층 사이 의 오버레이 는 , 타 겟 구 조체 의 비대칭 성 관련 파라미터 의 하나 의 예 에 불과 하 다 . 다중 패턴 화 프로세스 에서 , 구조 체 는 , 하나 의 패턴 화 동작 이 아니 라 두 개 이상 의 패턴 화 단계 에서 제품 의 하나 의 층 에 형성 된다 . 따라서 , 예 를 들 면 , 구조 체의 제 1 집단 ( population ) 은 제 2 구 조체 의 집단 과 인터 리브 될 ( interleaved ) 수 도 있 고 , 집단 은 , 하나 의 단계 가 단독 으로 생성 할 수 있 는 것 보다 더 높 은 해상도 를 달성 하 기 위해 , 상이 한 단계 들 에서 형성 된다 . 물론 , 집단 의 배치 가 기판 상 의 다른 피쳐 와 관련 하 여 동일 하 고 완벽 해야 하 지만 , 모든 실제 패턴 은 소정 의 위치 오프셋 을 나타낸다 . 집단 사이 의 임의 의 의도 하 지 않 은 위치 오프셋 은 오버레이 의 형태 로서 간주 될 수 있 으며 , 다수 의 패턴 화 프로세스 에 의해 형성 되 는 타 겟 격자 또는 제품 피쳐 의 비대칭 성 에 의해 측정 될 수 있 다 . 간단 한 격자 구조 체의 경우 , 다른 타입 의 비대칭 성 , 예 를 들 면 , 측벽 비대칭 성 및 트렌치 저부 비대칭 성 ( trench bottom asymmetry ) 이 또한 측정 될 수 있 다 .