또한 상기 실시 형태 에서 는 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) , 계측 스테이지 ( MST ) , 얼라이먼트 계 ( AL 1 , AL 21 ∼ AL 24 ) , 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) , Z 센서 , 간섭계 시스템 ( 118 ) 및 인코더 시스템 ( 70 A ∼ 70 F ) 등 의 전부 를 구비 한 노광 장치 에 본 발명 이 적용 된 경우 에 대하 여 설명 했 지만 , 본 발명 이 이것 에 한정 되 는 것 은 아니 다 . 예 를 들 어 계측 스테이지 ( MST ) 등 이 형성 되 어 있 지 않 은 노광 장치 에 도 본 발명 은 적용 할 수 있 다 . 본 발명 은 , 상기 각 구성 부분 중 , 웨이퍼 스테이지 ( 이 동체 ) 와 이것 이외 의 일부 구성 부분 을 구비 하 고 있 으면 적용 할 수 있 다 . 즉 , 웨이퍼 ( W ) 의 노광 이 실시 되 는 노광 위치 로부터 떨어진 상기 얼라이먼트 계 ( AL 1 , AL 21 ∼ AL 24 ) 및 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 와 동일 한 위치 에 , 웨이퍼 에 대하 여 어떠 한 계측 을 실시 하 는 계측 장치 가 형성 되 어 있 는 것 이 면 본 발명 을 적용 할 수 있 다 .