본 발명 의 포토레지스트 조성물 에 사용 되 는 알칼리 가용성 의 노볼락 수지 는 페놀 , 메타 및 / 또는 파라 크레졸 등 의 방향 족 알콜 과 포름알데히드 를 반응 시켜 합성 한 고분자 중합체 로서 , 이 분야 에서 통상 적 으로 사용 되 는 것 을 사용 할 수 있 다 . 또한 , 포토레지스트 의 성능 개선 을 위하 여 이 수지 중 에서 고분자 , 중분 자 , 저 분자 등 을 제거 하 여 용도 에 적합 한 분자량 의 수지 를 사용 할 수 도 있 다 .