또한 종래 의 포토 마스크 는 포토 마스크 패턴 의 CD 가 작 게 형성 될수록 패턴 크기 와 형상 의 선형 성 ( Linearity ) 과 피델 리티 ( Fidelity ) 가 나빠 지 는 문제점 이 있 었 다 . 상기 의 문제점 또한 , 더욱 미세 한 공정 을 위한 포토 마스크 를 제조 하 는 데 악영향 을 주 며 상기 선형 성 과 피델 리티 의 문제점 에 의해 포토 마스크 CD 미세화 가 제한 된다 .