상기 제 1 포토레지스트 패턴 ( PR 1 ) 을 형성 하 는 것 은 , 포토레지스트 조성물 을 준비 하 는 것 , 상기 포토레지스트 조성물 을 상기 기판 ( 100 ) 전면 상 에 도포 하 여 포토레지스트 막 을 형성 하 는 것 , 및 상기 포토레지스트 막 을 노광 및 현상 하 여 상기 제 1 포토레지스트 패턴 ( PR 1 ) 을 형성 하 는 것 을 포함 할 수 있 다 .