수용액 전해질 ( 1 M KH 2 PO 4 + 0 . 15 M NH 4 F + 0 . 2 M C 6 H 8 O 7 · H 2 O ) 을 전해질 용액 으로 하 여 공정 조건 을 다음 과 같이 설정 하 였 다 . 상기 수용액 전해질 의 용량 은 800 ㎖, 인가전압 은 24 V , 전해질 용액 의 온도 는 25 ℃, 양극 소재 는 Ti , 아노 다 이징 처리 시간 은 100 분 으로 하 였 다 . 그 결과 , 직경 85 ∼ 150 nm , 두께 약 1 μ m 의 기공 을 얻 을 수 있 었 다 . 나노 기공 의 크기 는 인가 전압 에 비례 하 는데 , 극소량 물질 의 질량 을 측정 하 기 에 적절 한 크기 의 나노 기공 ( 직경 10 ∼ 300 nm ) 을 얻 기 위해서 는 인가 전압 을 10 ∼ 30 V 로 하 는 것 이 바람직 하 다 . 만 일 인가 전압 이 10 V 보다 낮 을 경우 에 는 Ti → TiO 2 의 산화 과정 이 이루어지 지 않 아서 TiO 2 나노 기공 이 형성 되 지 않 는다 . 또 , 인가 전압 이 30 V 보다 높 을 경우 에 는 아 노다 이징 공정 에서 고전압 으로 인한 절연 파괴 ( dielectric breakdown ) 현상 이 일어나 마이크 로 크레이터 ( microcrater ) 가 생성 되 거나 막 의 박리 가 발생 한다 . 나노 기공 의 두께 는 아 노다 이징 처리 시간 에 비례 하 여 증가 하 다가 평형 상태 가 되 고 , 인가 전압 이 높 을수록 처리 시간 이 단축 된다 . 도 3 은 아 노다 이징 처리 이전 의 티타늄 금속 분리 막 에 대한 전자 현미경 사진 으로서 , 구형 의 티타늄 금속 분말 입자 사이 에 많 은 수 의 마이크 로 기공 을 확인 할 수 있 고 , 티타늄 금속 분말 입자 는 매끈 한 표면 을 보이 고 있 다 . 도 4 는 상기 시험 예의 공정 조 건 에 따라 아 노다 이징 처리 를 실시 한 티타늄 금속 분리 막 표면 의 전자 현미경 사진 으로서 , 티타늄 금속 입자 의 표면 에 나노 기공 이 잘 형성 되 어 있 음 을 알 수 있 다 .