도 22 를 참조 하 면 , 포토레지스트 층 ( 도시 되 지 않 음 ) 이 제 2 콘택트 레벨 유전체 층 ( 282 ) 위 에 적용 될 수 있 고 , 다양 한 콘택트 비아 개구 들 을 형성 하 도록 리소그래피 로 패턴 화 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 드레 인 콘 택 비아 구조물 들 을 형성 하 기 위한 개구 들 이 메모리 어레이 영역 ( 100 ) 내 에 형성 될 수 있 고 , 계단 영역 콘택트 비아 구조물 들 을 형성 하 기 위한 개구 들 이 계단 영역 ( 200 ) 내 에 형성 될 수 있 다 . 접속 비아 구조물 들 을 형성 하 기 위한 개구 가 계단 유전체 분리 영역 들 ( 250 ) 내 에 그리고 선택 적 으로 , 어레이 유전체 분리 영역 들 ( 150 ) 내 에 형성 될 수 있 다 .