이러 한 리플 로우 처리 를 FPD ( 플랫 패널 디스플레이 ) 의 박막 트랜지스터 ( TFT ) 의 제조 에 적용 하 려고 하 는 경우 , FPD 용 의 유리 기판 이 점점 대형 화 하 고 있 어 , 리플 로우 장치 도 대형 화 , 복잡화 의 경향 에 있 어 , 코스트 가 비싸 다고 하 는 문제 가 있 다 . 또 , 가스 토출구 와 기판 과 의 사이 가 1 Omm 이상 떨어져 있 어 시너 토출구 로부터 시너 가 기판 에 도달 하 기 까지 시너 농도 가 저하 해 , 높 은 반응 속도 를 얻 는 것 이 곤란 하 다 .