도 4 a 및 도 4 b 는 본 발명 에 따른 구리 금속 배선 의 형성 방법 에 따라 구리 금속 층 이 형성 된 상태 를 도시 한 도면 들 로서 , 도 4 a 는 열처리 공정 동안 에 구리 금속 층 내부 에 금속 원자 가 확산 된 상태 를 도시 하고 , 도 4 b 는 구리 CMP 공정 이 완료 된 후 의 구리 금속 층 의 상면 에서 금속 원자 가 확산 된 상태 를 도시 한다 .