이하 , 도체 층 을 세미 어디 티 브 법 에 의해 형성 하 는 예 를 나타낸다 . 우선 , 제 1 절연 층 의 표면 에 , 무전 해 도금 에 의해 도금 시드 층 을 형성 한다 . 그 다음 에 , 형성 된 도금 시드 층 위 에 , 원 하 는 배선 패턴 에 대응 해서 도금 시드 층 의 일부 를 노출 시키 는 마스크 패턴 을 형성 한다 . 노출 한 도금 시드 층 위 에 , 전해 도금 에 의해 금속 층 을 형성 한 후 , 마스크 패턴 을 제거 한다 . 그 후 , 불 필요 한 도금 시드 층 을 에칭 등 의 처리 에 의해 제거 하 여 , 원 하 는 배선 패턴 을 갖 는 도체 층 을 형성 할 수 있 다 .