상기 와 같이 제조 된 포토 마스크 의 패턴 단면 형상 을 FE - SEM 으로 측정 하 여 , 단면 형상 의 각도 ( Sidewall angle ) 를 측정 하 였 다 . 본 발명 의 실시 예 에 따른 포토 마스크 패턴 에 대한 단면 사진 을 도시 한 도 8 을 참조 하 면 , 포토 마스크 의 위상 반 전막 패턴 의 단면 은 약 80 ° 이상 의 수직 형상 을 가지 고 있 음 을 확인 할 수 있 었 다 .