본 발명 의 인라인 타입 의 기판 처리 장치 는 , 글래스 기판 을 제공 하 는 인덱스 와 ; 상기 글래스 기판 의 노광 공정 을 처리 하 는 노광 시스템 및 ; 상기 인덱스 와 상기 노광 시스템 사이 에 배치 되 어 상기 글래스 기판 의 도포 및 현상 공정 을 처리 하 는 복수 개 의 프로세스 유닛 들 을 구비 하 는 공정 처 리부 를 포함 하 되 ; 상기 프로세스 유닛 들 중 적어도 하나 의 베 이크 유닛 을 상기 공정 처 리부 와 상기 노광 시스템 사이 의 모서리 부분 에 배치 하 고 , 상기 베 이크 유닛 은 수직 방향 으로 기판 을 억세 스 하 도록 처리 한다 .