도 6 을 참조 하 면 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 전자 빔 장치 는 전자 빔 의 발생 및 스캔 ( scan ) 조사 를 구동 하 는 전자 빔 컬럼 부 ( column part : 101 ) 를 포함 하 여 구성 될 수 있 다 . 이러 한 전자 빔 컬럼 부 ( 101 ) 는 전자 빔 의 발생 원인 전자총 과 전자 빔 의 크기 및 스캔 구동 을 위한 마그넷 렌즈 ( magnet lens ) 등 을 포함 하 여 구성 될 수 있 다 . 이러 한 전자 빔 컬럼 부 ( 101 ) 아래 에 기판 스테이 지부 ( 103 ) 가 설치 되 며 , 기판 스테이 지 ( 105 ) 상 에 기판 , 예컨대 , 마스크 기판 ( 107 ) 이 장착 되 게 된다 . 마스크 기판 ( 107 ) 상 에 도포 된 레지스 트 층 에 대해 전자 빔 이 조사 되 어 전자 빔 쓰 기 과정 이 수행 된다 .