최근 에 반도체 또는 엘시디 등 의 기판 제조 프로세스 에서 는 오 존수 가 주목 받 고 있 다 . 이것 은 강력 한 산화 반응 을 일으키 고 또 한 분 해 후 의 생성물 이 산소 이 며 , 기판 세정 후 의 배수 처리 가 용이 하 기 때문 이 다 . 오 존수 는 기판 의 표면 에 부착 된 유기 화합물 및 금속 불순물 의 제거 와 기판 의 산화 등 에 이용 되 고 있 다 .