상술 한 과제 를 해결 하 기 위한 수단 으로서 , 본 발명 은 전면 에 광학 패턴 을 구비 한 포토 마스크 의 배면 의 결함 영역 을 검사 하 는 1 단계 ; 상기 포토 마스크 의 전면 의 전체 영역 에 패턴 보호막 층 을 형성 하 는 2 단계 ; 상기 결함 영역 이 형성 된 포토 마스크 의 배면 을 전체 연마 하 는 3 단계 ; 를 포함 하 는 포토 마스크 배면 리페 어 방법 을 제공 할 수 있 도록 한다 .