언급 한 바 와 같이 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 기판 처리 시스템 은 박막 이 형서 된 기판 을 냉각 시키 고 베벨 부 를 식각 하 는 플 라즈 마 식각 장치 를 포함 함 으로써 , 별도 의 냉각 챔버 를 생략 할 수 있 다 . 따라서 , 기판 처리 시스템 은 효율 적 인 구성 을 가짐 으로써 , 기판 처리 효율 을 향상 시키 는 동시 에 베벨 부 식각 공정 에서 발생 할 수 있 는 이 물질 의 발생 을 용이 하 게 억제 할 수 있 다 .