그 뒤 도 3 과 같 은 진공 핫 프레스 상 에서 분리 판 사이 에 상기 이 형 필름 이 형성 된 베이스 필름 을 배치 시키 고 분 리판 은 피치 5 ㎛, 높이 2 . 5 ㎛ 의 음각 렌즈 형상 을 반복 적 으로 형성 하 였 다 . 그 뒤 20 torr 의 진공 상태 에서 , 150 ℃( 합지 온도 ) 의 온도 및 15 kgf / cm 2 의 압력 으로 20 분 간 경면 의 분리 판 을 통해 가열 / 가압 하 여 광변조 필름 을 제조 하 였 다 .