그러나 PVD 방법 으로 형성 하 면 비아 의 폭 : 깊이 비 ( aspect ratio ) 가 커질 경우 에 비아 입구 를 막 는 오버 행잉 ( over hanging ) 이 발생 하 여 장벽층 이 균일 하 게 형성 되 지 않 고 , ALD 방법 으로 형성 하 는 경우 에 는 TaN 과 Ta 를 형성 할 때 각각 다른 전구체 ( precursor ) 를 사용 하 여 공정 이 복잡 해진다 .