또한 , 미러 보유 지지 부재 ( 2003 f ) 는 , 도 12 에 도시 하 는 구성 , 즉 , 미러 보유 지지 부재 ( 2003 h ) 가 갖 는 각 하프 미러 및 전반사 미러 에 따라서 배치 된 , 미러 보유 지지 부재 ( 2003 h ) 와 동일 한 개수 의 하프 미러 및 전반사 미러 를 구비 하 여 구성 되 는 것 에 한정 되 지 않 는다 . 예 를 들 어 , 미러 보유 지지 부재 ( 2003 f ) 는 , 제 어 장치 ( 5 ) 에 설치 된 도시 하 지 않 은 마이크 로 미러 구동 회로 에 의해 , 조사 광 의 출력 방향 을 미러 보유 지지 부재 ( 2003 h ) 가 갖 는 각 하프 미러 및 전반사 미러 가 배치 되 어 있 는 방향 으로 순차 변경 가능 한 , 1 개 의 마이크 로 미러 를 구비 하 여 구성 되 는 것 이 라도 좋 다 .