또한 , 특허 문헌 5 에서 는 , 제 1 영역 은 , 촘촘 하 게 패 터닝 하 고 , 제 2 영역 은 제 1 영역 보다 도 성기 게 패 터닝 하 는 노광 방법 으로서 , 제 1 영역 은 , 노광 의 위상 을 반전 시키 는 위상 시프트 패턴 을 가지 는 마스크 패턴 으로 노광 하 고 , 제 2 영역 은 광 투과 영역 과 비 투과 영역 으로 이루어지 는 마스크 패턴 으로 노광 하 는 노광 방법 이 개시 되 어 있 다 .