첨부 도면 도 1 은 본 발명 에 따른 자 가 조립 단층 을 이용 한 투명 전극 의 표면 개질 방법 ( 이하 , ' 표면 개질 방법 ') 에 대한 주요 공정도 이 다 . 본 발명 의 표면 개질 방법 은 , 크 게 투명 전극 표면 의 염기 화 하 는 공정 ( S 110 ) 및 투명 전극 표면 에 자 가 조립 단층 을 형성 하 는 공정 ( S 120 ) 으로 대분 된다 . 이하 에서 는 각 공정 에 대한 설명 과 그 에 따른 실험 예 를 살펴본다 .