기판 처리 장치 ( 1 ) 는 상부 전극 ( 30 ) 을 더 구비 한다 . 상부 전극 ( 30 ) 은 지지대 ( 14 ) 의 상방 에 구비 되 어 있 다 . 상부 전극 ( 30 ) 은 부재 ( 32 ) 를 사이 에 두 고 챔버 본체 ( 12 ) 의 상부 에 지지 되 어 있 다 . 부재 ( 32 ) 는 절연 성 을 갖 는 재료 로 형성 된다 . 상부 전극 ( 30 ) 과 부재 ( 32 ) 에 의해 챔버 본체 ( 12 ) 의 상부 개구 가 닫혀 있 다 .