프로세스 ( 4700 ) 는 , 도 32 에 예시 된 바 와 같이 로직 영역 ( 104 l ) 으로부터 더미 게이트 유전체 층 ( 183 ) 을 제거 하 도록 에칭 하 는 동작 4714 로 이어진다 . 다음 으로 , 로직 디바이스 구조물 ( 110 ) 이 동작 4716 으로 로직 영역 ( 104 l ) 에 형성 된다 . 로직 디바이스 구조물 ( 110 ) 형성 의 예 가 도 33 내지 도 37 에 의해 예시 되 어 있 다 . 그 다음 , 동작 4718 , 즉 도 39 에 도시 된 바 와 같이 제어 게이트 하드 마스크 ( 708 ) 를 제거 할 수 있 는 평탄 화 가 이어진다 .