다음 에 , 실시 형태 2 와 는 다른 포토 마스크 를 사용 하 여 제 3 도전 층 ( 115 ) 을 선택 적 으로 에칭 한다 . 본 실시 형태 에서 는 , 화소 부 에서 한쪽 에 만 테이퍼 각 을 가지 는 제 1 접속 전극 ( 120 ) 을 형성 하 고 , 단자 부 에서 , 양단 에 같 은 테이퍼 각 을 가지 는 제 2 접속 전극 ( 121 ) 을 형성 하 는 예 이 다 .