계속 , 도 4 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 제 1 포토레지스트 패턴 ( 19 ) 을 제거 한 후 , 베이스 영역 ( 20 ) 이 형성 된 결과물 상 에 포토레지스트 막 을 도포 한 후 사진 공정 을 수행 하 여 , 제 2 포토레지스트 패턴 ( 23 ) 을 형성 한다 . 상기 제 2 포토레지스트 패턴 ( 23 ) 은 에 미터 영역 을 정의 하 기 위해 형성 한다 .