도 11 a 내지 도 11 c 를 참조 하 여 제 2 실시 형태 에서 사용 될 수 있 는 슈퍼 스트레이트 ( M 2 ) ( 몰드 ) 를 제조 하 는 몰드 제조 방법 을 설명 한다 . 도 11 a 는 , 노광 단계 에서 사용 되 는 노광 장치 의 상면 형상 을 나타내 는 등고 선도 이 다 . 이 예 에서 는 , 노광 장치 는 , 주사 노광 장치 ( 스캐너 ) 이 며 , 노광 슬릿 ( 803 ) 은 어떤 순간 에서 노광 광이 조사 되 는 영역 을 나타낸다 . 주사 노광 장치 에서 , 상면 형상 은 , 주사 노광 의 결과 에 나타나 는 , 기판 의 피노 광면 ( 포토레지스트 층 ( 1 ) 의 두께 방향 의 중심 의 집합체 로 이루어지 는 면 ) 과 베스트 포커스 면 사이 의 차분 의 2 차원 분포 이 다 . 도 11 b 는 , 도 11 a 의 A - A ' 선 을 따라 취한 기판 ( 여기 서 는 , 프로세스 웨이퍼 ( 4 ) , 초점 보상 막 ( 3 ) , SOG 막 ( 2 ) 및 포토레지스트 층 ( 1 ) 을 포함 하 는 구조 체 ) 의 단면 구조 를 개략 적 으로 도시 한다 .