마스크 를 형성 하 는 과정 은 일반 적 으로 석영 ( quartz ) 으로 이루어진 블랭크 마스크 ( blank mask ) 의 사각형 기판 표면 에 차광막 으로서 의 크롬 ( Cr ) 층 을 형성 하 고 , 패턴 이 형성 되 도록 우선 전 체면 에 포토레지스트 ( photoresist ) 를 도포 한 후 , 상기 포토레지스트 에 전자 빔 노광 장비 를 사용 하 여 패 터닝 하 게 된다 .