도포 · 현상 장치 ( 2 ) 는 , 외주 배기 부 ( 40 ) 의 처리 공간 ( 34 ) 내 에 의 개구 면적 을 변경 하 는 개구 면적 변경 부 ( 50 ) 를 더 구비 하 고 , 배기 제 어부 ( 112 ) 는 , 가 열부 ( 20 ) 에 의한 웨이퍼 ( W ) 의 가열 시간 이 경과 함 에 따라 개구 면적 변경 부 ( 50 ) 에 의해 개구 면적 을 늘려 도 좋 다 . 이 경우 , 가스 의 배출 량 을 변경 하 기 위한 구성 을 간소 화 할 수 있 다 .