단분자막 은 기판 전체 면 에 형성 할 수 도 있 지만 , 필요 한 부위 에 만 형성 하 는 것 이 일반 적 이 고 , 레지스 트 막 을 사용 하 여 위치 선택 적 으로 단분자막 을 형성 할 수 있 다 . 이 조작 에 대해서 는 잘 알려진 것 이 며 , 여기 서 사용 되 는 레지스 트 로서 는 , 특별히 제한 을 둘 필요 는 없 지만 , 보다 미세 한 위치 에 선택 적 으로 처리 를 행하 기 위해서 는 화학 증폭 형 레지스 트 를 사용 하 는 것 이 바람직 하 다 .