보통 CMP 공정 에 요구 되 는 공 압 은 - 15 ~ 15 psi ( 1 기압 : 147 psi ) 의 매우 낮 은 압력 범위 로써 압력 이 낮 을수록 외부 환경 에 민감 해지므로 높 은 수준 의 성능 목표치 달성 을 위한 제어 가 어려워 지 는 문제점 이 발생 된다 . 특히 연마 공정 중 발생 하 는 연속 적 인 기계 적 미세 진동 이 높 은 수준 은 성능 달성 을 방해 하 는 핵심 인자 로서 작용 하 고 있 으며 , 이러 한 연속 적 인 미세 진동 은 소프트웨어 적 으로 만 제어 가 가능 하 다 . 따라서 비례 공 압제 어 시스템 의 성능 의 고저 여부 는 연속 적 인 기계 적 미세 진동 을 소프트웨어 적 으로 얼마 만큼 잘 제어 하 는 가 에 달려 있 다