도 3 및 도 4 에 본 발명 의 실시 예 2 에 관련 되 는 와이어 본드 용 의 전극 패턴 의 개략 도 를 나타낸다 . 실시 예 1 에서 는 , 도 1 에 도시 된 것 과 같이 와이어 본드 인식 패턴 ( 107 ) 을 사각형 의 홈 패턴 으로 하 고 있 었 지만 , 본 실시 예 에서 는 와이어 본드 인식 패턴 을 도 3 에 나타낸 것 과 같 은 둥근 인식 패턴 형상 , 또는 도 4 에 나타낸 것 과 같 은 삼각형 모양 으로 하 였 다 . 원형 의 와이어 본드 인식 패턴 ( 307 ) 에서 는 , 이 와이어 본드 인식 패턴 ( 307 ) 을 작 게 했 을 경우 와 , 가공 정밀도 가 낮 은 에칭 법 을 사용 했 을 경우 에 에칭 늘어짐 ( etching - induce rounding ) 이 생겨도 , 형상 은 둥근 원형 인 상태 로 바뀌 지 않 아 , 인식 에러 를 방지 할 수 있 다 . 또한 삼각형 형상 의 와이어 본드 인식 패턴 ( 407 ) 의 경우 에 는 , 같 은 크기 의 사각형 형상 에 비해 직 선부 의 길이 를 길 게 할 수 있 기 때문 에 , 에칭 늘어짐 등 에 의한 패턴 붕괴 의 영향 을 적 게 할 수 있 는 효과 가 있 다 .