일반 적 으로 포토레지스트 조성물 은 고분자 수지 , 감광성 화합물 , 및 용매 를 포함 한다 . 지금 까지 , 포토레지스트 조성물 을 이용 하 여 형성 된 포토레지스트 막 의 도포 균일 도 , 감광 속도 , 현상 콘트 라스트 , 해상도 , 기판 과 의 접착력 , 잔 막 률 , 회로 선폭 균일 도 ( CD uniformity ) 및 인체 안정 성 등 을 개선 하 고자 많 은 시도 가 행해졌 다 .