이상 과 같이 , 멀티 1 차 전자 빔 ( 20 ) 전체 로 는 , 마스크 다이 ( 33 ) 를 조사 영역 ( 34 ) 으로 하 여 주사 ( 스캔 ) 하 게 되 지만 , 각 빔 은 , 각각 대응 하 는 1 개 의 서브 조사 영역 ( 29 ) 을 주사 하 게 된다 . 그리고 , 1 개 의 마스크 다이 ( 33 ) 의 주사 ( 스캔 ) 가 종료 되 면 , 인접 하 는 다음 마스크 다이 ( 33 ) 가 조사 영역 ( 34 ) 으로 되 도록 이동하 여 , 이러 한 인접 하 는 다음 마스크 다이 ( 33 ) 의 주사 ( 스캔 ) 를 행한다 . 이러 한 동작 을 반복 하 여 , 각 칩 ( 332 ) 의 주사 를 진행 시켜 간다 . 멀티 1 차 전자 빔 ( 20 ) 의 샷 에 의해 , 그때 마다 , 조사 된 측정 용 화소 ( 36 ) 로부터 멀티 2 차 전자 빔 ( 300 ) 이 방출 되 고 , 멀티 검출기 ( 222 ) 에서 검출 된다 . 본 실시 형태 에서 는 , 멀티 검출기 ( 222 ) 의 단위 검출 영역 사이즈 는 , 각 측정 용 화소 ( 36 ) 로부터 상방 으로 방출 된 멀티 2 차 전자 빔 ( 300 ) 을 측정 용 화소 ( 36 ) 마다 ( 혹은 서브 조사 영역 ( 29 ) 마다 ) 검출 한다 .