이 포토 마스크 는 , 4 ~ 5 배 레티 클 이 고 , 네 가티 브 형 컬러 레지스 트 층 의 표면 에 노광 되 는 패턴 의 치수 의 4 ~ 5 배 의 크기 의 치수 의 패턴 을 가지 고 있 다 . 그리고 , 도시 하 지 않 는 스텝 퍼 노광 장치 를 사용 해 , 포토 마스크 의 패턴 을 1 / 4 ~ 1 / 5 로 축소 해 네 가 티 브 형 컬러 레지스 트 층 의 표면 에 노광 하 고 있 다 .