도 1 은 , 본 발명 의 광학 장치 를 탑재 한 투영 광학계 PO 를 포함 하 는 노광 장치 ( 1 ) 의 구성 을 도시 한 개략 도 다 . 노광 장치 ( 1 ) 는 , 반도체 디바이스 나 액정 표시 디바이스 등 의 디바이스 의 제조 공정 인 포토 리소그래피 공정 에 사용 된다 . 노광 장치 ( 1 ) 에서 는 , 광 강도 가 강한 노광 광 L 을 사용 하 여 , 마스크 M 의 패턴 을 기판 위 의 감광 재 에 투영 하 기 때문 에 , 노광 장치 ( 1 ) 에 포함 되 는 렌즈 나 미러 등 의 광학 소자 가 노광 광 L 을 흡수 함 으로써 따뜻 하 게 되 기 쉽 다 .