도 3 은 석영 분말 이 세정 단계 S 3 전 에 고온 염소 화 S 6 에 의하 여 추가 적 으로 처리 될 수 있 는 , 도 1 에서 기술 된 공정 의 변형 을 도시 한다 . 이것 은 휘발 성 염화물 로서 특정 불순물 의 제거 를 가능 하 게 하 는 한편 , 고온 염소 화 공정 은 또한 석영 그레인 의 일부 발산 ( decrepitation ) 을 유발 할 수 있 고 , 일부 결합 된 희토류 마이크 로 입자 의 노출 및 심지어 방출 을 허용 할 수 있 는 것 으로 여겨진다 . 이것 에 제안 된 침출 , 세 척 및 세정 단계 가 이어질 때 , 이것 은 RE 마이크 로 입자 의 개선 된 제거 를 허용 할 수 있 다 .