퇴적 프로세스 들 에서 사용 되 는 원자 들 / 이온 들 의 가스 및 / 또는 플라 즈 마는 웨이퍼 ( 104 ) 근처 의 퇴적 챔버 ( 102 ) 의 영역 에 운반 될 수 있 다 . 가스 / 플라 즈 마는 또한 오염 물질 들 , 불순물 들 , 또는 퇴적 프로세스 의 산출 에 결국 수용 될 수 있 는 임의 의 다른 잠재 적 결함 들 과 같 은 입자 들 ( 106 ) 을 또한 전달 할 수 있 다 . 입자 들 ( 106 ) 은 도 1 에 도시 된 바 와 같이 웨이퍼 ( 104 ) 위 에 , 웨이퍼 ( 104 ) 아래 에 , 또는 웨이퍼 와 관련 하 여 임의 의 다른 곳 에 위치 될 수 있 다 . 퇴적 챔버 ( 102 ) 내부 의 제조 프로세스 의 런타임 동안 , 입자 들 ( 106 ) 을 검출 하 기 위해 , 광원 ( 108 ) 은 측면 윈도우 ( 110 ) 와 같 은 하나 이상 의 윈도우 를 통해 입사 광 빔 을 챔버 ( 102 ) 의 내부 영역 내 로 지향 시킬 수 있 다 . 윈도우 는 임의 의 투명 또는 반투명 재료 로 만들 어 질 수 있 다 . 챔버 내 로 광 빔 을 전달 하 기 위한 윈도우 의 위치 는 도 1 에 도시 된 것 과 상이 할 수 있 다 . 측면 윈도우 는 고정 된 치수 들 을 가질 수 있 거나 조절 가능 한 치수 들 을 가질 수 있 다 . 일부 구현 들 에서 , 광원 ( 108 ) 에 의해 생성 된 광 빔 은 레이저 빔 과 같 은 코 히 어 런 트 빔 일 수 있 다 . 다른 구현 들 에서 , 광원 ( 108 ) 은 자연광 , 선형 , 원형 또는 타원 편광 된 광 , 부분 편광 된 광 , 집속 된 광 등 을 생성 할 수 있 다 . 광원 ( 108 ) 은 연속 적 인 광 빔 또는 복수 의 개별 펄스 신호 를 생성 할 수 있 다 . 광원 ( 108 ) 은 시준 된 광 빔 , 집속 된 광 빔 , 또는 확장 된 광 빔 을 생성 할 수 있 다 . 일부 구현 들 에서 , 광원 ( 108 ) 은 소정 의 중심 주파수 / 파장 근처 의 좁 은 주파수 / 파장 영역 내 의 주파수 / 파장 을 갖 는 단색 빔 을 생성 할 수 있 다 . 대안 적 으로 , 다수 의 단색 광 빔 이 사용 될 수 있 다 . 다른 구현 들 에서 , 광원 ( 108 ) 은 넓 은 스펙트럼 분포 를 갖 는 빔 , 예 를 들 어 백색광 을 생성 할 수 있 다 . 일부 구현 들 에서 , 빔 은 스펙트럼 의 가시 적 인 부분 에 있 다 . 일부 구현 들 에서 , 빔 의 스펙트럼 분포 는 사람 의 눈 으로 는 검출 불 가능 한 적외선 또는 자외선 주파수 를 포함 할 수 있 다 .