정공 주입 층 ( 111 ) 은 , 정공 주입 성 이 높 은 물질 을 포함 하 는 층 이 다 . 몰리브덴 산화물 , 바나듐 산화물 , 루테늄 산화물 , 텅스텐 산화물 , 망간 산화물 등 을 사용 할 수 있 다 . 이 밖 에 , 프탈 로 시아닌 ( H 2 Pc ) 이나 구리 프탈 로 시아닌 ( CuPC ) 등 의 프탈 로 시아닌 계 의 화합물 , 4 , 4 '- 비스 [ N -( 4 - 디페닐 아미노 페닐 ) - N - 페닐 아미노 ] 비페닐 ( DPAB ) 또는 N , N '- 비스 [ 4 -[ 비스 ( 3 - 메틸 페닐 ) 아미노 ] 페닐 ] - N , N '- 디페닐 -[ 1 , 1 '- 비페닐 ] - 4 , " 4 ""- 디아민 ( DNTPD ) 등 의 방향 족 아민 화합물 ", 또는 폴리 ( 3 , 4 - 에틸렌 디 옥시 티오펜 ) / 폴리 ( 스티렌 술폰산 ) ( PEDOT / PSS ) 등 의 고분자 물질 등 에 의해서 도 정공 주입 층 ( 111 ) 을 형성 할 수 있 다 .