단계 122 및 128 에서 형성 된 조성물 은 상기 개시 된 대로 임의 의 적합 한 표면 에 도포 되 어 주위 조건 하 에 또는 가열 하 에 건조 되 어 단계 126 및 130 에 묘사 된 대로 표면 상 에 코팅 을 형성 할 수 있 다 . 코팅 은 예 를 들 어 나노미터 의 차수 로 단층 두께 일 수 있 다 . 일부 구체 예 에서 , 코팅 의 두께 는 약 2 - 10 nm , 약 3 - 8 nm 또는 약 4 - 6 nm 이 다 . 다른 적용 에서 , 코팅 은 약 10 nm 내지 약 1 ㎛ 의 두께 를 지닌다 . 예 를 들 어 , 코팅 은 약 10 nm 내지 약 800 nm , 약 100 nm 내지 약 600 nm , 또는 약 200 nm 내지 약 500 nm 의 두께 를 지닐 수 있 다 . 이러 한 코팅 은 연속 적 이 며 , 공유 적 으로 결합 되 고 , 가교 되 고 , 경화 된 고분자 필름 이 며 , 덩어리진 비 연속 입자 는 가시 적 으로 존재 하 지 않 는다 . 일부 구체 예 에서 , 단계 122 및 128 에서 형성 된 조성물 의 점도 는 보다 두꺼운 층 또는 예 를 들 어 미크론 또는 보다 두꺼운 차수 의 코팅 을 형성 하 도록 조정 된다 . 하나 이상 의 조성물 의 반복 된 적용 은 요망 되 는 두께 의 코팅 을 초래 할 수 있 고 동일 하 거나 상이 한 작용 성 을 갖 는 요망 되 는 수 의 층 들 을 지닌다 .