도 3 을 참조 하 면 , 본 실시 예의 가스 공급 장치 ( 300 ) 는 반도체 기판 또는 유리 기판 과 같 은 기판 처리 공정 에 사용 될 수 있 으며 , 액상 의 소스 를 수용 하 는 용기 ( 310 ) 와 , 상기 용기 ( 310 ) 의 상부 를 밀폐 하 는 커버 ( 320 ) 와 , 상기 커버 ( 320 ) 를 통 하 여 하방 으로 연장 하 며 캐리어 가스 를 공급 하 는 다수 의 제 1 가스 공급 배관 들 ( 330 ) 과 , 상기 용기 ( 310 ) 내부 의 공간 을 다수 의 공간 들 로 구획 하 기 위한 다수 의 공간 구획 부재 들 ( 340 ) 과 , 상기 구획 된 공간 들 과 연통 하 도록 배치 되 는 다수 의 제 2 가스 공급 배관 들 ( 350 ) 을 포함 할 수 있 다 .