본 발명 의 다른 실시 예 에 따른 표시 장치 의 제조 방법 은 제 1 및 제 2 제어 전극 을 형성 하 는 단계 , 상기 제 1 및 제 2 제어 전극 위 에 게이트 절 연막 , 반도체 층 및 저항성 접촉 층 을 차례 로 적층 하 는 단계 , 상기 반도체 층 및 상기 저항성 접촉 층 을 식각 하 여 상기 제 1 제어 전극 상부 에 위치 하 는 제 1 반도체 및 제 1 저항성 접촉 층 과 상기 제 2 제어 전극 상부 에 위치 하 는 제 2 반도체 및 제 2 저항성 접촉 층 을 형성 하 는 단계 , 상기 제 1 및 제 2 저항성 접촉 층 의 일부 를 제거 하 여 상기 제 1 및 제 2 반도체 의 일부 를 노출 하 는 단계 , 상기 제 1 반도체 의 노출 된 부분 에 레이저 를 조사 하 여 결정 화 하 는 단계 , 그리고 상기 제 1 저항성 접촉 층 위 에 위치 하 는 한 쌍 의 제 1 입력 전극 및 제 1 출력 전극 과 상기 제 2 저항성 접촉 층 위 에 위치 하 는 한 쌍 의 제 2 입력 전극 및 제 2 출력 전극 을 형성 하 는 단계 를 포함 한다 .