구체 적 으로 N - 에틸 포름 아마이드 를 사용 하 여 , N - 메틸 포름 아미드 ( N - methylforamide ; NMF ) 및 N - 메틸 피 롤리 돈 ( N - methylpyrrolidone ; NMP ) 을 사용 함 에 따른 환경 적 인 문제 를 해결 하 고 , 상기 화학식 1 및 화학식 2 에서 보이 는 바 와 같이 , 소수성 인 이소 프로필렌 구조 를 포함 하 는 화합물 을 N - 에틸 포름 아마이드 와 함께 사용 함 으로써 이 들 의 상승 작용 에 의해 아민 화합물 이 보다 쉽 게 포토레지스트 의 가교 된 결합 을 끊 어 주 는 역할 을 하 여 박리 시간 을 더욱 단축 시킬 수 있 으며 , 기존 NMF , NMP 를 사용 하 던 조성물 과 동등 하 거나 그 보다 우수 한 박리 속도 를 달성 할 수 있 음 을 발견 하 여 본 발명 을 완성 하 였 다 . 또한 , 박리 력 뿐 만 아니 라 박리 된 레지스 트 의 용해 력 이 우수 하 고 , 경시 변화 안정 성 이 우수 함 을 발견 하 여 본 발명 을 완성 하 였 다 .