도 3 에 도시 하 는 바 와 같이 , 기판 처리 장치 ( 100 ) 는 처리 용기 ( 202 ) 를 구비 하 고 있 다 . 처리 용기 ( 202 ) 는 , 예 를 들 어 수평 단면 이 원형 이 며 편평 한 밀폐 용기 로서 구성 되 어 있 다 . 또한 , 처리 용기 ( 202 ) 는 , 예 를 들 어 알루미늄 ( Al ) 이나 스테인리스 ( SUS ) 등 의 금속 재료 , 또는 석영 에 의해 구성 되 어 있 다 . 처리 용기 ( 202 ) 내 에 는 , 기판 으로서 의 실리콘 웨이퍼 등 의 기판 ( 200 ) 을 처리 하 는 처리 실 ( 201 ) 과 , 이동 탑 재실 ( 203 ) 이 형성 되 어 있 다 . 처리 용기 ( 202 ) 는 , 상부 용기 ( 202 a ) 와 하부 용기 ( 202 b ) 로 구성 된다 . 상부 용기 ( 202 a ) 와 하부 용기 ( 202 b ) 의 사이 에 는 칸막이 부 ( 204 ) 가 마련 된다 . 상부 용기 ( 202 a ) 에 둘러싸인 공간 이 며 , 칸막이 부 ( 204 ) 보다 도 상방 의 공간 을 처리 실 ( 201 ) 이 라고 칭한다 . 또한 , 하부 용기 ( 202 b ) 에 둘러싸인 공간 이 며 , 게이트 밸브 ( 149 ) 부근 을 이동 탑 재실 ( 203 ) 이 라고 칭한다 .