또한 , 상술 한 발명 에서 , 상기 처리 블록 은 , 도포 처리 블록 과 현상 처리 블록 을 포함 하 며 , 상기 도포 처리 블록 은 , 상기 처리 유닛 으로서 기판 에 처리 액 을 도포 하 는 도포 처리 유닛 을 구비 하 고 , 상기 현상 처리 블록 은 , 상기 처리 유닛 으로서 기판 에 현상액 을 공급 하 는 현상 처리 유닛 을 구비 하 고 있 는 것 이 바람직 하 다 . 처 리부 의 각 계층 에서 , 기판 에 처리 액 을 도포 하 는 도포 처리 와 , 기판 에 현상액 을 공급 하 는 현상 처리 를 행할 수 있 다 .