본 발명 은 광학 적 웨이퍼 엔드 포인트 이중 검사 장치 에 관한 것 으로 , 회전 되 는 플 래 튼 상면 에 결합 되 고 웨이퍼 를 연마 하 는 연마 패드 가 구비 된 웨이퍼 엔드 포인트 이중 검사 장치 에 있 어서 , 상기 플 래 튼 의 내부 일 측 에 구비 되 고 , 제 1 광 을 조사 하 여 , 상기 연마 패드 일 측 에 형성 된 제 1 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 시키 는 제 1 광원 ; 상기 제 1 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 된 후 반사 되 는 제 2 광 을 감지 하 는 제 1 수광 센서 ; 상기 플 래 튼 의 내부 타 측 에 구비 되 고 , 제 3 광 을 조사 하 여 , 상기 연마 패드 타 측 에 형성 된 제 2 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 시키 는 제 2 광원 ; 상기 제 2 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 된 후 반사 되 는 제 4 광 을 감지 하 는 제 2 수광 센서 ; 및 상기 제 1 수광 센서 및 제 2 수광 센서 를 통해 감지 값 을 수신 받 아 기 설정 된 감지 값 과 일치 하 는 경우 상기 웨이퍼 의 연마 를 종료 시키 는 제 어부 ; 를 포함 한다 . 이러 한 구성 으로 , 서로 다른 위치 에서 웨이퍼 에 광 을 각각 조사 함 으로써 , 서로 의 결과 치 를 비교 분석 하 여 웨이퍼 의 균 일도 를 보다 정확 하 게 검사 할 수 있 는 효과 를 얻 을 수 있 다 .