하나 의 X 선 초점 개소 에 복수 회로 나누 어서 펄스 적 으로 전자 빔 을 조사 함 으로써 , 타 겟 상의 X 선 빔 이 조사 되 는 부분 은 , 전자 빔 이 닿 지 않 는 시간 동안 에 방열 냉각 할 수 있 다 . 그 때문 에 , 일정 시간 의 조사 로 타 겟 이 손상 되 는 온도 에 달할 정도 로 강한 전자 빔 에서 도 , 타 겟 온도 가 허용 범위 의 시간 내 에 , 다음 의 X 선 초점 위치 에 옮김 으로써 사용 할 수 있 다 . 또한 , 복수 의 X 선 검출기 를 동시 에 촬상에 이용 할 수 있 기 때문 에 , 전체 의 촬상 시간 이 단축 된다 .