도 8 a 를 참조 하 면 , 도 5 b 의 결과물 에 대하 여 , 채널 홀 ( CHH ) 내 에 노출 되 는 복수 의 희생 막 ( 도 5 b 의 PL ) 의 표면 에 인접 하 는 일부분 을 제거 하 는 트리밍 ( trimming ) 공정 을 수행 하 여 , 채널 홀 ( CHH ) 의 향하 는 단부 에 트리밍 공정 에 의하 여 일부분 이 제거 된 트리밍 부 ( PTR ) 를 가지 는 복수 의 희생 막 ( PLc ) 을 형성 한다 . 제 3 방향 ( Z 방향 ) 으로 트리밍 부 ( PTR ) 의 높이 가 희생 막 ( PLc ) 의 나머지 부분 의 높이 보다 작 은 값 을 가질 수 있 다 .