전형 적 으로 는 , 이트륨 금속 기판 또는 이트륨 금속 기판 의 합금 에 첨가 된 도 펀트 ( dopant ) 의 양 은 약 0 . 1 중량 % 미만 이 다 . 도 펀트 ( 미량 원소 ) 가 이트륨 금속 또는 이트륨 금속 합금 기판 에 첨가 되 는 경우 , 산화 주위 환경 에 존재 하 는 산소 의 양 은 약 5 부피 % 내지 약 25 부피 % 범위 일 수 있 다 . 특히 적합 하 게 작동 하 는 산화 주위 환경 은 약 10 부피 % 의 산소 를 함유 한다 . 도 펀트 가 이트륨 금속 또는 이트륨 금속 합금 기판 에 첨가 되 지 않 는 경우 , 산화 주위 환경 에 존재 하 는 산소 의 양 은 약 5 부피 % 내지 약 100 부피 % 범위 일 수 있 다 . 약 21 부피 % 의 산소 인 공기 가 잘 작동 한다 . 이것 은 , 주위 환경 중 의 산소 의 분압 이 낮 은 경우 , 산소 가 이트륨 금속 또는 이트륨 금속 합금 내 로 더 신속 하 게 주입 되 는 경향 이 있 지만 ; 옥사이드 형성 속도 가 느리 기 때문 이 다 . 산소 분압 이 더 높 은 경우 , 산소 는 더 느리 게 주입 되 지만 , 더 많 은 산소 가 이용 가능 하 여 , 옥사이드 형성 속도 가 더 높 다 . 도 펀트 를 첨가 함 으로써 , 및 주위 환경 중 의 더 낮 은 산소 분압 을 사용 함 으로써 , 제조 를 위한 허용 가능 한 옥사이드 형성 속도 를 여전히 지니 기 위해 옥사이드 와 기판 의 계면 에서 바람직 한 더 작 은 결정 입도 의 결정 을 얻 을 수 있 다 .