도 3 및 도 10 을 참조 하 면 , 식각 모듈 은 패 터닝 된 포토레지스트 ( PR ) 를 식각 마스크 로 사용 하 여 흡수 패턴 ( 6 ) 을 형성 한다 ( S 194 ) . 포토레지스트 ( PR ) 은 제거 될 수 있 다 . 레티 클 ( R ) 의 제조 공정 은 완료 되 고 , 레티 클 ( R ) 은 노광 장치 ( 20 ) 내 에 제공 될 수 있 다 .