마이크 로 리소그래피 용 투영 노광 장치 ( 1 ) 는 , 마이크 로 구조 의 또는 나노 구조 의 전자 반도체 부품 을 제조 하 는 데 쓸모 가 있 다 . 광원 ( 2 ) 은 , 예컨대 , 5 nm 와 30 nm 사이 의 파장 범위 내 의 EUV 방사 를 방출 한다 . 투영 노광 장치 ( 1 ) 에 있 어서 , 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 은 조명 및 투영 을 위해 쓸모 가 있 다 . 광원 ( 2 ) 의 하류 에서 , 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 은 초기 에 , 예컨대 , 종래 기술 의 다수 의 셸 ( shell ) 구조 를 가진 네스트 화 된 컬렉터 ( nested collector ) 일 수 있 는 컬렉터 ( 4 ) 를 관통 한다 . 컬렉터 ( 4 ) 의 하류 에서 , 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 은 초기 에 , 입자 들 또는 방사 의 원치 않 는 부분 들 을 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 로부터 의 분리 하 는 데 사용 될 수 있 는 중간 초점 면 ( intermediate focal plane ) ( 5 ) 을 관통 한다 . 중간 초점 면 ( 5 ) 을 관통 하 고 나 면 , 유용 한 방사 의 다발 ( 3 ) 은 초기 에 필드 패 싯 미러 ( 6 ) 를 타격 한다 .