그 외 에 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에는 , 투영 유닛 ( PU ) 의 근방 에 , 예 를 들 어 , 미국 특허 제 5 , 448 , 332 호 명세서 등 에 개시 된 것 과 유사 한 구성 을 갖 는 다점 초점 위치 검출 계 ( 이하 , 다점 AF 계로 약칭 한다 ) ( AF ) ( 도 1 에서 는 미 도시 , 도 7 참조 ) 가 설치 되 어 있 다 . 여기 서 다점 AF 계 로서 는 , 조사 계 로부터 의 검출 빔 을 , 전술 한 노즐 유닛 ( 32 ) 에 형성 된 광 투 과부 ( 미 도시 ) 및 액침 영역 의 액체 ( Lq ) 를 통해 웨이퍼 ( W 1 ) ( 또는 웨이퍼 ( W 2 ) ) 표면 의 복수 의 검 출점 에 조사 하 고 , 복수 의 검 출점 각각 에서 의 검출 빔 의 반사광 을 노즐 유닛 ( 32 ) 에 형성 된 다른 광 투 과부 를 통해 수광 계 에서 수광 하 는 구성 을 갖 는 시스템 이 이용 된다 . 다점 AF 계 ( AF ) 의 검출 신호 는 , AF 신호 처리 계 ( 미 도시 ) 를 통해 주제 어 장치 ( 20 ) 에 공급 된다 ( 도 7 참조 ) . 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 다점 AF 계 ( AF ) 의 검출 신호 에 기초 하 여 웨이퍼 ( W ) 표면 의 Z 축 방향 의 위치 정보 를 검출 하 고 , 그 검출 결과 에 기초 하 여 , 주사 노광 중 의 웨이퍼 ( W ) 의 소위 포커스 레벨 링 제어 를 실행 한다 . 또한 , 얼라인먼트 검출 계 ( ALG ) 의 근방 에 다점 AF 계 를 설치 하 여 , 웨이퍼 얼라인먼트 시 에 웨이퍼 표면 의 면 위치 정보 ( 불 균일 정보 ) 를 사전 에 획득 하 고 , 노광 시 에 는 , 그 면 위치 정보 와 웨이퍼 스테이지 상면 의 Z 축 방향 의 위치 를 검출 하 는 다른 센서 의 계측 치 를 이용 하 여 , 웨이퍼 ( W ) 의 소위 포커스 레벨 링 제어 를 수행 할 수 있 다 .