이후 , 포토 레지스 트 ( 3 ) 를 현상 하 면 포토 레지스 트 ( 3 ) 에서 광이 조사 된 부분 이 제거 되 어 포토 레지스 트 ( 3 ) 상 으로 마스크 ( 4 ) 의 패턴 이 전사 된다 [ 도 1 의 ( c ) ] . 현 상시 포토 레지스 트 가 양성 이 면 광이 조사 된 부분 이 제거 되 고 , 음성 이 면 조사 되 지 않 은 부분 이 제거 된다 . 도 1 은 양성 의 포토 레지스 트 를 사용 하 는 경우 를 나타내 고 있 다 .