일반 적 으로 정보 통신 분야 의 급속 한 발달 과 , 컴퓨터 와 같 은 정보 매체 의 대중 화 에 따라 반도체 장치 도 비약 적 으로 발전 하 고 있 다 . 또한 , 그 기능 적 인 면 에 있 어서 상기 반도체 장치 는 고속 으로 동작 하 는 동시 에 대용량 의 저장 능력 을 가질 것 이 요구 되 고 있 다 . 이 에 따라 , 상기 반도체 소자 의 제조 기술 은 집적도 , 신뢰 도 및 , 응답 속도 등 을 극대 화 하 는 방향 으로 연구 개발 되 고 있 다 . 반도체 소자 의 제조 기술 은 크 게 반도체 기판 상 에 가 공막 을 형성 하 는 증착 ( deposition ) 공정 과 , 상기 증착 공정 으로 형성 된 가공 막 상 에 피 가 공막 을 형성 하 여 패 터닝 하 는 포토 리소그래피 ( photolithography ) 공정 으로 이루어진다 .