상기 에칭 액 공급 부 ( 130 ) 는 일 예 로서 불 산 ( HF ) 등 과 같 은 소정 농도 의 에칭 액 을 에칭 배스 ( 110 ) 내 에 공급 함 에 따라 , 그 자체 로써 유리 기판 ( P ) 의 식각 이 이루어지 도록 함 은 물론 , 파원 발생 부 ( 140 ) 에 의한 파동 의 매질 이 에칭 배스 ( 110 ) 내 에 채워질 수 있 도록 하 기 위한 것 으로 , 저장 탱크 ( 미 도시 ) 로부터 에칭 액 을 공급 하 기 위한 양수 펌프 ( 미 도시 ) 와 상기 양수 펌프 에 의해 공급 된 에칭 액 을 에칭 배스 ( 110 ) 내부 에 투입 할 수 있 도록 상기 에칭 배스 ( 110 ) 의 일 측 상부 에 설치 된다 .