본 발명 은 레지스 트 박리 액 조성물 에 포함 되 는 유기 용매 의 분자 구조 를 제한 함 으로써 , 포토 레지 트 를 효과 적 으로 박리 시키 며 , 건식 / 습식 식각 공정 모두 에서 전부 사용 가능 하 면서 도 사용 한 레지스 트 박리 액 이 박리 장비 내 필터 통과 가 용이 하 며 , 유량 변화 문제 가 개선 된 레지스 트 박리 액 조성물 을 제공 한다 .