화학 기상 증착 과 같 은 웨이퍼 처리 들 에서 사용 되 는 웨이퍼 캐리어 ( 32 ) 는 웨이퍼 들 을 유지 하 기 위한 포켓 들 ( pockets ) ( 40 , 240 ) , 및 그 포켓 들 의 플로어 ( floor ) 들 위 로 그 웨이퍼 들 을 지지 하 기 위한 지지 표면 들 을 구비 한다 . 캐리어 는 지지 표면 들 ( 56 , 254 ) 로부터 먼 방향 으로 상향 이동 을 막 도록 웨이퍼 를 제한 하 기 위한 로크 ( lock ) 들 이 제공 된다 . 상향 이동 을 방지 하 도록 웨이퍼 들 을 제한 하 는 것 은 웨이퍼 와 플로어 표면 들 간 의 간격 에 대한 웨이퍼 왜곡 의 효과 를 제한 하 며 , 따라서 열 전달 에 대한 웨이퍼 왜곡 효과 들 을 제한 한다 . 캐리어 는 메인 부분 ( 38 ) , 및 메인 부분 보다 높 은 열 전도 성 을 가지 는 마이너 부분 ( 44 ) 을 포함 할 수 있 다 .