본 발명 의 포토레지스트 용 박리 액 조성물 을 이용 하 여 박리 할 수 있 는 포토레지스트 의 종류 로 는 예 를 들 어 , 포지티브 형 포토레지스트 , 네 가티 브 형 포토레지스트 및 포지티브 형 / 네 가티 브 형 겸용 포토레지스트 ( dual tone photoresist ) 등 을 포함 할 수 있 다 . 또한 , 그 구성 성분 에 제한 이 없 으나 , 특히 효과 적 으로 적용 될 수 있 는 포토레지스트 는 노볼락 계 페놀 수지 와 디아조 나프 토 퀴논 을 포함 하 는 광 활성 화합물 로 구성 된 포토레지스트 일 수 있 다 .