이상 에서 설명 한 본 발명 의 실시 예 에 따른 세포 배양 챔버 와 이 를 포함 한 세포 배양 장치 에 의하 면 , 배양 되 는 세포 가 세포 배양 챔버 내 에 배양액 이 유출 입 되 는 것 에 영향 받 지 않 고 균일 하 게 분포 된 상태 에서 배양 될 수 있 는 효과 가 있 다 . 또한 아래 로부터 의 가스 공급 방식 이 가능 하 므로 세포 에 충분 한 가스 공급 이 가능 한 효과 가 있 다 .