이상 에서 설명 한 바 와 같 은 본 발명 에 의하 면 , 열원 으로부터 열 을 전달 받 는 가열 부재 를 축 방향 에 대해 직교 하 는 방향 으로 소정 폭 을 가지 도록 형성 함 으로써 , 정착 닙의 폭 을 확대 할 수 있 게 된다 . 이 로 인해 , 빠른 시간 안 에 원하 는 정착 품질 을 구현 할 수 있 게 되 어 , 화상 형성 장치 의 고속 화 및 소형 화 가 가능 해진다 .