본 발명 은 반도체 소자 제조 를 위한 PVD 장치 에 관한 것 으로 , 특히 PVD 장치 에서 반도체 기판 상 박막 증착 공정 시 타 겟 의 소모 에 따른 챔버 내 타 겟 과 반도체 기판 간 거리 변화 를 자동 으로 보상 하 여 타 겟 과 반도체 기판 상 거리 를 최적 으로 유지 시켜 반도체 기판 상 금속 박막 이 균일 하 게 증착 되 도록 하 는 PVD 방법 에 관한 것 이 다 .