광경 화성 조성물 로 이루어지 는 보호막 은 처음 부터 알칼리 현상액 에 의한 패턴 의 형성 이 고려 되 고 있 기 때문 에 , 스 크 라 이브 라인 의 형성 은 물론 , 각종 소자 에 있 어서 의 미세 가공 처리 에 대한 요구 의 고조 로부터 , 수십 미크론 레벨 의 해상 성 을 가진 재료 도 많 다 . 예 를 들 면 , 특허 문헌 1 에서 나타내 는 바 와 같이 , 미세 가공 처리 가 가능 하 면서 , 내열성 , 고감도 , 및 높 은 현상 후 잔 막 율 을 구비 한 재료 가 개발 되 고 있 다 .