본 발명 의 다른 실시 예 는 기판 을 열처리 하 기 위한 장치 를 제공 하 고 , 이 장치 는 원통형 중앙 볼륨 을 형성 하 는 측벽 을 가지 며 측벽 을 통해 형성 된 입구 포트 및 출구 포트 를 갖 는 베이스 링 - 입구 포트 및 출구 포트 는 대향 측면 상 에 형성 되 고 입 구 포트 및 출구 포트 의 각각 은 원통형 중앙 볼륨 의 지름 에 근사 하 는 폭 을 가짐 - ; 측벽 의 상단 부 로부터 원통형 중앙 볼륨 을 밀봉 하 기 위해 베이스 링 에 커플링 된 상부 벽 ; 열에너지 를 원통형 중앙 볼륨 으로 제공 하 도록 구성 되 며 상부 벽 위 에 배치 된 열 소스 ; 측벽 의 하단 부 로부터 원통형 중앙 볼륨 을 밀봉 하 기 위해 베이스 링 에 커플링 된 바닥 부벽 ; 원통형 중앙 볼륨 에 배치 되 며 기판 을 지지 하 고 회전 시키 도록 구성 된 기판 지지대 ; 입구 포트 에서 베이스 링 에 커플링 되 며 원통형 중앙 볼륨 으로 제 1 가스 유동 을 제공 하 도록 구성 된 주입 카트리지 ; 및 베이스 링 의 출구 포트 에 커플링 되 며 입 구 포트 로부터 출구 포트 로 제 1 가스 유동 을 끌어당기 도록 구성 된 배출 어셈블리 를 포함 한다 .