[ 0028 ] 블록 ( 106 ) 에서 , 원 하 는 두께 의 실리콘 - 함유 에피 택 셜 층 이 기판 상 에 형성 되 었 으면 , 프로세싱 시약 의 유동 이 중단 되 고 , 임의 의 반응 잔여물 들 및 / 또는 원 하 지 않 는 가스 들 이 에피택시 챔버 밖 으로 펌핑 된다 . 블록 ( 106 ) 동안 , 에피택시 챔버 내 의 압력 은 약 1 Torr 내지 약 30 Torr , 이를테면 약 1 . 5 Torr 내지 약 15 Torr 로 유지 된다 . 에피택시 챔버 를 요구 되 는 챔버 압력 으로 유지 하 면서 , 프로세싱 시약 및 잔여물 들 이 에피택시 챔버 로부터 펌핑 될 수 있 게 하 기 위해 , 퍼징 가스 , 이를테면 수소 또는 아르곤 이 에피택시 챔버 내 로 도입 될 수 있 다 . 퍼징 시간 은 약 5 초 내지 약 45 초 , 예컨대 약 15 초 내지 약 20 초 에서 변할 수 있 다 .