본 발명 에 따른 제 1 공정 단계 에서 , 하부 기판 의 하부 내부 정렬 마크 의 측정 이 이루어진다 . 이 를 위해 , 상부 기판 은 필요 에 따라 상부 렌즈 시스템 의 시야 에서 변위 되 어 , 상부 렌즈 시스템 은 하부 기판 의 하부 내부 정렬 마크 를 자유 롭 게 볼 수 있 다 . 하부 의 내부 정렬 마크 는 바람직 하 게 는 상부 렌즈 시스템 의 시야 에 이미 위치 되 어 있 으므로 , 광학 그룹 이 변위 될 필요 가 없 다 . 현재 개별 렌즈 시스템 의 변위 는 더 이상 필요 하 지 않 다 . 이제 부터 는 광학 그룹 만 변위 된다 . 하부 내부 정렬 마크 가 측정 되 면 하부 샘플 홀더 위치 와 하부 내부 정렬 마크 사이 에 고유 한 할당 이 존재 한다 .