이 에 발명자 등 은 , 성막 실 ( 101 ) 내 의 드라이클리닝 직후 의 박막 형성 공정 에 있 어서 성막 속도 의 저하 를 억제 하 면서 , 성막 실 ( 101 ) 내 의 금속 오염 이나 석영 부재 의 파손 을 억제 하 는 방법 에 대해 많 은 연구 를 했 다 . 그 결과 , 온도 조건 을 최적 화 시키 면서 , 성막 실 ( 101 ) 내 에 F 2 가스 를 단독 으로 , 또는 불활성 가스 로 희석 된 F 2 가스 를 단독 으로 공급 함 으로써 , 상술 한 과제 를 해결 할 수 있 다는 결과 를 얻 었 다 . 즉 , 제 1 온도 로 가열 된 처리 실 내 에 , 클리닝 가스 로서 F 2 가스 를 단독 으로 , 또는 불활성 가스 로 희석 된 F 2 가스 를 단독 으로 공급 하 고 , 처리 실 내 에 퇴적 한 박막 을 제거 하 는 공정 과 , 제 2 온도 로 가열 된 처리 실 내 에 , 클리닝 가스 로서 F 2 가스 를 단독 으로 , 또는 불활성 가스 로 희석 된 F 2 가스 를 단독 으로 공급 하 고 , 박막 의 제거 후 에 처리 실 내 에 잔류 한 부착물 을 제거 하 는 공정 에 의해 상술 한 과제 를 해결 할 수 있 다는 결과 를 얻 었 다 . 본 발명 은 발명자 등 이 얻 은 이러 한 결과 를 바탕 으로 이루어진 것 이 다 .