일반 적 인 이온 주입 장치 는 웨이퍼 의 표면 에 이온 주입 될 도전 성 불순물 이온 을 추출 하 는 터미널 모듈 과 , 상기 터미널 모듈 에서 추출 된 상기 도전 성 불순물 이온 을 소정 의 에너지 로 가속 시키 는 가속기 와 , 상기 가속기 에서 가속 된 상기 도전 성 불순물 이온 을 상기 웨이퍼 의 표면 에 이온 주입 시키 는 엔드 스테이션 모듈 을 포함 하 여 이루어진다 . 여기 서 , 상기 터미널 모듈 은 상기 도전 성 불순물 이온 을 생성 하 는 이온 소스 와 , 상기 소스 에서 생성 된 도전 성 불순물 을 원심 분리 시키 는 질량 분석기 를 포함 하 여 이루어진다 . 이때 , 상기 이온 소스 와 질량 분석기 는 고진공 의 분위기 에서 순도 가 높 은 도전 성 불순물 이온 을 추출 할 수 있 다 . 또한 , 상기 엔드 스테이션 모듈 은 상기 가속기 에서 가속 된 상기 도전 성 불순물 이온 을 상기 웨이퍼 의 표면 에 스캐닝 하 는 스캐너 를 포함 하 여 이루어진다 . 이때 , 상기 스캐너 에서 스캐닝 되 는 웨이퍼 가 대기 중 에 노출 될 경우 상기 도전 성 불순물 이온 이 대기 중 의 공기 또는 파티클 에 충돌 되 어 상기 웨이퍼 의 표면 으로부터 희망 한 깊이 까지 이온 주입 될 수 없 다 . 따라서 , 상기 엔드 스테이션 모듈 은 상기 도전 성 불순물 이온 이 상기 웨이퍼 의 표면 으로 이온 주입 될 수 있 도록 하 기 위해 외부 로부터 독립 된 공간 을 제공 한다 . 예컨대 , 상기 엔드 스테이션 모듈 은 상기 가속기 에서 가속 된 상기 도전 성 불순물 이온 을 상기 웨이퍼 에 이온 주입 하 기 위해 고진공 상태 의 밀폐 된 공간 을 제공 하 는 공정 챔버 와 , 상기 공정 챔버 에 상기 웨이퍼 를 이동 시키 기 위한 트랜스퍼 챔버 와 , 상기 트랜스퍼 챔버 를 통해 상기 공정 챔버 내부 에 이동 되 는 다 수개 의 상기 웨이퍼 가 탑재 된 카세트 가 로딩 되 는 로드 락 챔버 를 포함 하 여 이루어진다 . 또한 , 상기 로드 락 챔버 , 트랜스퍼 챔버 또는 공정 챔버 간 에 웨이퍼 를 이 동시 키는 적어도 하나 이상 의 로봇 암 을 더 포함 하 여 이루어진다 .