또 , 본 실시 형태 에서 는 , 웨트 에칭 장치 ( 1 ) 는 , 수용 실 ( 11 ) 내 에 , 웨이퍼 ( W ) 의 상면 에 형성 되 어 있 는 수지 로 이루어지 는 마스크 층 을 제거 하 는 마스크 층 제거 유닛 ( 41 ) 을 추가 로 구비 하 고 있 다 . 그리고 , 마스크 층 제거 유닛 ( 41 ) 은 , 개구 ( 42 a ) 를 상부 에 갖 는 마스크 층 제거 용 보 틀 ( 42 ) 을 구비 하 고 있 다 . 또한 , 마스크 층 제거 유닛 ( 41 ) 은 , 마스크 층 제거 용 보 틀 ( 42 ) 의 개구 ( 42 a ) 에 걸 어 맞춰진 웨이퍼 지지 구 ( 3 ) 에 지지 된 웨이퍼 ( W ) 의 상면 에 , 제 1 액 을 공급 하 는 제 1 액 공급 부 ( 43 ) 와 , 웨이퍼 ( W ) 의 상면 에 제 2 액 을 공급 하 는 제 2 액 공급 부 ( 46 ) 를 구비 하 고 있 다 .