따라서 , 본 발명 은 상기 와 같 은 종래 의 문제점 을 감안 하 여 창안 된 것 으로 , 본 발명 의 목적 은 공작 기계 의 작업 중 비산 되 는 칩 과 절삭유 등 으로 인한 작업장 의 오염 을 방지 하 기 위해 구비 되 는 스 플 래쉬 가드 의 투 시창 의 이 물질 을 반자동 으로 제거 하 는 장치 를 구비 하 여 이 물질 제거 를 위한 시간 과 노동력 을 감소 시키 고 , 이 물질 제거 를 통한 투시도 를 높여 작업 대상물 의 작업 상태 를 파악 하 기 쉽 게 하 는 데 있 다 .