그런데 이 와 같 은 미세 패턴 형성 과정 에 있 어서 , 형성 되 는 미세 패턴 의 폭 은 포토레지스트 막 패턴 의 폭 에 의해 결정 된다 . 따라서 대상 막 을 패 터닝 하 여 미세 패턴 을 형성 하 기 위해서 는 , 미세 패턴 의 폭 에 대응 되 는 폭 을 갖 는 포토레지스트 막 패턴 을 형성 하 여야 한다 . 그러나 최근 포 토리 소그라 피 장비 및 공정 기술 이 급격 하 게 작아진 미세 패턴 의 피치 ( pitch ) 를 따라가 지 못하 고 있 다 .