이상 의 구성 으로부터 , 만약 전해 가공 을 행하 더라도 , 그 전해 가공 액 을 후 의 세정 공정 에 영향 을 주 지 않 도록 , 웨이퍼 ( W ) 표면 및 전극 부재 등 을 린스 하 는 기구 가 구비 되 어 있 고 , 전해 가공 의 환경 상황 을 그대로 다음 의 세정 공정 에 영향 을 주 지 않 고 , 깨끗 한 환경 에서 세정 을 행하 는 것 을 가능 하 게 하 고 있 다 .