다음 으로 , 상기 트렌치 및 비 아홀 을 형성 하 는 단계 는 도 8 에 도시 된 바 와 같 이 , 상기 하드 마스크 ( 190 ) 를 식각 마스크 로 하 여 제 3 층간 절연 층 ( 170 ) 을 식각 하 여 트렌치 ( T 2 ) 를 형성 하 면서 , 상기 트렌치 ( T 2 ) 형성 에 따라 노출 되 는 제 1 완충 층 ( 160 ) 을 식각 마스크 로 하 여 상기 제 2 층간 절연 층 ( 150 ) 을 식각 하 여 비 아홀 ( H 2 ) 을 형성 하 는 단계 이 다 .