실시 예 1 에서 이용한 구리 나노 입자 의 퇴적 막 ( 구리 계 입자 함유층 ) 을 가지 는 기판 을 배 합표 ( 표 1 의 2 ) 에 따라서 조제 한 , 2 , 2 ＇ 비 피리 딜 과 EDTA 를 포함 하 지 않 는 도체 화 처리 액 ( 처리 액 ) 에 의해 , 실시 예 1 과 동일 하 게 처리 를 행했 다 . 그 결과 , 동심원 상 의 구리 패턴 의 갭 이 1 mm , 2 mm 및 5 mm 에 있 어서 , 각각 25 Ω , 28 Ω 및 238 Ω 으로 높 은 도전 성 을 나타냈 다 .