앞서 도 11 a 내지 도 12 b 를 참조 로 하 여 설명 한 단계 들 은 하나 의 사이클 ( cycle ) 을 구성 할 수 있 다 . 상기 사이클 은 제 1 마스크 패턴 ( PR 1 ) 및 하드 마스크 패턴 ( HM ) 을 식각 마스크 로 사용 하 여 제 1 마스크 패턴 ( PR 1 ) 및 하드 마스크 패턴 ( HM ) 에 의해 노출 된 개구 홀 들 ( OP ) 하부 의 적층 체 ( ML ) 를 제 1 깊이 ( d 1 ) 만큼 식각 하 는 단위 식각 공정 과 , 개구 홀 들 ( OP ) 이 추가 적 으로 노출 되 도록 제 1 마스크 패턴 ( PR 1 ) 의 폭 을 줄이 는 트리밍 공정 을 포함 할 수 있 다 .