과산화수소 내 의 유기 불순물 은 반도체 및 디스플레이 제조 공정 에서 반도체 웨이퍼 표면 이나 디스플레이 회로 기판 에 불순물 로 잔류 하 여 불량 을 유발 하 기 때문 에 유기 불순물 을 제거 한 고 순도 의 과산화수소 를 사용 하 여야 한다 . 그러나 기존 에 는 과산화수소 내 불순물 의 함량 을 전체 유기 탄소 ( TOC ) 농도 분석 방법 으로 파악 하 였으나 , 이 와 같 은 분석 방법 으로 고순 도로 선별 된 과산화수소 는 디스플레이 제조 공정 에서 미세 한 잔사 발생 으로 인한 공정 수율 을 현저히 저감 되 는 불량 이 발생 하 여 이 를 해결 하 기 위한 방안 이 필요 하 였 다 .