숙련 된 결정학 자라 면 잘 인식 하 듯 , 도 3 에 언급 된 다양 한 피크 의 상대 적 강도 는 X - 선 빔 에서 결정 의 위치 효과 또는 분석 되 는 물질 의 순도 , 샘플 의 결정 화 정도 와 같 은 여러 요소 에 기인 한다 . 또한 샘플 높이 에서 변화 를 위해 피크 위치 가 이동 할 것 이 나 , 대체로 는 도 3 에 정의 된 것 처럼 그 위치 가 유지 될 것 이 다 . 또한 , 숙련 된 결정학 자라 면 브래그 방정식 - n λ = 2 d sin θ 에 따라 다른 파장 을 이용 한 측정 으로 다른 이동 결과 가 나타나 는 것 을 쉽 게 인지 할 것 이 다 . 대체 되 는 파장 의 사용 에 의해 발생 하 는 추가 적 인 PXRD 패턴 은 본 발명 의 범위 내 에서 본 발명 에서 결정 물질 의 PXRD 패턴 의 대체 되 는 표현 으로 인지 된다 .