본 발명 의 바람직 한 실시 예 에 따르 면 , 반도체 제조 공정 에서 사용 되 는 반도체 제조 설비 인 칠러 장치 에 - 60 ℃ 내지 0 ℃ 정도 의 저온 및 50 ℃ 내지 150 ℃ 정도 의 액상 잠 열재 를 에너지 공급 형 열 원 기기 로서 구성 하 여 축 냉 / 축 열 에너지 를 저장 및 변환 하 여 이용 함 으로써 에너지 이용 효율 을 극대 화 시킬 수 있 는 효과 가 있 다 .