상기 산화 주석 분말 을 미세 화 하 기 위한 방법 으로서 , 주석 을 질산 과 반응 하 여 주석산 분말 을 수득 하 고 , 세정 및 건조 산화 시켜 평균 1 차 입자 크기 가 0 . 1 ~ 0 . 2 ㎛ 인 분말 을 제조 하 여 상용 화 되 고 있 으나 , 산화 주석 분말 의 강한 응집력 으로 인해 2 차 입자 인 응 집체 의 입도 가 20 ~ 30 ㎛ 으로 매우 커서 분쇄 및 재 분산 의 추가 적 인 가공 공정 을 통해 ITO 타 겟 제조 공정 에 사용 되 고 있 다 . 또한 , 산화 주석 분말 은 미세 한 1 차 입자 를 고 분산 시키 기 위한 방법 으로 제트 밀 가공 하 여 사용 되 고 있 고 , ITO 타 겟 제조 용 은 전량 수입 에 의존 하 고 있 으며 , 입자 크기 가 작 고 재료 특성 이 향상 된 분말 의 제조 기술 개발 이 요구 되 고 있 다 .