도 9 를 참조 하 면 , 우선 , 기판 ( 22 ) 상 에 희생 층 ( 24 ) 을 형성 한 후 , 상기 희생 층 ( 24 ) 상 에 투명 전극 층 ( 12 ) 을 증착 하 고 , 상기 투명 전극 층 ( 12 ) 상 에 불 투명 전극 층 ( 14 ) 을 증착 하 여 형성 한다 ( S 1 ) . 제 2 실시 예의 전자 소자 제조 방법 에서 는 제 1 실시 예의 전자 소자 제조 방법 과 다르 게 희생 층 ( 24 ) 을 더 형성 하 는데 , 만일 기판 ( 22 ) 재질 이 희생 층 ( 24 ) 의 재질 과 같 다면 제 1 실시 예의 경우 와 같이 굳이 희생 층 ( 24 ) 을 형성 할 필요 가 없 다 .