그런 다음 , 전술 한 제 1 가스 ( G 1 ) 의 분사 공정 을 지속 적 으로 수행 하 면서 , 소정 주기 마다 제 1 내지 제 4 가스 분사 모듈 ( 130 a , 130 b , 130 c , 130 d ) 각각 의 제 2 가스 분사 공간 ( S 2 ) 에 제 2 가스 ( G 2 ) 를 공급 함 과 아울러 제 1 내지 제 4 가스 분사 모듈 ( 130 a , 130 b , 130 c , 130 d ) 각각 의 제 2 가스 분사 플레이트 ( 134 ) 에 플 라즈 마 전원 을 공급 하 여 각 제 2 가스 분사 공간 ( S 2 ) 에 플 라즈 마 를 형성 해 활성 화 된 제 2 가스 ( PG 2 ) 를 각 분 할 공간 ( DS 1 , DS 2 , DS 3 , DS 4 ) 각각 의 타 측 영역 에 소정 주기 마다 하향 분사 한다 .