상기 와 같 은 문제점 을 해결 하 기 위한 것 으로 , 본 발명 은 웨이퍼 스테이지 내 에 웨이퍼 흡착 판 , 진공 흡입관 , 진공 흡입 펌프 , 회전축 및 구동 모터 와 같 은 장치 들 을 구비 시키 고 이 멀 젼 리소그래피 공정 이 끝난 후 바로 웨이퍼 를 고속 으로 회전 시킴 으로써 웨이퍼 상 에 잔류 하 는 이 멀 젼 용매 들 을 용이 하 게 제거 하 고 , 반도체 제조 공정 의 수율 을 증가 시키 고 , 반도체 소자 의 신뢰 성 을 향상 시킬 수 있 는 리소그래피 장치 및 이 를 이용 한 반도체 제조 방법 을 제공 하 는 것 을 그 목적 으로 한다 . .