상기 하스텔로이 C - 276 코팅 단계 ( S 105 ) 를 통해 형성 되 는 하스텔로이 C - 276 코팅 층 의 두께 가 200 마이크로미터 미만 이 면 , 부식성 가스 에 의해 폐가스 처리 용 스 크 러버 반응기 의 표면 에서 발생 하 는 고온 산화 부식 의 억제 효과 가 미미 하 며 , 상기 하스텔로이 C - 276 코팅 층 의 두께 가 300 마이크로미터 를 초과 하 게 되 면 부식성 가스 에 의해 폐가스 처리 용 스 크 러버 반응기 의 표면 에서 발생 하 는 고온 산화 부식 의 억제 효과 는 크 게 향상 되 지 않 으면서 제조 비용 과 제조 공정 의 시간 이 지나치 게 증가 한다 .