도 4 d 를 참조 하 면 , 상향 프레임 - 형 지지 표면 ( 33 ) 은 상향 상부 수평 표면 ( 310 으로부터 베이스 ( 30 ) 의 주변 까지 교차로 점차 적 으로 처짐 및 상승 하 며 ( 즉 , 지그재그 로 ) 연장 하 여 , 하향 프레임 - 형 지지 표면 ( 132 ) 및 상향 프레임 - 형 지지 표면 ( 33 ) 의 적어도 일부 는 상향 수평 표면 ( 31 ) 과 동일 한 레벨 에 있 지 않 거나 평행 하 지 않 다 . 하향 프레임 - 형 지지 표면 ( 132 ) 은 상향 프레임 - 형 지지 표면 ( 33 ) 과 접촉 및 결합 하 고 , 하향 프레임 - 형 지지 표면 ( 132 ) 의 외부 모서리 까지 내부 측면 ( 1310 의 하부 모서리 및 상향 상부 수평 표면 ( 31 ) 의 결합 부 로부터 지그재그 로 연장 하 여 , 플랜지 ( 13 ) 가 상이 한 거리 로 하부 표면 ( 12 ) 으로부터 아래쪽 으로 연장 한다 . 따라서 , 입자 들 이 하향 및 상향 프레임 - 형 지지 표면 ( 132 , 33 ) 의 외부 모서리 ( 베이스 ( 30 ) 의 주변 ) 를 통하 여 기판 ( 20 ) 을 보유 하 는 공동 으로 침입 하 는 것 을 효과 적 으로 방지 하 기 위해 , 하향 및 상향 프레임 - 형 지지 표면 ( 132 , 33 ) 이 상향 상부 수평 표면 ( 31 ) 으로부터 베이스 ( 30 ) 의 주변 으로 향하 는 경로 는 도 3 , 도 4 a , 도 4 b 보다 도 4 d 에서 더 길 다 .