통상 의 전자 빔 에 의한 묘화 는 , 도 2 에 도시 하 는 바 와 같이 시료 ( 2 ) 상 의 묘화 할 패턴 ( 51 ) 을 단 책형 의 프레임 영역 ( 52 ) 으로 분할 하 여 , 스테이지 ( 3 ) 를 X 방향 으로 연속 이동 시키 면서 각 프레임 영역 ( 52 ) 을 묘화 한다 . 이 프레임 영역 ( 52 ) 은 , 또 한 서브 필드 영역 ( 53 ) 으로 분할 하 여 , 서브 필드 영역 ( 53 ) 내 의 필요 한 부분 만 을 가변 성형 빔 인 전자 빔 의 샷 ( 54 ) 을 편향 시켜 묘화 하 는 것 이 다 . 이 를 위해 , 주 편 향기 ( 15 ) , 부 편 향기 ( 16 ) 의 2 단의 편 향기 를 이용 하 여 , 프레임 영역 ( 52 ) 내 에 있 어서 의 서브 필드 영역 ( 53 ) 의 위치 결정 은 주 편 향기 ( 15 ) 에서 행하 고 , 서브 필드 영역 ( 53 ) 내 의 묘화 는 부 편 향기 ( 16 ) 에서 행한다 .