상기 다른 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 기판 처리 시스템 은 공정 챔버 , 상기 공정 챔버 내부 에 상호 평행 하 게 배치 되 며 복수 의 기판 들 의 이면 들 과 각각 접촉 하 여 상기 기판 들 을 각각 지지 하 며 복수 의 관통 홀 들 이 각각 형성 된 복수 의 척 들 , 상기 복수 의 관통 홀 들 을 각각 관통 하 며 상기 척 들 에 의하 여 지지 되 는 상기 기판 들 의 각각 을 상하 로 이동 키는 복수 의 서포터 들 , 상기 척 들 의 주변 부 와 접촉 하 여 상기 척 들 을 승강 시키 는 제 1 지지대 , 상기 복수 의 척 들 의 사이 에 배치 되 며 , 상기 복수 의 서포터 들 의 단부 를 지지 하 는 플레이트 , 상기 제 1 지지대 와 평행 하 고 , 상기 플레이트 의 주변 부 와 접촉 하 여 상기 플레이트 를 승강 시키 는 제 2 지지대 , 상기 제 1 지지대 와 연결 되 어 , 상기 제 1 지지대 를 승강 시키 며 내부 에 동공 을 갖 는 제 1 구동축 , 상기 동공 의 내부 에 배치 되 며 , 상기 제 2 지지대 와 연결 되 어 상기 제 2 지지대 를 승강 시키 는 제 2 구동축 및 상기 제 1 및 제 2 구동축 들 과 기계 적 으로 연결 되 며 , 상기 제 1 및 제 2 구동축 들 을 승강 시키 는 구동 유닛 을 포함 한다 .