전술 한 설명 에 있 어서 는 , 기판 처리 장치 ( 10 ) 로서 , 기판 ( W ) 을 세정 처리 하 는 세정 처리 장치 나 기판 ( W ) 을 건조 처리 하 는 건 조 처리 장치 를 예시 하 였으나 , 이것 에 한하 는 것 은 아니 며 , 액정 기판 이나 반도체 기판 , 포토 마스크 등 의 제조 를 위해서 , 예컨대 , 레지스 트 처리 장치 , 노광 처리 장치 , 현상 처리 장치 , 에칭 처리 장치 , 박리 처리 장치 를 이용 하 도록 해도 좋 다 . 처리 액 으로서 는 , 각종 의 약액 을 이용 하 는 것 이 가능 하 다 .