본 발명 의 조성물 은 실록 산 골격 , 및 아이 소시아 네이트 기 와 반응 할 수 있 는 1 개 이상 의 활성 수소 기 를 포함 하 는 1 개 이상 의 화합물 을 추가 로 포함 한다 . 가수 분해 성 기 가 결합 된 아이 소시아 네이트 기 또는 규소 원자 들 을 함유 하 는 접착제 에 대한 코팅 의 접착성 을 개선 할 수 있 는 1 개 이상 의 활성 수소 기 를 포함 하 는 , 상기 기재 된 성분 들 을 갖 는 임의 의 화합물 이 본 발명 의 조성물 에 사용 될 수 있 다 . 바람직 하 게 는 , 실록 산 골격 은 폴리 다이메틸 실록 산 골격 ( - SiO ( CH 3 ) 2 -) 이 다 . 바람직 하 게 는 , 실록 산 골격 상 의 작용기 는 규소 하이드라이드 ( Si - H ) , 하이드 록 실 , 아미노 , 카복실산 , 포스폰산 , 머 캅 토 , 에폭시 , 아이 소시아 네이트 , 무수물 , 실란 올 , 아크릴 레이트 , 또는 이 들 의 혼합물 이 다 . 바람직 하 게 는 , 활성 수소 작용 성 실록 산 은 코팅 의 표면 으로 이동 하 여 유리 결합 용 접착제 의 작용기 와 의 결합 을 촉진 시키 기 에 충분 하 지만 표면 또는 접착제 에 대한 코팅 의 계면 접착성 을 방해 할 정도 로 그렇게 크 지 않 은 분자량 을 갖 는다 . 바람직 하 게 는 , 활성 수소 작용 성 실록 산 은 약 250 이상 , 더욱 바람직 하 게 는 약 350 이상 , 가장 바람직 하 게 는 약 450 이상 의 당량 을 갖 는다 . 바람직 하 게 는 , 활성 수소 작용 성 실록 산 은 약 4000 이하 , 더욱 바람직 하 게 는 약 3500 이하 , 가장 바람직 하 게 는 약 3000 이하 의 당량 을 갖 는다 . 바람직 하 게 는 , 활성 수소 작용 성 실록 산 은 아이 소시아 네이트 작용 성 접착제 에 대한 코팅 의 접착성 을 증대 시키 기 에 충분 한 양 의 활성 수소 함유 작용기 를 갖 는다 . 더욱 바람직 하 게 는 , 활성 수소 작용 성 실록 산 은 약 10 이상 의 하이드 록 실 가 , 가장 바람직 하 게 는 약 20 이상 의 하이드 록 실 가 를 갖 는다 . 더욱 바람직 하 게 는 , 활성 수소 작용 성 실록 산 은 약 500 이하 , 가장 바람직 하 게 는 약 250 이하 의 하이드 록 실 가 를 갖 는다 . 스크린 인쇄 에 의해 본 발명 의 조성물 을 기판 에 도포 시키 기 위해서 는 , 활성 수소 함유 실록 산 이 자유 라디칼 에 노출 되 었 을 때 중합 될 수 있 는 불포화 기 를 추가 로 함유 하 는 것 이 바람직 하 다 . 바람직 한 불포화 기 는 아크릴 레이트 기이 다 . 바람직 한 활성 수소 작용 성 실록 산 에 는 하 기 열거 된 화합물 들 이 포함 된다 :