비록 광학 리소그래피 의 맥락 에서 실시 형태 의 사용 에 대해 상기 에서 특정 한 언급 이 이루 어 졌 을 수 도 있 지만 , 본 발명 의 실시 형태 는 다른 애플리케이션 , 예 를 들 면 , 임프 린트 리소그래피 에서 사용 될 수 도 있 고 , 맥락 이 허용 하 는 경우 , 광학 리소그래피 로 제한 되 지 는 않 는다는 것 이 인식 될 것 이 다 . 임프 린트 리소그래피 에서 , 패턴 화 디바이스 에서 의 토포 그래피 ( topography ) 는 , 기판 상 에서 생성 되 는 패턴 을 정의 한다 . 패턴 화 디바이스 의 토포 그래피 는 , 기판 에 공급 되 는 레지스 트 의 층 으로 인쇄 될 수 도 있 는데 , 기판 상 의 레지스 트 는 , 전자기 방사선 , 열 , 압력 또는 이 들 의 조합 을 적용 하 는 것 에 의해 경화 된다 . 패턴 화 디바이스 는 , 레지스 트 가 경화 된 이후 그 안 에 패턴 을 남긴 상태 에서 레지스 트 밖 으로 이동 된다 .