다음 으로 , 도 44 에 도시 하 는 바 와 같이 , 예컨대 불화 수소산 등 의 약액 을 공급 하 여 , 습식 에칭 에 의해 , 산화 막 ( 7 ) 을 제거 한다 . 이때 , 산화 막 ( 5 ) 상 에 퇴적 된 산화 막 ( 30 ) 은 상기 습식 에칭 에 의해 후퇴 한다 . 그러나 , 산화 막 ( 30 ) 은 웰 주입 / 채널 주입 의 실시 후 에 형성 되 어 있 기 때문 에 , 제 1 영역 ( R 1 ) 과 제 2 영역 ( R 2 ) 에서 , 에칭 률 이 균일 하 다 . 따라서 , 예컨대 산화 막 ( 7 ) 을 제거 하 기 위하 여 , 웰 주입 / 채널 주입 후 에 불화 수소산 등 의 약액 을 공급 해도 , 제 1 영역 ( R 1 ) 과 제 2 영역 ( R 2 ) 에서 , 산화 막 ( 30 ) 의 높이 에 편차 가 발생 하 는 일 이 없 다 .