입사각 ( 172 ) 과 탈 출각 ( 180 ) 을 동일 하 게 하 는 이유 는 이하 와 같 다 . 입사각 ( 172 ) 과 탈 출각 ( 180 ) 이 다른 경우 , 즉 , 입사각 ( 172 ) 이 90 도 가 아닐 때 는 , 「 센서 가 반도체 웨이퍼 ( WH ) 의 금속 막 을 검지 하 기 시작 한 상태 」 로부터 「 센서 의 출력 이 최대 가 된 상태 」 로 될 때 까지 의 입사 시 의 이행 시간 은 , 「 센서 의 출력 이 최대 인 상태 」 로부터 「 센서 가 반도체 웨이퍼 ( WH ) 의 금속 막 을 검지 하 지 않 게 되 는 상태 」 로 될 때 까지 의 탈출 시 의 이행 시간 과 다르 다 . 즉 , 반도체 웨이퍼 ( WH ) 에 코어 ( 154 ) 가 들어갈 때 와 나올 때 , 막 두께 의 검출 정밀도 의 저하 를 초래 하 는 범위 가 달라 , 측정 된 막 두께 에 기초 하 는 연마 의 제어 가 복잡 해진다 . 예 를 들 어 , 유효 하 지 않 은 데이터 ( 에지 영역 ( 158 ) 에서 측정 된 데이터 ) 와 , 유효 한 데이터 ( 반도체 웨이퍼 ( WH ) 의 바로 아래 이 며 , 또한 에지 영역 ( 158 ) 이외 의 영역 에서 측정 된 데이터 ) 의 식별 방법 이 복잡 화 된다 .