종래 부터 , 반도체 기판 또는 표시 디스플레이 용 의 기판 등 의 기판 에 대해 패턴 을 전사 하 기 위해서 , 포토 마스크 가 널리 사용 되 고 있 다 . 이 기판 에 대해 적절히 패턴 을 전사 하 기 위해서 는 , 포토 마스크 상 의 패턴 이 원 하 는 형상 으로 형성 되 어 있 을 필요 가 있 다 . 그래서 , 포토 마스크 의 패턴 을 검사 하 는 검사 장치 가 널리 이용 되 고 있 다 ( 예 를 들 어 특허 문헌 1 ) .