이어서 , 포토레지스트 패턴 ( 56 ) 을 식각 장벽 으로 반사 방지 막 ( 55 ) , 제 2 하드 마스크 막 ( 54 ) , 제 1 하드 마스크 막 ( 53 ) 및 게이트 하드 마스크 막 ( 53 ) 을 식각 ( 57 ) 한다 . 이때 , 제 1 하드 마스크 막 ( 53 ) 식각 시 포토레지스트 패턴 ( 56 ) 과 반사 방지 막 ( 55 ) 은 소모 되 어 제거 된다 . 또한 , 게이트 하드 마스크 막 ( 53 ) 식각 시 제 2 하드 마스크 막 ( 54 ) 은 소모 되 어 제거 된다 .