일반 적 으로 , 본 발명 에 따른 방법 은 반응 챔버 를 한정 하 는 벽 들 이 마련 된 에피 택 셜 반응기 의 ( 열 벽 ) 반응 챔버 에 관련 된 것 이 며 , 적어도 하나 또는 단일 의 제 1 챔버 벽 이 제 2 챔버 벽 보다 덜 가열 된다 . 도시 된 실시 예 들 에 있 어서 , 차가운 벽 이 상부 벽 ( 2 ) 이 고 , 반면 에 뜨거운 벽 은 하부 벽 ( 3 ) 이 다 . 측벽 ( 4 , 5 ) 들 의 효과 는 특별히 의미 가 있 지 는 않 다 .