이 때 , RF 전원 ( 900 ) 이 백 플레이트 ( 200 ) 및 샤워 헤드 ( 400 ) 와 연결 되 어 , 분사 된 공정 가스 를 여기 시키 는데 필요 한 에너지 를 공급 함 으로써 , 샤워 헤드 ( 400 ) 를 통해 분사 된 공정 가스 를 플 라즈 마 화 시키 게 된다 . 즉 , 백 플레이트 ( 200 ) 및 샤워 헤드 ( 400 ) 는 상부 전극 으로서 의 기능 을 수행 할 수 있 게 된다 .