한편 , 본 발명 은 , 제 1 압력 챔버 를 포함 하 는 압력 챔버 가 구비 되 고 , 상기 압력 챔버 의 압력 을 조절 하 여 연마 공정 중 에 웨이퍼 를 가압 하 는 연마 헤드 로서 , 상기 제 1 압력 챔버 와 연통 되 는 제 1 통로 가 마련 된 베이스 와 ; 상기 제 1 압력 챔버 에 공 압 을 공급 하 는 제 1 공 압공 급로 를 포함 하 여 , 상기 압력 챔버 에 각각 공 압 공 급로 를 통해 각각 기체 를 공급 하 거나 배출 시키 는 유량 조 절부 와 ; 상기 베이스 에 일부 이상 이 고정 되 어 상기 베이스 와 의 사이 에 상기 압력 챔버 를 형성 하 고 , 상기 연마 공정 중 에 웨이퍼 를 가압 하 는 가요 성 재질 의 멤 브레인 바닥 판 이 구비 된 멤 브레인 과 ; 상기 유량 조 절부 에 의하 여 제 1 압력 챔버 에 미리 정해진 크기 의 설정 부압 ( Po ) 을 인가 하 는 동안 에 소요 되 는 유량 을 측정 하 여 , 미리 예정 된 유량 과 정해진 제 1 유량 편차 이하 로 유량 이 흡입 되 었 는지 를 감지 하 는 감지 부 를 ; 포함 하 여 구성 된 것 을 특징 으로 하 는 연마 장치 용 연마 헤드 를 제공 한다 .