착시 를 생성 시키 는 패턴 으로 임의 의 그래픽 요소 를 배열 하 는 것 과 관련 하 여 채용 되 는 임의 의 특정 이론 또는 기술 과 무관 하 게 , 기재 ( 102 ) 상 에 착시 를 생성 시키 는 데 적절 한 다양 한 착시 가 고려 된다 . 그래픽 요소 는 임의 의 도형 , 개방 형 또는 폐쇄 형 형상 , 또는 본 명세서 의 도면 에 도시 된 라인 을 포함 할 수 있 다 . 복수 의 이 들 그래픽 요소 에 의해 형성 된 패턴 은 착시 를 생성 시킨다 . 예컨대 , 가변 폭 및 / 또는 인접 한 라인 들 사이 의 가변 간격 을 갖 는 라인 이 깊이 / 높이 착시 를 생성 시키 는 선택 된 배열 , 즉 패턴 을 제공 한다 . 유사 하 게 , 계란 형 과 같 은 반복 된 폐쇄 형 도형 의 크기 및 간격 을 변경 시키 는 것 은 높이 관련 착시 를 또한 생성 시키 는 목적 하 는 배열 을 생성 시킨다 . 특정 형태 의 적절 한 착시 는 단독 으로 또는 조합 으로 기하 형 , 나선형 , 변칙 운동 , 회전 , 색상 변화 , 주변 부 드리프트 , 양성 잔상 블러 ( positive after image blur ) , 섬광성 그리드 , 입체시 ( stereopsis ) 및 색입체 시 ( chromostereopsis ) , 수축 및 팽창 , 콘트 라스트 극성 , 대류 그리고 색채 동화 ( chromatic assimilation ) 를 포함 한다 . 추가 로 , 운동 성 착시 는 개별 착시 또는 하나 의 일체 성 착시 중 어느 한쪽 으로 기재 ( 102 ) 의 외부 표면 에 대한 높이 편차 착시 를 추가 로 수행 할 수 있 다 .