이때 , 지 지체 표면 의 산화층 을 먼저 제거 하 는 것 이 바람직 하 며 , 자기 조립 단층 막 을 형성 하 는 과정 에서 도 반응 중 산소 에 의한 산화 반응 을 차단 시키 기 위해 질소 분위기 하 에서 반응 하 는 것 이 바람직 하 다 . 지 지체 상 의 산화층 은 지 지체 를 황산 / 과산화수소 의 피 라나 ( Pirana ) 용액 으로 5 ~ 10 분 간 처리 하 는 것 에 의해 제거 될 수 있 다 . 상기 자기 조립 단층 막 구성 을 위한 화합물 의 반응 과정 은 상온 에서 2 ~ 24 시간 반응 시키 는 것 이 바람직 하나 반응 시간 이 24 시간 을 넘 는다고 하 여도 자기 조립 단층 막 형성 에 문제 가 발생 하 는 것 은 아니 다 . 보다 빠른 반응 을 유도 하 기 위해서 는 30 ~ 40 ℃ 에서 2 시간 만 반응 시켜도 무방 하 다 .