이러 한 , 패턴 들 ( 115 a , 120 a ) 간 의 단차 는 이후 의 광학 장치 를 이용 하 는 단계 에서 많 은 문제 를 유발 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 레이저 를 이용 한 웨이퍼 내 이 물질 검출 에 있 어 각 물질 의 단차 에 의한 영향 으로 측정값 이 부 정확 해질 수 있 고 , 리소그래피 를 이용 한 포토 작업 단계 에서 노광 의 불 균일 을 초래 할 수 있 다 .