묘화 처리 를 행할 때 , 화소 의 위치 에 멀티 빔 의 각 빔 이 조사 되 는 것 이 이상 적 이 지만 , 실제로 는 다양 한 요인 에 의하 여 각 샷 에서 의 멀티 빔 의 각 빔 의 조사 위치 가 화소 의 위치 로부터 이탈 되 어 버린다 . 예 를 들 면 , 렌즈 수차 에 의하 여 빔 어레이 의 면 내 위치 에 의존 한 멀티 빔 의 각 빔 의 위치 이탈 이 발생 한다 . 일반 적 으로 마스크 묘화 장치 에서 는 , 기판 ( 101 ) 의 휨 또는 중력 에 의한 굴곡 등 에 의한 기판 상면 의 고저 에 따라 빔 의 포커스 위치 를 묘화 중 에 변화 시키 는 처리 , 즉 , Z 위치 보정 을 행한다 . 기판 상면 의 높이 는 , 기판 의 복수 의 위치 에서 묘화 전 에 측정 해 두 고 , 위치 마다 기판 상면 의 높이 와 포커스 의 보정 량 을 정해 둔다 . 기판 상면 의 높이 와 포커스 보 정량 의 관계 가 올바르 게 설정 되 지 않 은 경우 , 빔 어레이 의 회전 성분 을 수반 하 는 빔 의 위치 이탈 이 발생 한다 . 즉 , 기판 상면 의 높이 의존 성 , 또는 기판 상 의 위치 의존 성 을 가지 는 빔 위치 이탈 이 발생 한다 . 또한 , Z 위치 보정 에 이용 하 는 렌즈 의 조정 이 이탈 되 어 있 는 경우 , 기판 상면 의 높이 와 포커스 보 정량 의 관계 가 올바르 게 설정 되 어 있 어도 , 기판 상 의 위치 의존 성 을 가지 는 빔 위치 이탈 이 발생 한다 .