이상 도 4 에서 는 대향 형 스퍼터링 시스템 의 챔버 ( 410 ) 내 에 하나 의 타 겟 부 ( 420 ) 가 위치 하 며 , 타 겟 부 ( 420 ) 는 두 개 의 단위 타 겟 부 ( 421 , 422 ) 를 포함 하 는 경우 로 도시 참조 하 여 설명 하 였으나 , 본 발명 의 일실 시예 에 적용 되 는 대향 형 스퍼터링 시스템 ( FTS ; Facing Target Sputtering ) 의 구조 는 타 겟 부 ( 420 ) 와 영구 자석 부 ( 421 a , 422 a ) 의 개수 에 한정 되 지 않 는다 .