본 발명 은 배양액 을 사용 하 여 세포 가 배양 되 는 세포 배양 챔버 및 이 를 포함 한 세포 배양 장치 에 관한 것 으로서 , 특히 배양 되 는 세포 가 세포 배양 챔버 내 에 배양액 이 유출 입 되 는 것 에 영향 받 지 않 고 균일 하 게 분포 된 상태 에서 배양 될 수 있 는 세포 배양 챔버 및 이 를 포함 한 세포 배양 장치 에 관한 것 이 다 . 이러 한 본 발명 에 의하 면 , 세포 가 배양 되 는 일정 한 부피 의 배양 공간 , 배양 공간 으로 유입 되 는 배양액 이 배출 되 는 하나 이상 의 배양액 배출구 및 , 배양 공간 으로부터 연속 되 며 배양 공간 을 배양액 배출구 를 향해 수렴 시키 며 상기 배양액 배출구 에서 상기 배양 공간 으로 아래 방향 으로 경사진 경사면 을 포함 하 며 , 배양액 이 경사면 을 따라 배양액 배출구 로 수렴 되 면서 상기 세포 가 세포 자체 의 하중 에 의해 역방향 으로 이동 하 여 상기 배양액 이 세포 와 분리 배출 될 수 있 도록 하 는 것 을 특징 으로 하 는 세포 배양 챔버 및 이 를 포함 한 세포 배양 장치 가 제공 된다 .