이상 에서 설명 한 바 와 같이 , 본 발명 에서 는 고집 적 화 가 진행 되 고 있 는 반도체 집적회로 의 포 토리 소그라 피 공정 시 , 이전 진행 된 롯 트 에서 의 오버레이 제어 를 위한 스텝 퍼 입 / 출력 값 으로 다음 롯 트 의 스텝 퍼 입력 값 을 예측 생성 하 는 APC 방법 에서 , 이전 포토 공정 진행 된 롯 트 들 의 커런트 레이어 에 대한 스텝 퍼 입 / 출력 값 뿐 만 아니 라 서브 레이어 에 대한 스텝 퍼 입력 값 을 반영 한 가중 평균 산출 을 통해 스텝 퍼 에서 새로이 포토 공정 이 진행 되 는 다음 롯 트 의 스텝 퍼 입력 값 을 예측 생성 하 도록 함 으로써 , 포토 공정 에서 보다 정확 한 오버레이 공정 제어 를 수행 할 수 있 는 이점 이 있 다 .