또 , 성막 실 ( 2 ) 의 회전 기구 나 반응 가스 공급 기구 는 , 도 3 에 나타내 는 클리닝 실 ( 5 ) 내 의 구성 과 동일 하 게 할 수 있 으므로 , 서 셉 터 ( S ) 가 상기 형상 이 면 , 성막 실 ( 2 ) 에 있 어서 도 동일 한 효과 가 얻 어 진다 . 즉 , 성막 이 실시 되 는 영역 과 회 전부 내 의 하부 영역 이 실질 적 으로 구획 되 므로 , 회 전부 내 에 배치 된 기계 나 전기 배선 을 구성 하 는 금속 이 반응 가스 에 의해 부식 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 . 또 , 이러 한 금속 에서 유래 하 는 불순물 이 성막 이 실시 되 는 영역 에 들어가 기 힘들 어 지 므로 , 웨이퍼 ( W ) 상 에 형성 되 는 에피 택 셜 막 에 불순물 이 혼입 되 는 것 을 방지 하 여 , 에피 택 셜 막 의 품질 저하 를 억제 할 수 있 다 .