LSI 의 고집 적 화 에 수반 하 여 , 반도체 디바이스 에 요구 되 는 회로 선 폭 은 해 마다 미세 화 되 어 있 다 . 반도체 디바이스 에 원하 는 회로 패턴 을 형성 하 기 위해서 는 , 축소 투영 형 노광 장치 를 이용 하 여 , 석영 상 에 형성 된 고정 밀도 의 원화 패턴 ( 마스크 , 혹은 특히 스 테퍼 또는 스캐너 로 이용 되 는 것 은 레티 클 이 라고 도 함 ) 을 웨이퍼 상 에 축소 전사 하 는 수법 이 채용 되 어 있 다 . 고정 밀도 의 원화 패턴 의 제작 에 는 , 전자 빔 묘화 장치 에 의하 여 레지스 트 를 노광 하 여 패턴 을 형성 하 는 , 소위 , 전자 빔 리소그래피 기술 이 이용 되 고 있 다 .