퍼니스 라고 도 또한 불리 는 기판 처리 장치 는 , 랙 에 지지 된 복수 의 기판 상 에 집 적 회로 와 같 은 정밀 치수 구조 를 생성 하 기 위해 반응 챔버 를 구비 할 수 있 다 . 통상 적 인 기판 처리 단계 에서 , 랙 내 의 기판 은 가열 될 수 있 다 . 또한 , 반응물 가스 는 가열 된 기판 위 로 통과 되 어 , 반응물 재료 의 얇 은 층 을 , 처리 될 기판 상 에 증착 시킬 수 있 다 .