이 와 같이 PHT 처리 후 , 도 7 F 에 나타내 는 바 와 같이 , 계속 해서 잔사 제거 처리 를 실시 함 으로써 , 만 에 하나 잔사 ( 313 ) 가 존재 하 고 있 던 경우 라도 , 잔사 ( 313 ) 를 제거 할 수 있 다 . 따라서 , 반도체 집 적 회로 장치 내 에 이상 반응 이 일어날 가능 성 이 저감 되 어 , 반도체 집 적 회로 장치 의 특성 그리고 수율 의 유지 , 향상 을 도모 할 수 있 게 된다 .