여기 에 다시 용매 가 열공 급 장치 ( E ) 로부터 100 내지 250 ℃ 로 미리 예열 된 물 을 여과 및 세정 장치 ( D ) 에 투입 하 고 , 일정 시간 교반 한 후 , 고압 여 과액 회수 장치 ( G ) 로 2 차 여과 액 을 방출 한다 . 필요 한 경우 위 의 세정 단계 를 동일 하 게 1 - 2 회 더 반복 할 수 있 다 . 세정 후 남 은 순수 한 NDA 는 용매 가 열공 급 장치 ( E ) 로부터 100 내지 250 ℃ 로 미리 예열 된 물 에 의해 슬러리 를 형성 하 고 , 슬러리 방출 라인 을 통해 고압 슬러리 회수 장치 ( H ) 로 보내 진다 . 상기 고압 슬러리 회수 장치 ( H ) 로 보내 진 순수 한 NDA 슬러리 를 , 압력 을 상압 까지 강하 시키 고 파우더 분리 장치 ( I ) 를 통해 용매 를 제거 한 후 건조 장치 ( J ) 에서 건조 하 면 , 순수 한 NDA 를 회수 할 수 있 다 .