이 실시 예 에 따르 면 , 인접 하 는 제 1 희생 패턴 들 ( 34 ) 과 제 2 희생 패턴 들 ( 64 ) 사이 의 간격 은 제 1 또는 제 2 마스크 패턴 들 ( 42 , 72 ) 의 피치 보다 작 을 수 있 다 . 그리고 , 제 1 및 제 2 희생 패턴 들 ( 34 , 64 ) 사이 의 최소 간격 은 포토 리소그래피 공정 에서 최소 피처 의 폭 보다 작 을 수 있 다 . 또한 , 제 1 희생 패턴 들 ( 34 ) 과 제 2 희생 패턴 들 ( 64 ) 사이 의 간격 은 소정 영역 들 에서 서로 다를 수 있 다 .