그러나 , 이 와 같이 전체 유기 탄소 농도 로 과산화수소 내 유기 불순물 의 함량 을 측정 하 고 고순 도로 선별 하 여 제공 되 는 과산화수소 를 반도체 웨이퍼 세정액 및 디스플레이 식각 액 으로 제공 하 였을 때 , 미세 한 잔사 가 다수 발생 하 여 불량 이 발생 하 는 문제점 이 계속 발생 하 였 다 . 이 는 전체 유기 탄소 방법 은 액체 내 에 포함 되 는 유기물 이 열처리 공정 에 의하 여 탄화 되 어 발생 되 는 이산화 탄소 의 농도 에 의거 하 여 측정 되 는 방법 으로 , 공정 중 열처리 로 인하 여 탄화 되 지 않 고 기화 되 는 불순물 에 대한 농도 는 측정 이 불 가능 하 여 이 의 존재 여부 에 따라 발생 되 는 문제점 이 다 .