실시 형태 1 에서 는 , 증착 원 개구 ( 61 ) 로부터 방출 된 증착 입자 는 , 당해 증착 원 개구 ( 61 ) 의 바로 위 에 위치 하 는 1 개 의 제 어 공간 ( 81 ) 만 을 통과 할 수 있 었 다 . 이 에 비해 , 본 실시 형태 2 에서 는 , 증착 원 개구 ( 61 ) 로부터 방출 된 증착 입자 는 , 당해 증착 원 개구 ( 61 ) 의 바로 위 에 위치 하 는 1 개 의 제 어 공간 ( 81 ) 외 에 , 이 제어 공간 ( 81 ) 의 양옆 의 2 개 의 제 어 공간 ( 81 ) 도 통과 할 수 있 다 . 즉 , 각 증착 원 개구 ( 61 ) 로부터 방출 된 증착 입자 는 , 당해 증착 원 개구 ( 61 ) 의 바로 위 에 위치 하 는 제어 공간 ( 81 ) 을 중심 으로 하 는 X 축 방향 으로 연속 되 는 3 개 의 제 어 공간 ( 81 ) 을 통과 한다 . 또한 외측 의 제 어 공간 ( 81 ) 을 통과 하 도록 구성 해도 된다 . 본 실시 형태 2 의 증착 장치 의 구성 은 , 상기 한 것 을 제외 하 고 실시 형태 1 의 그것 과 동일 하 다 .