공정 챔버 ( 50 ) 는 기판 처리 공정 을 수행 한다 . 공정 챔버 ( 50 ) 는 복수 개 가 구비 되 며 , 각각 의 공정 챔버 들 ( 50 ) 은 트랜스퍼 챔버 ( 40 ) 의 둘레 에 배치 된다 . 공정 챔버 ( 50 ) 는 하우징 ( housing ) ( 52 ) 및 지지 부재 ( support member ) ( 56 ) 를 포함 한다 . 하우징 ( 52 ) 은 내부 에 기판 ( W ) 을 처리 하 는 공정 을 수행 하 는 공간 을 제공 한다 . 하우징 ( 52 ) 의 일 측 에 는 기판 출입구 ( 54 ) 가 제공 된다 . 기판 출입구 ( 54 ) 는 공정 시 하우징 ( 52 ) 에 기판 ( W ) 이 출입 하 기 위한 통로 이 다 . 지지 부재 ( 56 ) 는 공정 시 하우징 ( 52 ) 내부 에서 기판 ( W ) 을 지지 한다 . 지지 부재 ( 56 ) 는 적어도 하나 가 구비 된다 . 지지 부 재 ( 56 ) 로 는 정 전척 ( electrode chuck ) 이 사용 될 수 있 다 . 상술 한 공정 챔버 들 ( 50 ) 은 서로 동일 한 기판 처리 공정 을 수행 한다 . 또는 , 선택 적 으로 공정 챔버 들 ( 50 ) 은 하나 또는 그 이상 이 서로 다른 공정 을 수행 하 도록 제공 될 수 있 다 .