구체 적 으로 , 각 시료 를 질소 분위기 에서 300 ℃ 로 열처리 한 이후 , XPS ( X - ray photoelectron spectroscopy ) 를 이용 하 여 , 확산 방지 층 의 표면 에서부터 내부 까지 의 Cu 의 농도 를 측정 한다 . 우선 확산 방지 층 의 표면 에 대한 Cu 농도 를 측정 한 후 , Ar 이온 을 이용 한 에칭 ( Etching ) 을 일정 시간 동안 실시 하 여 다시 Cu 농도 를 측정 한다 . 이후 , 다시 일정 시간 동안 에칭 을 실시 하 고 Cu 농도 를 측정 한다 .