미세 하 고 균일 하 며 고 순도 의 주석산 화물 나노 입자 를 제조 하 기 위해서 표면 반응 용액 및 침 전액 의 반응 온도 및 농도 가 중요 한 제어 인자 로서 고려 해야 하 는 이유 는 다음 과 같 다 . 즉 , 침 전법 에서 입자 의 형성 메커니즘 을 살펴보 면 , 반응 용액 에 침전제 가 첨가 되 기 시작 하 면서 용액 중 의 침전 핵 이 생성 된다 . 이 핵 은 서로 충돌 하 여 1 차 입자 로 성장 하 며 , 이 1 차 입자 가 용액 의 농도 와 온도 에 의해 입자 의 운동 성 이 증가 하 므로 충돌 할 확률 이 높 아 져 입자 크기 및 형상 에 영향 을 미치 게 된다 . 이러 한 반응 이 금속 주석 의 표면 에서 반응 이 일어나 므로 반응 표면 의 응 집체 의 제거 가 무엇 보다 중요 하 다 . 이러 한 것 의 제거 를 위한 주석 화합물 , 즉 SnCl 4 , Sn ( OCH ( CH 3 ) 2 ) 4 iPrOH , Sn ( NO 3 ) 4 , [ Sn ( NMe 2 ) 2 ] 2 등 을 사용 하 여 균일 상 반응 으로 주석산 화물 을 합성 하 였 지만 하소 이후 응집 이 심하 며 , 가격 적 인 면 에서 불리 하 였 다 . 상기 의 합성법 의 개선 을 위한 합성 방법 으로 침 전법 에 카르복시기 를 1 개 이상 2 개 이하 를 포함 하 며 탄소 의 개수 가 8 개 이하 인 화합물 을 촉매 로 사용 하 여 반응 표면 에서 의 응집 을 제어 하 는 방법 을 고려 하 였 다 .