또한 상기 서술 한 각 실시 형태 에 있 어서 는 , 광 투과성 의 기판 상 에 소정 의 차 광 패턴 ( 또는 위상 패턴 · 감광 패턴 ) 을 형성 한 광 투과 형 마스크 ( 레티 클 ) 를 사용 했 지만 , 이 레티 클 대신 에 , 예 를 들 어 미국 특허 제 6 , 778 , 257 호 명세서 에 개시 되 어 있 는 바 와 같이 , 노광 할 패턴 의 전자 데이터 에 기초 하 여 , 투과 패턴 또는 반사 패턴 혹은 발광 패턴 을 형성 하 는 전자 마스크 ( 가변 성형 마스크 , 액티브 마스크 , 혹은 이미지 제너 레이터 라고 도 하 며 , 예 를 들 어 비 발광 형 화상 표시 소자 ( 공간 광 변조기 ) 의 일종 인 DMD ( Digital Micro - mirror Device ) 등 을 포함 한다 ) 를 사용 해도 된다 .