도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 공정 챔버 ( 600 ) 는 , 기판 ( S ) 을 처리 할 수 있 는 처리 공간 이 형성 되 는 챔버 몸체 ( 610 ) 를 포함 할 수 있 다 . 더욱 구체 적 으로 , 챔버 몸체 ( 610 ) 는 , 내부 에 원형 또는 사각 형상 으로 형성 되 는 처리 공간 이 형성 되 어 , 처리 공간 에 설치 된 기판 지지대 ( 100 ) 에 지지 되 는 기판 ( S ) 상 에 박막 을 증착 하 거나 박막 을 식각 하 는 등 의 공정 이 진행 될 수 있 다 .