앞서 언급 된 미국 특허 공보 , 및 특허 각각 에 서술 된 임프 린트 리소그래피 기술 은 형성 가능 한 층 ( 폴리머 화 가능 한 ) 내 의 신뢰 패턴 의 형성 , 및 아래 에 놓인 기판 으로 신뢰 패턴 에 대응 하 는 패턴 을 전이 하 는 것 을 포함 한다 . 기판 은 패턴 화 공정 을 용이 하 게 하 기 위해 원 하 는 위치 조절 을 얻 기 위해 이동 스테이지 에 연결 될 수 있 다 . 패턴 화 공정 은 기판 으로부터 이격 된 템플 릿 , 및 템플 릿 과 기판 사이 에 적용 되 는 포머 블 액체 를 사용 한다 . 포머 블 액체 는 포머 블 액체 와 접촉 하 는 템플 릿 면 의 형상 에 따르 는 패턴 을 가지 는 리 지드 층 을 형성 하 기 위해 고체 화 된다 . 고체화 후 , 템플 릿 과 기판 이 이격 되 도록 , 템플 릿 은 리 지드 층 으로부터 분리 된다 . 그 다음 , 기판 과 고체 화 된 층 은 고체 화 된 층 내 의 패턴 과 대응 하 는 기판 으로 신뢰 이미지 를 전이 하 기 위한 추가 적 인 공정 을 거친다 .