현상액 은 포토레지스트 조성물 에 사용 될 수 있 는 용매 , 예 를 들 어 2 - 헵탄 온 , 부틸 아세테이트 ( 예 를 들 어 , n - 부틸 아세테이트 ) 를 함유 할 수 있 다 . 현상액 은 이러 한 용매 의 혼합물 , 또는 상기 용매 이외 의 용매 와 혼합 되 거나 물 과 혼합 된 상기 열거 된 용매 중 하나 이상 을 함유 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 현상액 은 제 1 유기 용매 와 제 2 유기 용매 의 혼합물 을 함유 할 수 있 다 . 제 1 유기 용매 의 특정 예 는 C 4 - C 9 케톤 ; 하이드 록 시알 킬 에스테르 , 예컨대 메틸 2 - 하이드 록 시 이소부 티 레이트 , 에틸 락 테이트 ; 및 선형 또는 분지 형 C 5 - C 6 알 콕 시 알킬 아세테이트 , 예컨대 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 , 예 를 들 어 2 - 헵탄 온 또는 5 - 메틸 - 2 - 헥산 온 이 다 . 제 2 유기 용매 의 예 는 선형 또는 분지 형 C 6 - C 8 알킬 에스테르 , 예컨대 n - 부틸 아세테이트 , n - 펜틸 아세테이트 , n - 부틸 프로 피오 네이트 , n - 헥 실 아세테이트 , n - 부틸 부티 레이트 , 및 이소부 틸 부티 레이트 ; 및 선형 또는 분지 형 C 8 - C 9 케톤 , 예컨대 4 - 옥탄 온 , 2 , 5 - 디 메틸 - 4 - 헥산 온 , 2 , 6 - 디 메틸 - 4 - 헵탄 온 , 예 를 들 어 n - 부틸 아세테이트 , n - 부틸 프로 피오 네이트 , 또는 2 , 6 - 디 메틸 - 4 - 헵탄 온 이 다 . 제 1 유기 용매 와 제 2 유기 용매 의 조합 의 예 는 2 - 헵탄 온 / n - 부틸 프로 피오 네이트 , 시클로헥산 온 / n - 부틸 프로 피오 네이트 , PGMEA / n - 부틸 프로 피오 네이트 , 5 - 메틸 - 2 - 헥산 온 / n - 부틸 프로 피오 네이트 , 2 - 헵탄 온 / 2 , 6 - 디 메틸 - 4 - 헵탄 온 , 2 - 헵탄 온 / n - 부틸 아세테이트 를 포함 한다 . 이 들 조합 중 에서 , 2 - 헵탄 온 / n - 부틸 아세테이트 , 또는 2 - 헵탄 온 / n - 부틸 프로 피오 네이트 가 바람직 할 수 있 다 .