일반 적 으로 포토 리소그래피 ( Photo Lithography ) 기술 만 을 사용 하 여 미세 패턴 을 패 터닝 하 려고 하 면 그 에 따른 노광 장비 의 비용 ( Cost ) 이 비싸 기 때문 에 비용 부담 이 크 다 . 이 에 나노 임프 린트 리소그래피 기술 을 사용 하 여 그 비용 을 훨씬 줄일 수 가 있 으나 , 잔류 층 ( residual layer ) 이 발생 하 게 되 어 반응 성 이온 식각 공정 으로 잔류 층 을 제거 해야 하 는 플 라즈 마식 각 공정 이 필수 불가결 하 다 .