상기 의 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 은 폴리 싱 테이블 상 을 움직이 는 웨이퍼 캐리어 의 하부 에 장착 되 어 웨이퍼 캐리어 의 하부 에 흡착 된 상태 의 웨이퍼 가 웨이퍼 캐리어 로부터 이탈 됨 을 방지 하 는 중공 형 의 리 테 이너 링 장치 로서 , 웨이퍼 캐리어 의 하 면 테두리 에 장착 된 상태 로 서 스 재질 의 중공 형 으로 형성 된 베이스 리 테 이너 링 ( 110 ) ; 베이스 리 테 이너 링 의 하부 와 측 부 의 단면 형상 에 대응 되 게 중공 형 으로 이루어지 고 베이스 리 테 이너 링 의 하부 로부터 베이스 리 테이 너 링 에 끼워 짐 에 따라 베이스 리 테 이너 링 의 하면 과 측벽 을 감싸 는 형태 로 베이스 리 테 이너 링 과 본딩 결합 되 며 1 mm 내지 2 mm 의 두께 를 갖 는 합성수지 재질 의 하부 커버 링 ( 210 ) ; 베이스 리 테 이너 링 의 상부 단면 형상 에 대응 되 게 중공 형 으로 이루어지 고 베이스 리 테 이너 링 의 상면 에 안착 된 상태 로 자신 의 외곽 테두리 가 하부 커버 링 의 상부 테두리 에 맞닿 은 상태 로 베이스 리 테 이너 링 및 하부 커버 링 과 본딩 결합 되 며 1 mm 내지 2 mm 의 두께 를 갖 는 합성수지 재질 의 상부 커버 링 ( 220 ) ; 을 포함 하 여 구성 된다 .