또한 , 더미 메모리 패턴 ( 38 C ) 은 연결 패턴 ( 39 C ) 의 측벽 단차 를 감싸 도록 형성 되 므로 , 일부 영역 이 제 2 슬릿 ( SL 2 ) 을 향해 돌출 된다 . 따라서 , 더미 메모리 패턴 ( 38 C ) 중 돌출 된 영역 은 스 페이서 ( 45 ) 에 의해 커버 되 지 않 고 노출 되 며 , 제 2 슬릿 ( SL 2 ) 확장 시 에 식각 된다 . 이 를 통해 , 확장 된 제 2 슬릿 ( SL 2 ) 내 에 연결 패턴 들 ( 39 C ) 이 노출 된다 .