패턴 형성 방법 은 , 제 1 최소 치수 ( Dmin 1 ) 를 가지 는 제 1 패턴 부 ( 10 a ) 와 , 제 2 최소 치수 ( Dmin 2 ) 를 가지 는 제 2 패턴 부 ( 10 b ) 를 포함 하 는 패턴 형성 방법 으로서 , 레벤 손 형 마스크 를 이용 하 여 노광 을 행하 는 제 1 노광 공정 과 , 하프톤 형 마스크 를 이용 하 여 노광 을 행하 는 제 2 노광 공정 을 포함 한다 . 제 2 최소 치수 ( Dmin 2 ) 가 제 1 최소 치수 ( Dmin 1 ) 의 1 . 3 배 이상 으로 되 는 경우 에 , 제 2 노광 공정 의 노광량 이 제 1 노광 공정 의 노광량 이하 로 되 도록 행한다 .