예시 도 3 c 의 경우 에 , 크롬 산화 패 시베이 션 층 ( 8 ) 은 완전히 제거 되 거나 , 또는 적어도 80 % 를 넘 어서 , 에칭 작업 의 수단 으로 , 코팅 이전 에 , 예 를 들 어 , 이후 , 앞서 설명 된 바 와 같이 , 탄소 층 ( 5 ) 은 서브 플랜트 ( subplantation ) 으로 획득 된 두께 < 20 nm 인 층 에 적용 된다 . 이 층 위 에 , 예시 도 3 a 에 묘사 된 탄소 층 ( 4 ) 이 증착 된다 ( 층 두께 는 10 - 80 nm ) .