바람직 하 게 , 활성 화 열처리 는 급속 열처리 ( Rapid Thermal Annealing ) 를 이용 하 며 , 더욱 바람직 하 게 는 CRTP ( Convention - RTP annealing ) 를 이용 한다 . 이러 한 CRTP 처리 시 , 질소계 가스 예컨대 , 삼 불화 질소 ( NF 3 ) 가스 를 2 ∼ 20 sccm 의 유량 으로 흘려 주 어 질화 처리 ( Nitridation ) 를 동시 에 진행 한다 . 급속 열처리 시 열처리 온도 는 700 ∼ 900 ℃ 로 진행 하 고 열처리 시간 은 5 ∼ 300 초 로 진행 하 여 준다 .