반도체 소자 제조 공정 은 플라스마 를 사용 하 여 식각 공정 을 수행 한다 . 식각 공정 은 플라스마 에 함유 된 이온 입자 들 이 기판 과 충돌 함 으로써 수행 된다 . 고주파 유닛 은 플라스마 를 형성 하 기 위한 고주파 전원 을 공정 챔버 내 에 인가 한다 . 기판 의 처리 품질 을 높이 기 위해서 는 고주파 유닛 에 의해 공정 챔버 내 에 균일 한 플라스마 를 형성 할 필요 가 있 다 .