구리 나노 입자 를 퇴적 한 기판 으로서 , 도 4 의 구리 패턴 을 가지 는 폴리 이미드 기판 ( MCF - 5000 I , 히타치 카세이 고교 ( 주 ) 제 , 상품명 ) 상 에 , 용액 중 레이저 어 블레 이 션 법 으로 제작 한 구리 나노 입자 ( 시작품 , 후쿠다 금속 공업 ( 주 ) 제 ) 5 mass % 의 γ - 부티 로 락톤 분산 액 을 어 플리 케이 터 에 의해 도포 하 고 , 질소 분위기 하 100 ℃, 건조 를 3 번 반복 하 여 얻 은 구리 나노 입자 의 퇴적 막 ( 구리 계 입자 함유층 ) 을 가지 는 기판 을 이용 했 다 .