또한 , 본 발명 에 따른 전기 광학 장치 에서 , 상기 중간막 은 IZO 또는 ITO 인 것 이 바람직 하 다 . IZO 및 ITO 는 전기 광학 장치 에서 일반 적 으로 이용 되 는 웨트 에칭 가능 한 도전 재료 이 다 . 또한 , 그 표면 을 웨트 에칭 함 으로써 , 표면 부착물 을 용이 하 게 제거 할 수 있 다 . 따라서 상기 구성 에 의해 , 일반 적 인 재료 막 을 이용 하 여 , 계면 저항 의 증가 를 억제 할 수 있 다 .