따라서 , 본 발명 의 목적 은 진공 상태 에서 의 고품질 고 효율 의 임프 린트 공정 이 가능 한 임프 린트 장치 기술 과 파티클 및 정밀 압력 제 어 그리고 반복 적 인 패턴 임프 린트 가 가능 한 폴리머 의 도포 및 몰드 분리 그리고 이 를 위한 이송 장치 가 구성 된 이송 모듈 을 중심 으로 도포 모듈 과 공정 모듈 과 분리 모듈 이 통합 된 시스템 을 구성 하 여 고품질 의 높 은 생산 성 을 지닌 임프 린트 리소그래피 장치 를 제공 하 는 데 있 다 .