도 1 을 참조 하 면 , 본 실시 예 에 따른 기판 처리 장치 는 반응 공간 을 제공 하 는 챔버 ( 100 ) 와 , 상기 챔버 ( 100 ) 내부 의 하부 에 설치 되 는 스테이지 ( 200 ) 와 , 상기 스테이지 ( 200 ) 에 대향 하 여 상기 챔버 ( 100 ) 내부 의 상부 에 설치 되 는 플 라즈 마 차 폐부 ( 300 ) 와 , 상기 스테이지 ( 200 ) 와 상기 플 라즈 마 차 폐부 ( 300 ) 사이 에 기판 ( 10 ) 을 거치 하 는 거치대 ( 410 ) 및 상기 스테이지 ( 200 ) 와 상기 스테이지 ( 200 ) 과 상기 플 라즈 마 차 폐부 ( 300 ) 사이 에 플 라즈 마 를 형성 하 기 위한 플 라즈 마 발생 수단 ( 510 , 520 , 530 ) 을 포함 한다 . 여기 서 , 기판 ( 10 ) 은 플 라즈 마 처리 예 를 들 어 , 식각 , 증착 , 세정 등 이 요구 되 는 판상 의 피 처리 체 예 를 들 어 , 웨이퍼 , 유리 패널 등 을 통칭 하 는 의미 로 사용 된다 .