따라서 , 리소그래피 장치 의 작동 에서 , 방사선 빔 은 조명 시스템 ( IL ) 에 의해 조절 되 고 제공 된다 . 방사선 빔 ( B ) 은 지지 구 조체 ( 예 를 들 어 , 마스크 테이블 ) ( MT ) 상 에서 유지 되 는 패 터닝 디바이스 ( 예 를 들 어 , 마스크 ) ( MA ) 상 에 입사 되 며 , 패 터닝 디바이스 에 의해 패 터닝 된다 . 패 터닝 디바이스 ( MA ) 를 가로지른 방사선 빔 ( B ) 은 투영 시스템 ( PS ) 을 통과 하 며 , 투영 시스템 은 빔 을 기판 ( W ) 의 타 겟 부분 ( C ) 상 으로 집속 시킨다 . 예 를 들 어 상이 한 타 겟 부분 ( C ) 들 을 방사선 빔 ( B ) 의 경로 내 에 위치 시키 기 위하 여 , 제 2 포지 셔 너 ( PW ) 및 위치 센서 ( IF ) ( 예 를 들 어 , 간섭계 디바이스 , 선형 엔 코더 , 2 - D 엔 코더 또는 정전 용량 형 센서 ) 의 도움 으로 기판 테이블 ( WT ) 은 정확 하 게 이동 될 수 있 다 . 유사 하 게 , 제 1 포지 셔 너 ( PM ) 및 ( 도 1 에 명확히 도시 되 지 않 은 ) 다른 위치 센서 는 , 예 를 들 어 마스크 라이브러리 로부터 의 기계 적 인 회수 후 에 , 또는 스캔 하 는 동안 , 방사선 빔 ( B ) 의 경로 에 대해 패 터닝 디바이스 ( MA ) 를 정확 하 게 위치 시키 기 위해 사용 될 수 있 다 . 일반 적 으로 , 지지 구 조체 ( MT ) 의 이동은 장 - 스트로크 모듈 ( long - stroke module : 개략 적 인 위치 결정 ) 및 단 - 스트로크 모듈 ( short - stroke module : 세밀 한 위치 결정 ) 의 도움 으로 실현 될 수 있 으며 , 이 모듈 들 은 제 1 포지 셔 너 ( PM ) 의 일부 를 형성 한다 . 유사 하 게 , 기판 테이블 ( WT ) 의 이동은 장 - 스트로크 모듈 및 단 - 스트로크 모듈 을 이용 하 여 실현 될 수 있 으며 , 이 모듈 들 은 제 2 포지 셔 너 ( PW ) 의 일부 를 형성 한다 . ( 스캐너 와 는 대조 적 으로 ) 스 테퍼 의 경우 , 지지 구 조체 ( MT ) 는 단 - 스트로크 액추에이터 에 만 연결 될 수 있 거나 , 고정 될 수 있 다 . 패 터닝 디바이스 ( MA ) 와 기판 ( W ) 은 패 터닝 디바이스 정렬 마크 ( M 1 , M 2 ) 와 기판 정렬 마크 ( P 1 , P 2 ) 를 이용 하 여 정렬 될 수 있 다 . 도시 된 바 와 같 은 기판 정렬 마크 들 은 전용 타 겟 부분 을 점유 하 고 있 지만 , 이 들 은 타 겟 부분 들 사이 의 공간 내 에 위치 될 수 있 다 ( 이 들 은 스 크 라 이브 - 레인 정렬 마크 ( scribe - lane alignment mark ) 로 알려져 있 다 ) . 유사 하 게 , 패 터닝 디바이스 ( MA ) 상 에 다수 의 다이 가 제공 되 는 상황 에서 , 패 터닝 디바이스 정렬 마크 는 다 이 들 사이 에 위치 될 수 있 다 .