계속 해서 , 상기 제 2 박막 ( 28 ) 과 제 1 박막 ( 27 ) 에 불순물 을 도핑 시킨다 . 사용 할 수 있 는 불순물 의 예 로서 는 보론 , 포스 포 러스 , 아르 제닉 등 을 들 수 있 다 . 또한 , 상기 불순물 의 도핑 은 포토레지스트 패턴 을 이온 마스크 로 사용 하 는 이온 주입 을 수행 하 여 달성 한다 . 특히 , 상기 제 2 박막 ( 28 ) 에 깍 인 면 이 거의 발생 하 지 않 고 , 상기 게이트 스 페이서 ( 24 ) 에 실질 적 으로 충분 하 게 면접 하 기 때문 에 상기 불순물 을 균일 하 게 도핑 시킬 수 있 다 . 아울러 , 상기 제 1 박막 ( 27 ) 의 계면 특성 이 우수 하 기 때문 에 상기 이온 주입 과 같 은 불순물 의 도핑 을 수행 하 여도 상기 제 1 박막 ( 27 ) 에 가해 지 는 손상 을 충분 하 게 감소 시킬 수 있 다 .