" 2005 년 12 월 22 일자 출원 되 고 발명 의 명칭 이 "" 습식 도전 성 물질 을 이용 하 여 형성 된 삼차원 안테나 및 그 제조 방법 "" 인 국제 특허 출원 PCT / IL 2005 / 000611 호 에 따르 면 ", 안테나 제조 방법 은 삼차원 표면 을 갖 는 기 저판 을 제공 하 며 , 삼 차원 표면 을 갖 는 상기 기 저판 은 적어도 하나 의 표면 상 에 안테나 를 형성 하 기 위해 도전 성 코팅 으로 처리 된다 .