이러 한 문제점 들 을 해결 하 기 위하 여 , 본 발명 의 일실 시예 에서 는 , 장치 의 폭 을 감소 시키 기 위해 , 웨이퍼 처리 챔버 들 의 개수 를 변화 시키 지 않 고 , 도 3 에 도시 된 형상 이 사용 된다 . 본 명세서 에 는 상기 장치 의 축 방향 으로부터 관측 되 는 다각형 웨이퍼 이송 챔버 의 외주 면 을 따르 는 2 개 의 인접 하 는 측면 들 각각 을 따라 웨이퍼 입 / 출력 챔버 를 갖 는 장치 의 일실 시예 가 개시 되 어 있 지만 , 웨이퍼 처리 챔버 는 적어도 각각 의 나머지 복수 의 측면 들 을 따라 설치 되 며 , 상기 나머지 복수 의 측면 들 에 는 이 들 사이 의 블랭크 측면 을 갖 는 챔버 의 경우 를 제외 하 고는 , 2 개 의 인접 하 는 처리 챔버 에 의해 형성 되 는 각이 일정 하 게 유지 된다 .