이상 에서 설명 한 바 와 같이 , 본 발명 에 따른 노광 마스크 의 리페 어 방법 은 건식 필름 포토레지스트 를 이용 하 여 크롬 이 손실 된 부분 의 석영 기판 상 에 직접 패턴 을 형성 할 수 있 는 이점 이 있 다 . 또한 , 이러 한 건식 필름 포토레지스트 는 종전 의 크롬 패턴 과 해상도 , 내열성 , 강도 , 내식성 등 에서 차이 가 없 어 노광 마스크 의 재 제작 시간 및 소자 의 개발 기간 을 줄이 는 장점 이 있 다 .