도 1 을 참조 하 면 , 전자 빔 의 크기 는 , 전자 빔 장치 의 마스크 스테이지 ( stage ) 위 에 장착 되 는 측정 기준 마크 ( 10 ) 를 전자 빔 ( 20 ) 으로 스캔 ( scan ) 하 고 , 스캔 에 따른 반사 전자 또는 2 차 전자 를 검 출부 ( 30 ) 를 이용 하 여 검출 하 여 측정 되 고 있 다 . 이때 , 측정 기준 마크 ( 10 ) 는 가운데 홀 ( hole ) 부분 ( 15 ) 을 이루 는 사각형 의 링 ( ring ) 형상 의 몸체 ( wall body ) 를 가지 게 구성 되 고 있 다 . 이러 한 측정 기준 마크 ( 10 ) 는 실리콘 ( Si ) 으로 이루어지 고 있 으며 , 전자 빔 ( 20 ) 의 조사 에 의해 마크 ( 10 ) 표면 에서 발생 되 는 2 차 전자 를 수집 하 여 전자 빔 ( 20 ) 의 크기 를 측정 하 는 기준 으로 이용 되 고 있 다 .