이미 징 빔 경로 에서 의 수차 의 보정 은 , 예 를 들 어 공간 광 변조 장치 의 방향 으로 광 가이드 를 통한 가상 관찰자 윈도우 로부터 의 역 계산 에서 홀로그램 의 진폭 및 위상 의 결정 과 조합 하 여 수행 될 수 있 다 . 그러나 , 역 계산 은 우선 단지 가상 관찰자 윈도우 로부터 조명 장치 의 중간 이미지 평면 까지 만 수행 된다 . 특히 , 실질 적 으로 이미 징 빔 경로 의 수차 가 존재 하 고 , 조명 빔 경로 의 수차 가 없 거나 또는 단지 작 은 수차 만 이 존재 하 는 일 실시 예 에서 , 역 계산 시 , 광 빔 은 조명 장치 의 중간 이미지 평면 에 는 실질 적 으로 정확 한 위치 를 갖 지만 , 그러나 수차 로 인해 목표 위치 와 비교 하 여 잘못 된 각도 를 갖 고 가상 관찰자 윈도우 에서 직접 적 인 광 빔 의 각도 를 갖 는다 . 따라서 , 개별 광 빔 에 대해 , 각도 는 조명 장치 의 중간 이미지 평면 에서 가변 이미 징 시스템 의 예 를 들 어 국부 적 인 편향 격자 요소 와 같 은 대응 하 는 국부 적 인 이미 징 요소 에 의해 보정 될 수 있 다 . 예 를 들 어 위치 x 에서 ß ( x ) 가 광 빔 의 바람직 한 입사 각도 이 고 , 이러 한 위치 x 에서 ß ' ( x ) 가 이러 한 광 빔 의 실제 입사 각도 인 경우 , 보정 함수 Δβ ( x ) = ß ( x ) - ß ' ( x ) 가 확인 될 수 있 고 , 이 에 의해 이러 한 수차 를 적어도 부분 적 으로 제거 할 수 있 다 . 그 후 , 가변 이미 징 시스템 의 이미 징 요소 의 국부 적 인 격자 주기 는 g ( x ) = λ / tan Δβ ( x ) 로 결정 되 고 , 여기 서 λ 는 광 의 사용 된 파장 이 다 . 따라서 , 이미 징 요소 의 격자 주기 는 조명 장치 의 중간 이미지 평면 으로부터 가상 관찰자 윈도우 까지 의 이미 징 배율 을 고려 하 여 , 각각 의 개별 광 빔 의 위치 및 바람직 한 입사 각도 가 가상 관찰자 윈도우 에서 그 자체 로 대응 하 는 방식 으로 변경 될 수 있 거나 또는 조정 될 수 있 다 .