이러 한 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 는 하나 의 필드 를 한꺼번에 노광 하 는 풀 - 필드 샷 ( Full - field shot ) 으로 웨이퍼 상 에 캐 패 시터 패턴 을 형성 한다 . 이러 한 풀 - 필드 샷 으로 웨이퍼 상 에 캐 패 시터 패턴 을 형성 할 때 , 웨이퍼 중심 에 는 캐 패 시터 패턴 이 잘 형성 되 나 , 웨이퍼 의 외각 에 형성 된 캐 패 시터 패턴 은 쓰러짐 과 뽑힘 과 같 은 현상 이 발생 한다 . 웨이퍼 외각 에 형성 된 캐 패 시터 패턴 의 쓰러짐 과 뽑힘 을 방지 하 기 위하 여 넷 - 다이 ( Net die ) 가 아닌 영역 에 는 캐 패 시터 패턴 을 형성 하 지 않 고 , 이곳 에 풀 - 필드 샷 대신 다 이 샷 ( Die shot ) 을 적용 하 여 넷 - 다이 ( Net die ) 에 만 캐 패 시터 패턴 을 형성 하 고 있 다 . 현재 , 웨이퍼 중심 에 풀 - 필드 샷 을 적용 하 고 웨이퍼 외각 에 위치 한 넷 다이 에 는 다 이 샷 을 적용 하 도록 2 개 의 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 를 제작 하 여 사용 하 고 있 다 .