이때 절 연막 ( 202 ) 을 패 터닝 을 하 기 위한 식각 방법 으로 는 플 라즈 마나 하전 된 이온 입자 등 을 이용 하 는 반응 성 이온 식각 ( RIE : reactive ion etching ) 법 등 의 건식 식각 ( dry etching ) 방법 을 주로 이용 하 며 , 경우 에 따라서 는 식각 용액 을 식각 제 로 이용 하 는 습식 식각 ( wet etching ) 을 사용 할 수 도 있 다 .