수광 장치 ( 82 ) 는 , 제 4 조명 영역 ( IA 4 ) 으로부터 의 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM 2 ) 를 통한 노광 광 ( EL ) 을 검 출광 으로서 수 광 한다 . 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 수광 장치 ( 82 ) 의 수광 결과 에 의거 하 여 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM ) 의 위치 관계 를 구할 수 있 고 , 그 위치 관계 에 의거 하 여 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 에 관한 정보 를 취득 할 수 있 다 . 그리고 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 수광 장치 ( 82 ) 의 수광 결과 를 사용 하 여 취득 한 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 에 관한 정보 에 의거 하 여 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 를 조정 하 고 , 제 1 조명 영역 ( IA 1 ) 으로부터 의 노광 광 ( EL ) 및 제 2 조명 영역 ( IA 2 ) 으로부터 의 노광 광 ( EL ) 을 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 및 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 의 각각 에 조사 한다 . 여기 서 , 검출 시스템 ( 80 ) 에 의한 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM 2 ) 의 검출 후 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 광학 기구 ( BR 1 ) 를 제어 하 여 노광 광 ( EL ) 을 제 1 조명 영역 에 조사 가능 으로 한다 .