퇴적 프로세스 동안 , 도금 용액 내 의 반응물 이 소모 되 고 폐기물 이 누적 될 수 도 있 다 . 도금 용액 성분 이 바람직 한 농도 레벨 내 에서 유지 되 는 것 을 확보 하 기 위해 , 성분 농도 를 측정 및 조정 할 필요 가 있 다 . 당업자 에게 알려진 일 접근 법 은 , 도금 조 의 샘플 을 취하 고 도금 조 성분 의 농도 를 결정 하 기 위해 종래 의 화학 적 적정 ( titration ) 을 수행 하 는 것 이 다 . 이 접근 법 의 단점 은 느리 고 지루 하 다는 것 이 다 . 다른 단점 은 , 적정 이 상당 한 폐물 발생량 및 적정 프로세스 에 의해 필요 한 첨가 의 화학 물질 의 공급 필요 성 을 초래 한다는 것 이 다 . 마지막 으로 , 적정 프로세스 는 통상 적 으로 무전 해 도금 프로세스 를 수행 하 는 프로세스 장비 와 떨어져 수행 된다 . 또한 , 매트릭스 효과 가 하나 의 화학 적 성분 의 존재 가 다른 성분 의 양 적 결정 을 방해 또는 변경 하 여 적정 프로세스 를 혼란 스럽 게 만들 수 도 있 다 .