노광 된 포토레지스트 층 ( 50 ) 을 현상액 에 노출 시키 면 도 25 에 도시 한 바 와 같이 광 마스크 ( 64 ) 의 차 광부 ( 64 a , 64 b ) 에 각각 대응 하 는 두 부분 ( 54 a , 54 b ) 을 포함 하 는 마스크 패턴 ( 54 ) 이 형성 된다 . 두 부분 ( 54 a , 54 b ) 은 서로 이격 되 어 그 사이 의 도전 층 ( 150 ) 의 윗면 이 드러날 수 있 다 .