플라 즈 마 처리 장치 는 , 에칭 , 물리 기상 증착 ( PVD ) , 화학 기상 증착 ( CVD ) , 이온 주입 , 및 레지스 트 제거 를 포함 한 기술 에 의해 기판 을 처리 하 는 데 사용 된다 . 플 라즈 마 처리 에 사용 된 플 라즈 마 처리 장치 의 일 유형 은 상부 전극 및 하부 전극 을 포함 한 반응 챔버 를 포함 한다 . 전극 들 사이 에 전계 가 구축 되 어 처리 가스 를 플 라즈 마 상태 로 여기 시켜 반응 챔버 내 의 기판 을 처리 한다 .