하 층막 가공 용 마스크 에 요구 되 는 특성 으로 헤밍 ( hemming ) 현상 등 이 없 는 레지스 트 패턴 을 형성 할 수 있 는 것 , 레지스 트 와 의 밀착 성 이 우수 한 것 , 산화 막 가공 용 하층 막 을 가공 할 때 충분 한 마스크 성 이 있 는 것 을 들 수 있 지만 , 모든 요구 를 충족 시키 는 재료 를 찾 는 것 은 어렵 다 . 특히 하 층막 가공 용 마스크 의 굴절 율 과 흡광도 가 적절 치 않 아 반사 방지 특성 을 효과 적 으로 사용 하 지 못하 고 이 에 리 쏘 그래피 공정 마진 을 확보 하 지 못하 는 문제점 이 있 었 다 .